薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法
【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりが向上した薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、チャンバの内部に配され、かつ静電チャックに固定された基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリー１００を備える蒸着部と、静電チャックから蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部と、基板が固定された静電チャックをローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部６１０と、を備え、第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７と、第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロック６１５と、第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロック６１９とを備える。
【解決手段】被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、チャンバの内部に配され、かつ静電チャックに固定された基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリー１００を備える蒸着部と、静電チャックから蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部と、基板が固定された静電チャックをローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部６１０と、を備え、第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７と、第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロック６１５と、第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロック６１９とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法に係り、さらに詳細には、大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりを向上する薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は視野角が広くてコントラストが優れているだけでなく、応答速度が速いという長所を持っており、よって次世代ディスプレイ装置として注目されている。
【０００３】
有機発光表示装置は、互いに対向する第１電極と第２電極との間に発光層及びこれを含む中間層を備える。この時、前記電極及び中間層はいろいろな方法で形成されうるが、そのうち一つの方法が独立蒸着方式である。蒸着方法を用いて有機発光表示装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを持つファインメタルマスク（Fine Metal Mask：ＦＭＭ）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。
【０００４】
しかし、これらのＦＭＭを用いる方法は、５Ｇ以上のマザーガラスを使用する大面積化には適していないという限界がある。すなわち、大面積マスクを使用すれば、自重によりマスクの反り現象が発生するが、この反り現象によるパターンの歪曲が発生しうるためである。これは、パターンに高精細を要する現在の傾向に反することである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記のような従来のＦＭＭを用いた蒸着方法の限界を乗り越えるためのものであって、大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングの可能な薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、前記チャンバの内部に配され、かつ前記静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部と、前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部と、前記基板が固定された静電チャックを前記ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部と、を備え、前記第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールと、前記第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロックと、前記第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロックとを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【０００７】
本発明において、前記２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、前記チャンバに貫設されるが、前記１対の第１ガイドレールが前記１対の第２ガイドレールの外側に配されるように形成し、前記第１ガイドブロックは、前記第１ガイドレールに沿って直線往復動し、前記第２ガイドブロックは、前記第２ガイドレールに沿って直線往復動する。
【０００８】
ここで、前記基板を固定している前記静電チャックが前記第１ガイドブロックまたは第２ガイドブロック上に配されて、前記基板が前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って直線往復動できる。
【０００９】
ここで、前記第１ガイドブロックと前記第２ガイドブロックとは、互いに独立して直線往復動する。
【００１０】
本発明において、前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備える。
【００１１】
ここで、前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成される。
【００１２】
ここで、前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成される。
【００１３】
本発明において、前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、ＬＭレール（linear motion rail）であり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックは、ＬＭブロック（linear motion block）である。
【００１４】
本発明において、前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられうる。
【００１５】
本発明において、前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられた第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記第１チャンバと第２チャンバとが互いに連係している。
【００１６】
本発明において、前記薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが配されるパターニングスリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、前記薄膜蒸着アセンブリーは前記基板と離隔するように配され、前記薄膜蒸着アセンブリーと前記基板とは、互いに相対的に移動する。
