【課題】低硬度の材料層に蒸着マスクを密着させると、硬度差により傷が発生し、完成後の有機ＥＬ装置の表示品質を低下させる。このような既形成層に与える損傷を低減する蒸着マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着基板に対向する第１表面と蒸着源に対向する第２表面とを有し、被蒸着基板のパターン形成領域に対応する領域である第１の領域に形成された開口部２２と、開口部２２の周辺領域の第１表面側に形成されたスペーサー３５と、を有する蒸着マスクとする。 （もっと読む）

【課題】単結晶半導体基板を分割して得られた成膜マスクであって、分割時に生じるバリ等で表面の平滑性が損われない成膜マスク。
【解決手段】支持基板３０と支持基板３０に取り付けられた複数のチップ２０とからなり、被成膜基板４２に対向する第１表面１１と膜材料源に対向する第２表面１２とを有する成膜マスク１０であって、チップ２０は、単結晶半導体基板７に枠状の溝１６を第１表面１１側から形成後、溝１６に外力を加えて破断分割して得られたチップ２０であり、チップ２０の側面部は溝１６の一部である平滑面１９と破断分割時に生じた破断面１８とを有しており、破断面１８は第１表面１１側には形成されていないことを特徴とする成膜マスク。 （もっと読む）

インライン堆積システムにおいて有機材料層を基板上に形成する方法であって、有機材料は、所定の一定でない堆積レートプロファイルで堆積される。該プロファイルは、所定の第１平均堆積レートで有機材料層の少なくとも第１単分子層を堆積するために用意した所定の第１堆積レート範囲と、所定の第２平均堆積レートで有機材料層の少なくとも第２単分子層を堆積するために用意した所定の第２堆積レート範囲とを含む。インジェクタの開口を経由した有機材料の注入は、所定の堆積レートプロファイルを実現するために制御される。
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【課題】大型基板量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の第１スリットが形成される第１ノズルと、第１ノズルと対向するように配され、第１方向に沿って複数の第２スリットが形成される第２ノズルと、第１ノズルと第２ノズルとの間に第１方向に沿って配されて、第１ノズルと第２ノズルとの間の空間を複数の蒸着空間に区画する複数の遮断壁を備える遮断壁アセンブリーとを備える薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理体に蒸着物質を蒸着させる蒸着装置において、蒸着物質を被処理体に蒸着させる蒸着源と、被処理体と離隔されて配され、一面上に蒸着源が配されるベースと、蒸着源と被処理体との間に位置する第１補正部及び第２補正部とを具備し、第１補正部及び第２補正部は、互いに対向するように、蒸着源の外郭部にそれぞれ配され、第１補正部及び第２補正部は、それぞれ回転しつつ、被処理体に蒸着される蒸着物質の厚さを調節することを特徴とする蒸着装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送しながら行う蒸着において、蒸着位置精度を向上して緻密なパターンの形成を可能にする。
【解決手段】蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂによる蒸着位置の基板の搬送方向手前側の位置を撮像可能に設けられた撮像手段４により、蒸着マスク１６Ｂに形成されたアライメントマークと有機ＥＬ表示用基板９表面に予め形成されたピクセルとを撮像し、該撮像画像に基づいてアライメントマークの基準位置とピクセルの基準位置との間の位置ずれ量を検出し、該位置ずれ量が所定値となるようにアライメント手段５により蒸着マスク１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂを上記基板面に平行な面内にて搬送方向と略直交する方向に移動して位置合わせしながら、搬送中の有機ＥＬ表示用基板９のピクセル上に所定のパターンを蒸着して形成するものである。 （もっと読む）

