【課題】
充填したＡｒガスの漏れ量を精度良くモニターして、基板温度異常を防ぐことができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】
本発明による真空処理装置は、真空チャンバー内に、一対の電極を備え、上面に基板を吸着する静電チャックを配置し、静電チャックの表面にシール部材を設け、少なくとも一つの熱媒体導入系を介して基板と静電チャックとの間に熱媒体を導入し、基板と静電チャックとの間に導入される熱媒体の圧力を圧力監視手段で監視し、熱媒体導入系を介して基板と静電チャックとの間に導入される熱媒体の圧力が予め設定されている所定圧力になるように圧力監視手段を制御する制御手段を設け、そしてシール部と基板との間から真空チャンバーへの熱媒体の漏洩を検知する検知手段を設けている。 （もっと読む）

【課題】光学的品質の薄膜を製造することに関し、特に非線形光学デバイス及び有機発光デバイスで利用されるそのような薄膜の低圧製造を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を減圧下で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、膜質の向上を図りつつ、長時間にわたり連続して成膜作業を行うことを可能とする成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置１は、真空容器１０内でプラズマビームＰにより成膜材料Ｍａを蒸発させ、被処理物としての基板１１に付着させて膜を生成する成膜装置であって、成膜材料Ｍａを保持すると共に、プラズマビームＰを誘導する主陽極３と、主陽極３を囲むように配置されると共に、主陽極３によるプラズマビームＰの誘導を補助する環状の補助陽極４と、補助陽極４の位置を調整する位置調整装置６と、を備え、真空容器１０は、真空容器１０の内外を連通させる貫通孔１０ｆ〜１０ｊを有しており、位置調整装置６は、貫通孔１０ｆ〜１０ｊを通じて、真空容器１０の外側から補助陽極４の位置を調整するための調整部７０と、貫通孔のシール性を維持するベローズ８０とを有する。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法により従来よりもバリア性が高い無機層を成膜すること。
【解決手段】無機層を成膜する面の面積がａ（単位：ｃｍ²）である支持体を、容積が１００ａ（単位：ｃｍ³）以下である第１真空槽へ搬入して真空状態とし、真空状態を維持したまま支持体を第２真空槽へ搬送して、第２真空槽内にて支持体上に無機層を真空成膜する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で蒸着材料の蒸気流密度分布を把握し、蒸着レート及び薄膜の膜厚制御が可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム５の照射により蒸発源１に設けられた蒸着材料３を蒸発させ、天井側に配置されたワーク７の表面に蒸着材料３を堆積させて薄膜を形成する薄膜形成装置において、自己に堆積した蒸着材料３の膜厚を測定する複数の膜厚センサ８，９と、複数の膜厚センサ８，９により測定された複数の膜厚に基づきワーク７の表面に形成された薄膜の膜厚を算出する算出部１０と、算出部１０により算出された薄膜の膜厚に応じて電子ビーム５の出力を制御する電子ビーム電源１１とを備え、少なくとも２つの膜厚センサは、蒸発源１における蒸着材料３を収納する部分の中心点から蒸発面に対して垂直上方方向と、中心点から自己の膜厚センサに至る方向とがなす角度について、互いに異なる角度に設けられている。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が良く、膜質が優れた膜を基板に形成することができ、しかも成膜材料の無駄を抑制できる真空蒸着装置および真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着方法は、真空容器内で複数の蒸発源を用いて蒸着により基板の表面に膜を形成するものである。蒸発源は上方に開口部を有し、内部に成膜材料が収納される加熱容器、この底部から所定の高さの位置の温度を測定する温度センサ、加熱容器を加熱する加熱部を備え、成膜材料を蒸発させるものである。基板に膜を形成するに際して、各蒸発源について、所定の温度に達した後からの温度センサにより測定された温度の平均値を求め、温度センサによる温度の測定値が、平均値に所定の温度差値を足した値以上になったとき、温度が達した蒸発源における成膜材料の蒸発を停止させる。 （もっと読む）

【課題】基板上に所望のサイズのクラスター粒子を所望の堆積量分布に従って形成する。
【解決手段】所定サイズのクラスター粒子からなるイオンビームを出射することが可能なイオンビーム出射手段（２）と、イオンビーム出射手段（２）から出射されたイオンビーム（１４）の照射方向を可変する照射方向可変手段（４）と、イオンビームの照射方向に配置された基板（８）と、イオンビーム（１４）の基板（８）上での強度分布を推定するためのイオンビーム強度分布推定手段（２０）と、基板上に所望の堆積量分布を有するクラスター粒子を形成するために、イオンビーム強度分布推定手段（２０）によって推定された強度分布に基づいて、イオンビーム出射手段（２）および照射方向可変手段（４）を制御する制御装置（１２）と、を備える、クラスター粒子堆積装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において、正確な蒸着レートを安定的に計測して、この蒸着レートに基づいて高精度な蒸着膜を形成する。
【課題手段】真空蒸着装置は真空チャンバ１内に蒸着材料２を収容する蒸発源３と被蒸着体４とが、蒸発源３と被蒸着体４との間には蒸着材料２が気化される温度に加熱された筒状体５が配置される。また、真空蒸着装置は蒸着膜厚を計測する膜厚計測部６と、筒状体５と膜厚計測部６との間を接続する誘導路７とを備え、誘導路７は屈曲部７１を備えると共に蒸着材料２が気化される温度に加熱される。この構成によれば、蒸着材料２が誘導路７内に堆積せず、膜厚計測部６は筒状体５からの輻射熱を受け難くなり、突沸が生じても塊状の蒸着材料２が膜厚計測部６に付着しない。そのため、真空蒸着装置は正確な蒸着レートを安定的に計測でき、これに基づいて高精度な蒸着膜を形成することができる。 （もっと読む）

