【課題】単繊維の糸を使用した微細なピッチを有する平行線型マスクにおいて、ストライプの幅、すなわち、単繊維糸の平行ピッチのバラツキが極めて少なく平行ピッチが高精度に保持された平行線型マスクを提供する。
【解決手段】開口部２を有する平板状基体１と、平板状基体の非開口部に形成された樹脂層３と、樹脂層に固定された単繊維５と、を備え、樹脂層は、所定のピッチで設けられ、単繊維がはまり込む溝部４を有し、単繊維は、前記溝部に接着されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子デバイス製造装置の占有スペースの増大や基板を流動させる際のロスタイム
を発生させることなく、蒸着マスクをクリーニングすることのできる電子デバイス製造装
置および電子デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】電子デバイス製造装置１０では、有機膜蒸着室６６Ｒ、６６Ｇ、６６Ｂでの
マスク蒸着に用いた蒸着マスクについては、蒸着マスク返却路７５を介して、最下流側の
有機膜蒸着室６６Ｂから最上流側の有機膜蒸着室６６Ｒに戻す。蒸着マスク返却路７５に
はプラズマ処理装置が設けられており、蒸着マスク返却路７５において蒸着マスク４０に
プラズマを照射することにより、蒸着マスク４０に付着した有機物を除去する。 （もっと読む）

本発明は、反応空間を提供するチャンバーと、前記チャンバー内に互いに離間して設けられる第１及び第２の基板ホルダーと、前記第１及び第２の基板ホルダーの間に配設され、前記第１及び第２の基板ホルダーの方向に順次に蒸着原料を供給する蒸着源と、を備える薄膜蒸着装置と、該薄膜蒸着装置に好適に用いられる薄膜蒸着方法と、これを備えた薄膜蒸着システムを提供する。
本発明によれば、それぞれの工程チャンバー内に設けられた一つの蒸着源を通じて、それぞれの工程チャンバー内に設けられた複数の工程ラインに対して順次に薄膜工程を行うことができるので、費用節減及び生産性の向上を両立させることができる。 （もっと読む）

【課題】ガラスを支持基板として個別マスクを複数配置することで、成膜用マスクを大面積化することが可能となるが、蒸着工程後に成膜用マスクと被成膜基板とを離す際に、個別マスクと被成膜基板との間で剥離帯電が起きるため、個別マスクと被成膜基板との間で放電が発生し、被成膜基板中に備えられているＴＦＴや、有機ＥＬ装置の発光部が破壊され、被成膜基板の特性が劣化するという課題がある。
【解決手段】成膜用マスク１００は、個別マスク１０１、支持基板１０２、フレーム１０３、導電性領域１０４、導電性接着剤部１０５を備えている。剥離帯電による静電気により個別マスク１０１に蓄積された電荷は、導電性接着剤部１０５、導電性領域１０４、フレーム１０３を介して接地され、被成膜基板の破損が防止される。 （もっと読む）

【課題】固体表面の改質方法及び表面改質された基材を提供する。
【解決手段】基材の表面に、環状、枝状、又は直鎖構造からなる有機分子を共有結合を介して被覆し、分子膜を形成し、それにより、液体と固体表面の相互作用を著しく抑制して、前進接触角（θ_Ａ）と後退接触角（θ_Ｒ）の差（θ_Ａ−θ_Ｒ、ヒステリシス）を小さくすることで、液滴の滑落・滑水性、耐水性、固体表面からの液滴の除去性を向上させて耐食性あるいは防食性にして、ヒステリシスが５°以下の撥水性、超撥水性を示す表面に改質する、固体表面の改質方法、及びその表面改質された基材。
【効果】固体表面を極めて小さいヒステリシスを有する表面に改質することを可能とする固体表面の改質方法、及び動的接触角の差が極めて小さいため、塩水が表面に残存しにくい、優れた耐食性を示す基材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】混合層を被成膜基板上に均一な濃度になるように成膜することを課題とする。
【解決手段】第１の基板の第１の面上に、光吸収層と、昇華温度の異なる２種類以上のホスト及びゲスト材料を含む材料層と、前記材料層より昇華温度の高い材料のキャップ層を形成し、第２の基板の第１の面を、前記第１の基板の第１の面と対向させ、前記第１の基板の第１の面と反対の面である第２の面から光を照射し、前記材料層を昇華させることにより、前記第２の基板の第１の面上に、前記２種類以上のホスト及びゲスト材料が混合された混合層を成膜する成膜用基板、成膜方法、及び、前記成膜方法を利用した発光装置の作製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、高い洗浄度を得ることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク１に付着した蒸着物質を除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、有機ＥＬ用マスク１の一部または全部の領域に対してレーザ光Ｌを走査させるレーザユニット１３と、レーザ光Ｌの走査部位に向けて斜め方向から吸引を行う吸引ノズル４１と、レーザ光Ｌの走査部位を挟んで吸引ノズル４１の反対側からレーザ光Ｌの走査部位に向けて斜め方向から送風を行う送風ノズル４２と、を備えている。また、吸引ノズル４１と送風ノズル４２とをレーザ光Ｌの走査部位に追従して移動させるノズル移動部１５を備えている。 （もっと読む）

