【課題】高歩留まりあるいは高精細化に有効な有機エレクトロルミネッセンスパネルの構造と、それを実現するための適切なテンションを付与することができる蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】枠体３４と、間隔をあけて面状に並列された同じ幅の複数の線材３８を有する第１サブマスク３６と、少なくとも１つの開口４４を有する第２サブマスク４２と、を有する蒸着マスクを用意する。回路基板１０に、蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層２０を形成する。第１サブマスク３６は、複数の線材３８に長さ方向に張力が付与されるように枠体３４に固定され、複数の線材３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、複数の線材３８が少なくとも１つの開口４４と重なるように、第２サブマスク４２の一方の面上に配置されている。 （もっと読む）

【課題】連続運転しても、蒸着材料の劣化を防止することで、蒸着膜の品質低下を防止できる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸発容器１１内に充填された蒸着材料Ｌを蒸発させて蒸着容器内に保持された基板に蒸着させる蒸着装置であって、蒸発容器１１を保持して冷却する容器保持具１２と、蒸着材料Ｌの表面部分を加熱用ランプ１６及び反射板１７で加熱する加熱装置１５と、蒸着材料Ｌの表面位置を検出し得るレーザセンサ１９とを具備し、容器保持具１２を、蒸発容器１１の底部を支持する載置部２１と、蒸発容器１１の側部を覆うと共に加熱用ランプ１６及び反射板１７が取り付けられた外周部２３とから構成し、載置部２１を昇降させる昇降装置１４を設け、且つレーザセンサ１９で検出された蒸着材料Ｌの表面位置に基づき昇降装置１４を制御して加熱用ランプ１６及び反射板１７と上記表面位置とを所定距離に維持する制御装置９を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、真空中において特に２次元的に重量物を搬送させるのに適した重量物搬送アシスト機構及び重量物搬送アシスト方法を提供し、また、それらを適用した成膜装置または成膜方法を提供することである。
【解決手段】重量物を一次元的又は２次元的に搬送させるメイン軸を有し、前記メイン軸の負荷を低減する重量物搬送アシストする際に、前記搬送は一端を前記真空チャンバの壁に回転可能に固定され、他端に回転可能に設けられた前記重量物を有するリンクを有するリンク部を介して行われ、前記重量物を駆動するメイン軸の負荷を低減するようにアシスト軸によって前記一端にトルクを付与することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚モニターの示す蒸着材料の蒸着レート指示値から算出される蒸着膜厚と、基板上への蒸着膜厚との差異を小さくする真空蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸着材料２１の蒸気を発生させる蒸着源２０と、蒸着材料２１の蒸着レートをモニターして蒸着源２０の制御を行う膜厚センサーと、を有し、前記膜厚センサーが、少なくとも第１の膜厚センサー３１と、第２の膜厚センサー３２と、からなる真空蒸着装置１を用いて、被蒸着部材（基板５０）に蒸着材料２１の蒸着膜を形成する真空蒸着方法であって、第１の膜厚センサー３１による蒸着源２０の制御中において第２の膜厚センサー３２に蒸着膜を付着させた後に、第１の膜厚センサー３１から第２の膜厚センサー３２に切り替えて蒸着源２０の制御を行うことを特徴とする、真空蒸着方法。 （もっと読む）