【課題】蒸着ソースを提供する。
【解決手段】加熱炉と、加熱炉に熱を加えるように、加熱炉を覆い包みながら配された第１加熱部と、第１加熱部と所定間隔に離隔され、加熱炉を覆い包みながら配された第２加熱部と、を備え、第２加熱部は、それぞれ相互離隔された複数の副加熱部を備え、複数の副加熱部は、相互離隔された状態で加熱炉を覆い包む蒸着ソースである。前記副加熱部は、それぞれ前記加熱炉の異なる領域に対応するように配され、前記加熱炉の異なる領域を加熱する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、基板が搬送される搬送チャンバーと、前記搬送チャンバーの両側にそれぞれ結合された第１および第２の工程チャンバーと、を備え、前記第１および第２の工程チャンバーのそれぞれは、互いに離間して設けられる第１および第２の基板ホルダーと、前記第１および第２の基板ホルダーの間に設けられて前記第１および第２の基板ホルダーに向けて順次に蒸着原料を供給する噴射ユニットと、を備える薄膜蒸着装置およびこれを備える薄膜蒸着システムを提供する。このように、本発明は、搬送チャンバーの両側に同じ工程を行う多数の工程チャンバーが連結されることにより、多数の基板に対する薄膜工程を並行して実施して工程速度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。
【解決手段】本発明は、基板とマスクとのアライメントを行い成膜材料を基板に真空成膜する真空チャンバを有する成膜装置またはシステムにおいて、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第１基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第２基準部材及び一端を前記第１基準部材の固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第２基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記かご構造体を前記真空アライメントチャンバの所定位置に維持するフローティング機構と、前記支柱を覆い前記真空チャンバの気密性を確保し、アライメントマークを撮像する撮像手段を前記剛体のいずれかに取付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】層間の密着力が高く、ガスバリア性能が優れたガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガスバリアフィルムは、基板上に、有機層と無機層とが順に形成されてなる積層体が、少なくとも２層以上積層されたものである。有機層のうち基板上に直接形成される第１の有機層はガラス転移温度が２００℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが３００ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である。有機層のうち、第１の有機層以外の第２の有機層は、ガラス転移温度が１０５℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが５０ｎｍ以上３００ｎｍ未満である。また、無機層はプラズマを用いた成膜方法により形成されている。 （もっと読む）

【課題】材料の利用効率が高い成膜用基板を提供する。また、前記成膜用基板を利用して材料の利用効率が高い成膜方法を提供する。
【解決手段】異なる成膜特性を有する複数の領域を支持基板１００の第１の面に形成した成膜用基板１５０を用意し、前記成膜用基板１５０の第１の面に成膜可能な材料を成膜し、前記材料が成膜された成膜用基板１５０の第１の面と被成膜基板を対峙して配置し、前記異なる成膜特性に応じた複数の成膜方法を順次用いて、１枚の成膜用基板１５０から複数の被成膜基板に前記材料を成膜すれば良い。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、例えば、１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して、蒸発源の安定したスキャン動作が行える駆動機構を備えた信頼性の高いまたは稼働率の高いあるいは安定して蒸着が可能なまたは軽量で製作コスト、装置輸送コストの低減を図った真空蒸着装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第２基準部材、及び一端を前記第１基準部材に固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第２基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記真空チャンバの気密性を確保する気密部と、前記かご構造体を前記真空チャンバの所定位置に維持する維持手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性のみならず耐久性にも優れる、無機／有機のガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】気相成膜法で無機化合物層を形成した後、逆スパッタリング等で粗面化処理を行い、粗面化処理を行なった無機化合物層の上に、フラッシュ蒸着によって有機化合物層を形成することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

１つの実施の形態における本発明は、蒸発材料を含んだ複数の気体流を基材に送り出すという形で、蒸発材料を運ぶ第１の気体流を基材に提供して基材上で積層させること、気体流を囲む気体カーテンを形成することにより、目標印刷範囲を越えて気体流が拡散するのを防ぐこと、蒸発材料を目標印刷範囲で凝縮させること、に関する。また、別の実施の形態では、熱を利用して蒸発材料の流れと積層の厚みとを制御する。 （もっと読む）