本発明のストリップコーティングシステム１は、第１のプーリ２に巻回された柔軟性のある、金属又はアルミの基板３を備えるプーリ２を含む。更に、本ストリップコーティングシステム１は、コーティングされた基板３を巻き取る第２のプーリ４（巻き取りプーリ）を有する。本ストリップコーティングシステム１において行われるコーティングプロセスは、連続的なコーティングプロセスである。このコーティングプロセスの間、第１のプーリ２及び第２のプーリ４は回動し、基板３の表面３’上にコーティングパーティクル６を堆積するためのコーティング装置５を、基板３が連続的に通過するように、基板３を動かす。速度ｖによりコーティング部を通過した後、表面３’の上にコーティングフィルムを載せた基板３は、コーティングフィルム７の層の厚さを計測するためのＩＲ分光計測装置８を通過する。矢印９はＩＲ分光計測装置８とコーティング装置５との間のフィードバック制御を示している。フィードバック制御９は計測装置８により検出されたコーティングフィルム７の厚さの計測値に応じて、コーティング装置５の、１つ、又は、複数のプロセスパラメータを制御する。このようにして、コーティングフィルム７の厚さを、インシチュにより、オンラインで測定し得る。
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【課題】簡単な構成で、蒸着膜厚を長時間にわたって高精度に制御することができる仕組みを提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ素子の製造装置は、有機ＥＬ素子の素子基板に有機材料からなる蒸着材料を蒸着させるとともに、素子基板に蒸着される蒸着材料の膜厚を監視する膜厚監視部２３を備える。膜厚監視部２３は、光透過性を有する測定用板２６と、この膜厚監視部２３の一部に蒸着材料を付着させるための蒸着窓３０を有する防着板２７と、測定用板２６を回転移動可能に支持する駆動機構２８と、蒸着窓３０を通して測定用板２６に付着した蒸着膜厚を光学的に測定する反射率測定器２９とを有する。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバーに設けられている圧力計を交換する際に、真空チャンバー内やロードロック室等を大気開放することなく交換できるロードロック室を有する真空チャンバー装置を提供することである。
【解決手段】ロードロック室と圧力計がそれぞれ配管により連接されているチャンバーと、ロードロック用ポンプと、高真空ポンプと、荒引きポンプと、を備えたロードロック室を有する真空チャンバー装置であって、前記配管により連接されている圧力計とチャンバー間に第一の開閉バルブを備え、第一の開閉バルブと圧力計の間に、その間の配管内を大気圧にする第二の開閉バルブを備え、さらに、第一の開閉バルブと圧力計の間に、第三の開閉バルブを介して配管内を減圧する配管用荒引きポンプを具備していることを特徴とするロードロック室を有する真空チャンバー装置である。 （もっと読む）

【課題】均一な金属薄膜が形成されるようにソース容器内のソース量を常にほぼ一定に維持することができるソース量制御が可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、チャンバー１００と、チャンバー１００内の上部に設けられる基板１３０と、基板１３０の直下に設けられ、内部にソース１１１が満たされるソース容器１１０と、ソース容器１１０の下面に取付けられた質量測定機１２０と、質量測定機１２０に接続されてソース容器１１０の質量の情報を受信する制御部１４０と、制御部１４０に接続され、ソース容器１１０の質量の情報に応じて制御部１４０で生成されたソース供給信号が伝達され、ソース容器１１０内にソース１１１を供給するソース供給機１５０とを含んでいる。 （もっと読む）