【００１７】
前記薄膜蒸着アセンブリーの前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
【００１８】
前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成される。
【００１９】
前記複数の遮断板は等間隔で配される。
【００２０】
前記遮断板アセンブリーは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリーと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリーと、を備える。
【００２１】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成される。
【００２２】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配される。
【００２３】
前記互いに対応する第１遮断板及び第２遮断板は、実質的に同じ平面上に位置するように配される。
【００２４】
本発明において、前記薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成される。
【００２５】
前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成される。
【００２６】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドする。
【００２７】
前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成される。
【００２８】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定ほど離隔するように形成される。
【００２９】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着される。
【００３０】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
【００３１】
本発明において、前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成される。
【００３２】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされている。
【００３３】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向かうように配され、前記二列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向かうように配される。
【００３４】
他の側面に関する本発明は、被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部、前記基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部、及び前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部を備える薄膜蒸着装置を用いた有機発光表示装置の製造方法において、前記ローディング部で前記基板を前記静電チャックで固定させる段階と、第１ガイドレールに沿って移動するように形成された第１ガイドブロックまたは第２ガイドレールに沿って移動するように形成された第２ガイドブロック上に、前記基板が固定された前記静電チャックを配する段階と、前記基板と前記薄膜蒸着アセンブリーとの相対的移動により、前記薄膜蒸着アセンブリーで放射された蒸着物質が前記基板に蒸着される段階と、前記アンローディング部から前記静電チャックが、前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックから分離される段階と、前記静電チャックが分離された前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックが、前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って前記ローディング部方向に移動する段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【００３５】
本発明において、前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備える。
【００３６】
前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成される。
【００３７】
前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成される。
【００３８】
本発明において、前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールはＬＭレールであり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックはＬＭブロックである。
【００３９】
本発明において、前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられて、各薄膜蒸着アセンブリーにより前記基板に連続的に蒸着が行われる。
【００４０】
本発明において、前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられ、互いに連係した第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記基板が、前記第１チャンバ及び第２チャンバにわたって移動しつつ連続的に蒸着が行われる。
【発明の効果】
【００４１】
本発明の薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まり及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易になる効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置を概略的に示すシステム構成図である。
【図２】図１の変形例を示す図面である。
【図３】図１の静電チャックの一例を示す概略面である。
【図４】図１の薄膜蒸着装置の第１循環部を概略的に示す斜視図である。
【図５】図４の第１循環部で、第１静電チャック及び第１ガイドブロックを示す平面図である。
【図６】図４の第１循環部で、第２静電チャック及び第２ガイドブロックを示す平面図である。
【図７】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図８】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図９】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図１０】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図１１】図１の薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１２】図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側断面図である。
【図１３】図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平断面図である。
【図１４】本発明の他の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１５】本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１６】図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側面図である。