【課題】蒸発速度が安定するまでの時間を短くする技術を提供する。
【解決手段】有機薄膜材料６の温度を測定しながら加熱装置４によって昇温させて、測定で求められる温度が目標温度に到達したら加熱装置に供給される電力を制御して有機薄膜材料の温度を目標温度に維持させる工程を複数回行ない、複数回行なっている間に測定で求められる有機薄膜材料の蒸発速度が閾値蒸発速度以上になったら、加熱装置による有機薄膜材料の加熱によって蒸発速度を増大させ、測定で求められる蒸発速度が目標蒸気速度になったら加熱装置に供給される電力を制御して蒸発速度を目標蒸気速度に維持させる工程を複数回行ない蒸発速度が成膜時蒸発速度に到達したら有機薄膜材料の蒸発速度を成膜時蒸発速度に維持して有機薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】カップリング剤の変質や、被処理物へのミストの付着を防止しつつ、被処理物に対して均一なカップリング剤の被膜を効率よく成膜可能な表面処理装置および表面処理方法を提供すること。
【解決手段】表面処理装置１は、被処理物９を収納し、密閉構造を備える処理容器２と、処理容器２内を減圧する減圧ポンプ（減圧手段）３と、処理容器２内にカップリング剤を含む液状原料を供給する原料供給機構（液状原料供給手段）４とを有している。そして、処理容器２内に被処理物９を収納し、処理容器２内を減圧した後、減圧状態で封じ切りを行う。次いで、原料供給機構４により、処理容器２内に液状原料８を供給する。これにより、供給された液状原料８は気化し、その気化物が処理容器２内に拡散することで、被処理物９の表面にカップリング剤の被膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む化合物等の基体に対して極めて平滑な膜を、薄膜から厚膜まで広い膜厚範囲で、マイクロ／ナノ領域に位置選択的に形成可能とした基体への膜形成法を用いた、マイクロ／ナノデバイスの作製のための基盤技術となるデバイス作製法を提供する。
【解決手段】予め改質が施された改質部分２ａを有する基体２上に、マスクを密着配置して、前記改質部分２ａを覆うように、気相中で膜６を位置選択的に形成する工程と、その後、前記改質部分２ａのみを化学エッチングする工程とを備える。これによって、基体２及び膜６からなるマイクロトンネル構造を得る。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の劣化を防止しつつ、長期間にわたる連続運転を可能とする。
【解決手段】るつぼホルダ１３内に、赤外線を主な波長とする加熱波を放射する放射加熱器２１を、赤外線を透過可能な材質からなる加熱波透過管２２に内装して配置し、放射加熱器２１からの加熱波をるつぼ本体１２内の蒸着材料Ｍの表面に照射して加熱し、蒸着材料Ｍの表面のみを蒸発または昇華させる。蒸発または昇華された蒸着材料Ｍが、加熱波透過管２２の表面やるつぼ本体１２、るつぼホルダ１３の内面に付着しても、加熱波により加熱されて再蒸発または再昇華される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ成膜を行う際、成膜に寄与することなく排出される原材料の割合を低減するとともに成膜速度を大きくし、さらに、皮膜に微細粒子が含まれることを回避する。
【解決手段】プラズマノズル１４と、基材１０の成膜部位との間に、整流用治具１２を配置する。成膜時には、合流供給路１６に対し、整流用治具１２の第１供給路２０から第２液相原材料を供給する。これに加え、気相原材料をプラズマ化したものをプラズマノズル１４から供給するようにしてもよい。合流供給路１６には、さらに、第２供給路２２から第１液相原材料が供給される。第１液相原材料は、液相を維持しながら基材１０の成膜部位に到達し、少なくとも前記第２液相原材料と相互作用を起こし、好適には重合によって固化する。気相原材料が供給された場合には、第２液相原材料及び気相原材料と相互作用を起こす。 （もっと読む）

【課題】有機膜の真空蒸着に用いられる酸化アルミニウムなどの多孔性セラミックス焼結体は有機膜特性を劣化させる要因となる不純物が多く、成膜する有機膜の安定性及び均一性の制御が難しいので、成膜する有機膜の安定性及び均一性を高めることである。
【解決手段】開口部を有する容器１０内に熱伝導体粉末１２が充填されており、容器１０の底部側から熱伝導体粉末１２に有機膜形成用有機物質１１ｂが含浸されており、開口部を密閉するように蓋部１３が設けられている構成である。 （もっと読む）

【課題】発光色度を改善することが可能な有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に前記画素電極を形成し、ドーパント材料及びホスト材料からなる混合材料を供給し、混合材料を、ドーパント材料及び前記ホスト材料の昇華温度のうちいずれか高い方の温度以上で加熱することで発光層を形成し、発光層上に対向電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】ドープ濃度バラツキを改善することが可能な有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ドーパント材料及びホスト材料からなる第一の混合材料と、ドーパント材料及びホスト材料からなり第一の混合材料よりもドープ濃度が高い第二の混合材料とを供給し、第一及び第二の混合材料を加熱することで発光層を形成する。 （もっと読む）

【課題】成膜室の真空槽内で従来より効率的に成膜マスクから付着物を除去できる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】
真空槽１１内に配置され、薄膜材料４５の蒸気を放出する放出容器３１に、ガス供給装置５０から反応ガスを導入する。放出容器３１の放出孔３４から放出される反応ガスは成膜マスク２１の付着物と反応して反応生成物ガスを形成し、反応生成物ガスは真空排気される。放出容器３１と成膜マスク２１との間に電圧を印加して反応ガスをプラズマ化することもできる。成膜マスク２１に周期的に負電位を印加すると、プラズマ中のイオンが成膜マスク２１に引き寄せられて衝突するのでより効率的に付着物を除去できる。成膜マスク２１に負電位を印加する間に放出容器３１に負電位を印加すると、放出容器３１からも付着物を効率的に除去できる。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスク変形の低減、並びに被成膜基板と蒸着マスクとの密着性の向上及び塗り分け精度の向上を実現させる蒸着装置を提供する。
【解決手段】磁性材料を含んでなる金属箔１４と金属箔１４を固定するマスクフレーム１５とからなる蒸着マスク１１の上に載置された被成膜基板（基板２０）を、蒸着マスク１１に押圧する押圧機構１２を備える蒸着装置１であって、押圧機構１２が、少なくとも前記被成膜基板の角部において蒸着マスク１１を引き寄せうる磁石１８を備えている。 （もっと読む）