マグネトロン（７２）をターゲット（３８）の裏面の近傍で、半径方向成分を有する複雑な選択経路（１５０）で走査する場合、ターゲットエロージョン分布は、選択される複数の経路によって変わる形状を有する。所定のマグネトロンに対応する半径方向エロージョン速度分布（１６０）を測定する。走査中、定期的に、エロージョン分布（１６８）を、測定エロージョン速度分布（１６０）及び当該測定エロージョン速度分布から得られる分布（１６２，１６４，１６６）、マグネトロンが異なる半径方向位置で消費した時間、及びターゲット電力に基づいて計算する。計算エロージョン分布を使用することにより、エロージョン量がいずれかの位置で過剰になった時点を通知してターゲット交換を催促することができ、またターゲット上方のマグネトロンの高さを繰り返し走査に対応して調整することができる。本発明の別の態様によれば、マグネトロンの高さを、走査中に動的に調整する（２０６）ことによりエロージョン特性を補正する。当該補正は、計算エロージョン分布に基づいて行なうことができ、または定電力ターゲット電源（１１０）のターゲット電圧（１２４）の現在値をフィードバック制御することにより行なうことができる。
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【課題】高周波プラズマ発生セルから放出されるＨＢ（High brightness）放電プラズマフラックスに含まれる電気的に中性な励起原子、基底原子および励起分子を含む活性種量を、電流をもって直接的に検出し、該検出電流値に基づき活性種フラックス量を算定する、高精度でかつ製造コストの安価な原子フラックス測定装置を提供すること。
【解決手段】 直流電源により予め定めた負電位にバイアスされた原子プローブ電極の前方に配置した荷電粒子排除器により高周波プラズマ発生セルから放出されるＨＢ放電プラズマに含まれる活性種フラックスに含まれる荷電粒子を排除して上記原子プローブ電極に活性種フラックスを導入し、該原子プローブ電極における上記活性種の電離に応じて上記第１電流検出器により検出される電流値に基づき演算手段によりＨＢ放電プラズマに含まれる活性種フラックスに含まれる原子フラックス量を算定する。 （もっと読む）

【課題】ホスト材料とドーパントとからなる膜層のドーパントの混合比率を、コストを抑制しつつ測定する。
【解決手段】第１の基板１１を、周縁部を除いて開放した状態で基準面２５上を第１の方向線５１に沿って搬送する第１の搬送手段３１と、第１の搬送手段３１と隣り合う搬送手段であって、第２の基板１２を周縁部を除いて開放した状態で基準面２５上を第１の方向線５１に沿って搬送する第２の搬送手段３２と、基準面２５上において第１の方向線５１と直行する第２の方向線５２を中心とする所定の幅を有する帯状の領域４０と第１の基板１１とが重なり得る第１の領域４１及び帯状の領域４０と第２の基板１２とが重なり得る第２の領域４２、の双方の領域に第２の蒸着材料を同時に飛翔させることが可能な第２の蒸着源６２と、第１の蒸着材料を第１の領域４１にのみ飛翔させることが可能な第１の蒸着源６１と、を備えることを特徴とする蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】蒸着源が固定されて駆動軸により上下に移動される棚が、カウンターウェイトが装着された滑車と締結することによって、蒸着源及び棚の全体の重さが顕著に低減し、自重が減少した棚を往復移動させるための駆動装置の駆動力も小容量化になることができるとともに、カウンターウェイトによって軽減された棚の重さが望ましくは“０（ｚｅｒｏ）”になるようにして棚の正確な位置移動が可能になり、落下をあらかじめ除去できるようになった蒸着源用移動装置を提供する。
【解決手段】蒸着機が搭載／固定された棚と、この棚が選択的に垂直往復移動されることができるように連動設置された駆動軸と、棚が一端部と締結されて、カウンターウェイトが他端部に装着された重さの軽減部材と、が具備されてなされることを特徴とする蒸着源用移動装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】波長毎に凹面回折格子２１２の調節をする必要が無く、半導体ウエハＷの異なる層を処理するときに生じる光を、各層の物理的及び／又は化学的特性を分析するのに必要な分解能で分光することができる。
【解決手段】導入スリット２１１と、凹面回折格子２１２と、光検出部と、を備え、前記光検出部の受光面２１３ａが、前記凹面回折格子２１２により定まる仕様位置Ｐとは異なり、前記半導体ウエハＷの２以上の異なる処理の際に生じる光それぞれに対して、当該各処理の物理的及び／又は化学的特性を得るのに必要な分解能を有する位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なたＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＢを含み、Ｃｅ含有量がＢ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＢ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＢの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時の蒸発速度、成膜速度が高く、導電性および透明性に優れ、さらには耐湿性に優れた緻密なＺｎＯ膜を形成するＺｎＯ蒸着材とその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜に用いられるＺｎＯ蒸着材であって、ＣｅおよびＳｃを含み、Ｃｅ含有量がＳｃ含有量より多く、Ｃｅ含有量が０.１〜１４.９質量％の範囲内およびＳｃ含有量が０.１〜１０質量％の範囲内であるＺｎＯ多孔質焼結体を主体とし、該焼結体が３〜５０％の気孔率を有することを特徴とし、好ましくは、ＣｅとＳｃの合計含有量が０.２〜１５質量％、平均気孔径０.１〜５００μｍ、平均結晶粒径１〜５００μｍのＺｎＯ蒸着材であるＺｎＯ多孔質焼結体とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの発散角やビームの傾きが変化しても、イオン注入量を高精度で制御するイオン注入装置、イオン注入方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】イオン源部と、加減速部と、イオンビーム遮断部と、イオンビームの発散角とビームの傾きの少なくともいずれかを測定する測定部と、基板を保持する基板保持部と、制御部と、を備え、制御部は、測定部により測定された発散角とビームの傾きの少なくともいずれかの測定値に基づいて、基板へのイオン注入量が所定の範囲内に管理されるように、イオン注入の処理条件を補正して、イオン源部、加減速部、イオンビーム遮断部及び基板保持部のうちの少なくとも１つの動作を制御することを特徴とするイオン注入装置、イオン注入方法、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）