【課題】従来技術に比べ材料使用効率が高く、また、多数の基板に対して連続して成膜することができ、スループットの高い製造装置を提供することを課題とする。
【解決手段】予備加熱された有機材料を供給管を通して成膜室に導入し、さらに供給管の先端に設けられたノズルから加熱された容器に導入し、容器の加熱温度によって有機材料が蒸発し、容器と重なる位置に配置された基板に成膜が行われる成膜装置とする。有機材料を予備加熱することによって、基板への蒸着が開始できるまでに要する時間を短縮することができる。 （もっと読む）

第一のデバイスが提供される。そのデバイスはプリントヘッドを含む。更に、プリントヘッドは、第一のガス源に気密的に密閉された第一のノズルを含む。第一のノズルは、その第一のノズルの流れ方向に垂直な方向において０．５から５００マイクロメートルの最小寸法を有するアパーチャを有する。第一のノズルのアパーチャの最小寸法の５倍であるアパーチャから第一のノズル内への距離における流れ方向に垂直な最小寸法は、第一のノズルのアパーチャの最小寸法の少なくとも二倍である。
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【課題】反応容器内で第１及び第２の原料ガスを反応させ、基板表面に薄膜を成膜する場合において、第１及び第２の原料ガスを、インジェクタの近傍で均一に混合してから基板に到達させることができ、成膜する薄膜の膜質、膜厚を基板間及び面内で均一に揃えることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】反応容器内に第１及び第２の原料ガスを吐出する第１及び第２のインジェクタ１１、１２を備え、第１及び第２のインジェクタ１１、１２は、第１及び第２の原料ガスを基板に向けて吐出する複数の第１の吐出口Ｎ１、Ｎ２が設けられ、第１の吐出口Ｎ１から吐出された第１の原料ガスの流路ＦＬ１が、対応する第２の吐出口Ｎ２から吐出された第２の原料ガスの流路ＦＬ２と略同一であり、第１の原料ガスは、第１の吐出口Ｎ１から吐出された後、基板に到達する前に、第２の原料ガスと混合されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板マスク固定手段含めアライメント周りの機構を簡単化、あるいは簡素化することで保守性を向上できる、または、マスクの変形を回避し、高精度に蒸着できる成膜装置及び成膜方法、あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い成膜装置を提供する。
【解決手段】基板６を基板ホルダー９１に載置し、前記基板とシャドウマスク８１とをアライメントし、前記基板とシャドウマスクとを、前記基板ホルダーとは独立して設けられた磁石によって吸着固定させて、真空チャンバ内で蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記吸着固定を基板とシャドウマスクを立てた状態で行なう、あるいは、前記磁石は電磁石であり、前記電磁石を保持する基板マスク吸着体と、前記マスク吸着体を収納する収納ケースを有する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気バリア性に優れた、透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムからなり、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以上となる基材層１の上に、重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を含むアンカー層２と、ＳｉＯｘＣｙ（ｘは１．５以上２．０以下、ｙは０以上０．５以下）で表される酸化珪素からなり、厚さが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下のガスバリア層３とを順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカー層２の厚みが０．１μｍ以上１０μｍ以下、かつ、前記アンカー層２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を通過させるための通過孔を精度良く形成することが可能な蒸着用マスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク１の製造方法では、金属薄膜１０の両面に、反射防止膜３０Ａ，３０Ｂを介してフォトレジスト膜１２ａ，１２ｂを形成したのち露光することにより、フォトレジスト膜１２ａ，１２ｂに通過孔１０Ａ−１のパターンを形成する。露光時に、フォトレジスト膜１２ａ，１２ｂを透過した照射光が金属薄膜１０の表面もしくは裏面に到達する前に、反射防止膜３０Ａ，３０Ｂにおいて吸収され、ハレーションの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】保守管理を容易に行うことができる蒸発装置を提供する。
【解決手段】蒸発材料１を貯蔵するホッパ１１４と、内径を上方側ほど拡げるように円錐状に開口させた接続口部１１２ａを上端側に有する第一の接続管１１２と、第一の接続管１１２の下方側とホッパ１１４とを接続する連絡管１１３と、外径を下方側ほど狭めるように円錐状に形成されて第一の接続管１１２の接続口部１１２ａに着脱可能に嵌合する接続口部１１５ａを下端側に有する第二の接続管１１５と、第二の接続管１１５の上端側に接続された坩堝１１６と、坩堝１１６を加熱する電熱ヒータ１１８と、坩堝１１６と共に電熱ヒータ１１８を包囲する冷却ジャケット１２０と、第一の接続管１１２の接続口部１１２ａを冷却する冷却コイル１２１と、前記接続管１１２，１１５内に回転可能に配設されたスクリュシャフト１２２とを備えて蒸発装置１００を構成した。 （もっと読む）