【課題】十分な撥水性能と耐久性を有する防汚膜を備える光学物品を効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の光学物品の製造方法は、光学基材と、前記光学基材上に防汚膜を有する光学物品の製造方法であって、数平均分子量が８００以上８０００以下の範囲である第１のフッ素シラン化合物と、数平均分子量が１００以上８００未満の範囲である第２のフッ素シラン化合物とを含有し、且つ前記第１のフッ素シラン化合物の含有量が前記第１および第２のフッ素シラン化合物の合計量に対して１５質量％以上８５質量％以下である混合物を、前記光学基材を活性化処理することなく、蒸着させることにより前記防汚膜を形成する防汚膜形成工程、を備えることを特徴とする方法である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに対して復元不能なダメージを与えることなく、且つクリーニング速度の高速化を図ることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク１の表面に付着した有機材料５０を剥離するためのレーザ光Ｌを発振するレーザ光源３１と、レーザ光Ｌの強度分布をガウス形状から平均的な分布（トップハット形状）に変換するビーム整形光学系３３と、強度分布が変換されたレーザ光Ｌを有機ＥＬ用マスク１の表面に走査させるＸガルバノミラー３５およびＹガルバノミラー３６を有する走査光学系と、を備えている。この構成により、レーザ光Ｌの強度分布が平均的になり、有機ＥＬ用マスク１に復元不能なダメージを与えなくなり、且つクリーニング速度が高速化する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ドライ洗浄方法において、スループット向上し処理枚数を増やすことができるマスクドライ洗浄装置または洗浄方法を提供すること、あるいは上記マスクドライ洗浄装置を蒸着装置に隣接して設けることで短時間に洗浄できる稼働率の高い製造装置を提供することである。
【解決手段】本発明はレーザ光源から出射されるレーザ光をマスクに付着した付着蒸着材料に照射し該マスクを洗浄する際に、前記レーザ光を円形状から楕円形状に変更し、該楕円形状のレーザ光を前記マスクの前記付着蒸着材料に照射し洗浄することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、チャンバの内部に配され、かつ静電チャックに固定された基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリー１００を備える蒸着部と、静電チャックから蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部と、基板が固定された静電チャックをローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部６１０と、を備え、第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７と、第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロック６１５と、第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロック６１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】安価かつ簡易な方法で洗浄することができ、付着していた蒸着物の回収を容易に行うことができるメタルマスクを提供する。また、該メタルマスクの洗浄方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の表面に親水性コーティングが施されたメタルマスクであって、前記親水性コーティングは、ケイ酸ナトリウムを５〜４０重量％、四ホウ酸ナトリウム十水和物を０．０１〜１．５重量％含有する水溶液Ａ、又は、ケイ酸ナトリウムを５〜４０重量％、リン酸ナトリウムを０．０１〜１．６重量％含有する水溶液Ｂをメタルマスクの少なくとも一方の表面に塗布した後、乾燥させるものであるメタルマスク。 （もっと読む）

【課題】成膜マスクから付着物を高効率で除去するクリーニング装置と、成膜作業を中断させずに成膜マスクのクリーニングを行う成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】
クリーニング装置１０は、シャワーノズル２１と離間して対面する位置に処理対象物５０を配置したときに、処理対象物５０と接触部材２３とが接触し、処理対象物５０とシャワーノズル２１との間の放電空間が、洗浄容器２０の筒状の側壁２２で取り囲まれると共に、処理対象物５０と洗浄容器２０との間に隙間２９が形成されるように構成されている。真空排気装置１２によって真空槽１１内を真空排気しながら、シャワーノズル２１内に反応ガスを供給し、放電空間にプラズマを発生させ、処理対象物５０表面の付着物と反応ガスとの反応生成物ガスを、真空排気装置１２によって、隙間２９から真空排気する。 （もっと読む）