【課題】均一性の良い薄膜を形成する成膜装置若しくは薄膜の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板の一の領域に特定の成膜材料が被着されるように配置された第１の蒸発源と、基板の他の一の領域に他の特定の成膜材料が被着されるように配置された第２の蒸発源とを設け、基板の被成膜表面において異なる材料が所定の比率で含まれるように基板を回転させる。複数の蒸発源を異なる位置に配置することにより、複数の材料が混合した薄膜、複数の材料の層が格子状に配列した薄膜、若しくは複数の材料の単分子層が膜厚方向に積層した薄膜であって実質的に単分子超多層構造した薄膜を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】表示品質を向上させることができる成膜用マスク、電気光学装置の製造方法、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のサブ画素と平面的に重なる第１領域の全体が開口する第１開口孔７２ａが設けられた第１マスク７２と、第１マスク７２に積層され、第１領域において部分的な領域である第２領域が開口する第２開口孔７３ａが設けられた第２マスク７３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】大気に開放されることなく、かつ蒸発温度を超える温度への一度の加熱で、低温及び高温に属する不純物（中温材料、高温材料）を除去し、成膜の対象である中温材料のみからなる高純度な膜を得ることができる成膜方法を提供する。
【解決手段】第１の温度Ｔ１に制御することにより第１の蒸発源１１に備えられた第１の有機材料２０から低温材料ＬＭ、中温材料ＭＭを気化させる。生成された気体状態の低温材料ＬＭ、中温材料ＭＭを、第２の蒸発源１２系に移動させ、収集パネル１９で冷却し、固体状態または液体状態の第２の有機材料２１を生成させる。次に、第２の有機材料２１を第２の温度Ｔ_２に制御して、低温材料ＬＭを気化させる。残留した中温材料ＭＭからなる第３の有機材料２２を、第３の温度Ｔ_３に制御することにより気化させ、気化された中温材料ＭＭを用いて基板３０に成膜する。 （もっと読む）

【課題】スループット良くＥＬ発光を利用した照明装置を製造することが可能な製造装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】真空室と、真空室を減圧あるいは高真空状態とする排気系と、真空室へ基板を搬送する搬送室と、を有する照明装置の製造装置を提供する。この製造装置において、真空室は、搬送室から搬送された基板上に第１の電極を成膜する成膜室と、第１の電極上に少なくとも発光層を有する第１の発光ユニットを成膜する成膜室と、第１の発光ユニット上に中間層を成膜する成膜室と、中間層上に少なくとも発光層を有する第２の発光ユニットを成膜する成膜室と、第２の発光ユニット上に第２の電極を成膜する成膜室と、第２の電極が設けられた基板上に封止膜を成膜する成膜室と、成膜室のそれぞれに基板を順次搬送するための基板搬送手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】材料補充時、成膜装置内を大気開放せず、装置内の温調を管理しながら有機材料を補充、混合する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、有機材料ｍが収納された材料容器５００を収容するロードロック室１００ａと、ゲートバルブＧＶ２を介してロードロック室１００ａと接続された中間室２００と、ロードロック室内の材料容器５００を、ゲートバルブＧＶ２を介して中間室２００に投入する複数のピン機構７００と、複数のピン機構７００により中間室２００に投入された材料容器５００内の有機材料ｍを気化させるシースヒータ２０５ａと、シースヒータ２０５ａにより気化された有機材料ｍを輸送する輸送室３００と、輸送室３００を輸送された有機材料ｍにより基板Ｇを成膜する成膜室４００とを有する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着を行った後のマスク部材をクリーニングするに当って、負荷を最小限に抑制したクリーニング時におけるマスク部材及びクリーニング装置を提供する。
【解決手段】マスク部材１をドライ洗浄ステージ１１で鉛直状態に保持して、レーザ発振器からスキャニング光学系を介してレーザ光のパルスをマスク板の表面にスポット的に照射し、マスク板表面の蒸着物質を、マスク板と蒸着物質との間の熱膨張率の差で破砕させ、その砕片及び薄片を長尺ノズルによる負圧吸引力の作用で除去し、次いでウエット洗浄ステージ１４において、溶剤洗浄部１２で超音波洗浄を行い、シャワー洗浄部１３で溶剤を用いてマスクフレームを含めたマスク部材の全体をクリーニングする。 （もっと読む）