【課題】搬送チャンバを小型化できる、生産性の高い、あるいは、稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または成膜装置あるいはシャドウマスク交換装置または同交換方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとのアライメントを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記２つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は基材の両面に加工を行う場合に、電子ペーパーや有機ＥＬなどのＦＰＤ向けとして好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層１−１の両面上に、一方の面上にアンカーコート層２−１とガスバリア層３−１を順次積層し、もう一方の面上にアンカーコート層２−２とガスバリア層３−２を順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカーコート層を、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を前記基材層上に成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させて形成することを特徴とするガスバリア性積層フィルムの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法が可能な有機ラジカル化合物、それを用いた有機デバイスの提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^３は芳香族基、縮合多環芳香族基よりなる群からそれぞれ独立して選ばれた基である。）で示されることを特徴とする有機ラジカル化合物、それを用いた有機デバイス。 （もっと読む）

微粒子材料を気化するための装置１００であって、計量装置であって、微粒子材料を受け取るための貯留室１３０と、なお、該貯留室は該微粒子材料を気化チャンバ２１０内に吐出するための開口部１６０を有し、貯留室内に配置される回転可能なワイヤホイールブラシ１７０とを備え、該貯留室及び該ワイヤホイールブラシの寸法は、該ワイヤホイールブラシが該貯留室の内壁と協動して微粒子材料を流動化するように選択され、微粒子材料の計量された部分がワイヤホイールブラシの先端に同伴され、その後、貯留室開口部内に強制的に放出される、計量装置と、計量された材料を受け取り、気化するフラッシュ蒸発器１２０とを備える、微粒子材料を気化するための装置。
（もっと読む）

【課題】蒸着工程時基板の重量によりマスク組立体のパターンが変形されることを防止して、蒸着精密度を向上させることができるマスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置を提供する。
【解決手段】開口部１２０及び開口部を囲んだフレーム１１０を含むフレームマスク１００と；一つまたは複数のパターンが形成されるパターン部及び引張されてフレームと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される接合部を含むパターンマスク２００；及び開口部を横切って、パターンマスクと接合（溶接、半田付け、ロウ付け等）される支持台３００を含むマスク組立体に関する。チャンバーと；チャンバーの下側に位置する蒸着源；及び蒸着源上に位置し、基板を支持するためのマスク組立体を含むことを特徴とする平板表示装置用蒸着装置に関する。 （もっと読む）

【課題】特に耐筆記性などの耐久性を向上させた透明導電性積層フィルムを提供する。
【解決手段】 透明なプラスチックフィルムからなる基材層（Ａ）上の一方の面に０．２μｍ以上２０μｍ以下のハードコート層（Ｈ）、反対の面に重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）を硬化してなる厚さ０．１μｍ以上２０μｍ以下の被膜層（Ｂ）、前記被膜層（Ｂ）上に透明導電膜層（Ｃ）が積層されてなり、前記被膜層（Ｂ）を形成する前記重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）の硬化収縮率が０．２％以上１０％以下であることを特徴とする透明導電性積層フィルム。 （もっと読む）