【図１７】図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平面図である。
【図１８】本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを図示した斜視図である。
【図１９】図１８の薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【図２０】図１８の薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【図２１】本発明の蒸着装置を用いて製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
以下、添付した図面を参照して本発明による望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
【００４４】
図１は、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成の上方から見た平面図であり、図２は、図１の変形例を図示したものである。図３は、後述する構成にて反転された静電チャック６００の一例を示す概略側面図である。
【００４５】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置は、ローディング部７１０、蒸着部７３０、アンローディング部７２０、第１循環部６１０及び第２循環部６２０を備える。
【００４６】
ローディング部７１０は、第１ラック７１２と、導入ロボット７１４と、導入室７１６と、第１反転室７１８とを備えることができる。
【００４７】
第１ラック７１２には蒸着が行われる前の基板５００が多く積載されており、導入ロボット７１４は、前記第１ラック７１２から基板５００を捉えて第２循環部６２０から移送されてきた静電チャック６００に基板５００を載置した後、基板５００が付着された静電チャック６００を導入室７１６に移す。
【００４８】
導入室７１６に隣接して第１反転室７１８が備えられ、第１反転室７１８に位置した第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させて、静電チャック６００を蒸着部７３０の第１循環部６１０に装着する。
【００４９】
静電チャック６００は、図３から分かるように、セラミックからなる本体６９１の内部に電源が印加される電極６９２が埋め立てられたものであって、この電極６９２に高電圧が印加されることによって本体６９１の表面に基板５００を付着させることである。
【００５０】
図１からみれば、導入ロボット７１４は、静電チャック６００の上面に基板５００を載せ、この状態で静電チャック６００は導入室７１６に移送され、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させることによって、蒸着部７３０では基板５００が下方を向かうように位置する。
【００５１】
アンローディング部７２０の構成は、前述したローディング部７１０の構成と逆に構成される。すなわち、蒸着部７３０を経た基板５００及び静電チャック６００を、第２反転室７２８で第２反転ロボット７２９が反転させて搬出室７２６に移送し、搬出ロボット７２４が搬出室７２６から基板５００及び静電チャック６００を取り出した後、基板５００を静電チャック６００から分離して第２ラック７２２に積載する。基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０を通じてローディング部７１０に回送される。
【００５２】
しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、基板５００が静電チャック６００に最初に固定される時から静電チャック６００の下面に基板５００を固定させて、そのまま蒸着部７３０に移送させてもよい。この場合、例えば、第１反転室７１８及び第１反転ロボット７１９と第２反転室７２８及び第２反転ロボット７２９は必要なくなる。
【００５３】
蒸着部７３０は少なくとも一つの蒸着用チャンバを備える。図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は第１チャンバ７３１を備え、この第１チャンバ７３１内に複数の薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００が配される。図１に図示された本発明の望ましい一実施形態によれば、前記第１チャンバ７３１内に第１薄膜蒸着アセンブリー１００、第２薄膜蒸着アセンブリー２００、第３薄膜蒸着アセンブリー３００及び第４薄膜蒸着アセンブリー４００の４つの薄膜蒸着アセンブリーが設けられているが、その数字は蒸着物質及び蒸着条件によって可変できる。前記第１チャンバ７３１は、蒸着が進む間に真空に維持される。
【００５４】
また、図２による本発明の他の一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は互いに連係した第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２を備え、第１チャンバ７３１には第１及び２薄膜蒸着アセンブリー１００及び２００が、第２チャンバ７３２には第３及び４薄膜蒸着アセンブリー３００及び４００が配されうる。この時、チャンバの数が追加されうるということは言うまでもない。
【００５５】
一方、図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記基板５００が固定された静電チャック６００は、第１循環部６１０により少なくとも蒸着部７３０に、望ましくは、前記ローディング部７１０、蒸着部７３０及びアンローディング部７２０に順次移動し、前記アンローディング部７２０で基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０により前記ローディング部７１０に戻される。
【００５６】
前記第１循環部６１０は、前記蒸着部７３０を通過する時に前記第１チャンバ７３１を貫通するように備えられ、前記第２循環部６２０は、静電チャックが移送されるように備えられる。
【００５７】
図４は、図１の薄膜蒸着装置の第１循環部を概略的に示す斜視図であり、図５は、図４の第１循環部で第１静電チャック及び第１ガイドブロックの断面を第１反転ロボット７１９側又は第２反転ロボット７２９側から見た図であり、図６は、図４の第１循環部で第２静電チャック及び第２ガイドブロックの断面を第１反転ロボット７１９側又は第２反転ロボット７２９側から見た図である。
【００５８】
図４ないし図６を参照すれば、第１循環部６１０は、基板５００を固定している静電チャック６０１及び６０２を移動させる役割を行う。ここで、第１循環部６１０は、支持台６１１と、前記支持台６１１上に形成された２対のガイドレール６１３、６１７と、前記２対のガイドレール６１３、６１７上にそれぞれ形成された複数のガイドブロック６１５、６１９とを備える。これをさらに詳細に説明すれば、次の通りである。
【００５９】
前述したように本発明では、基板が固定された静電チャックがチャンバ内部で直線運動しつつ蒸着が行われる。この場合、既存の移送方式であるローラやコンベヤーベルトを使用すれば、基板の位置精密度が落ちるため、基板の精密な移送のためには、ガイドレールとガイドブロックとで形成されたリニアモーションシステムを用いることが望ましい。ところが、基板の精密な移送のためには、すなわち、直線運動の精密度を保証するためには、ガイドレールとガイドブロックとの間の間隔を最小化せねばならず、ガイドレールとガイドブロックとの間のボールベアリングのサイズを大きくするか、またはガイドレールに弾性変形を加え、かつ予圧を印加してクリアランスを最小化せねばならない。この場合、ガイドレールとガイドブロックとは互いに密着結合されて分離できなくなるが、このような構造では、蒸着が完了した後、ガイドブロックがローディング部に原位置する間に蒸着が行われることができないので、タクトタイム（tact time）が長くなって収率が低下するという問題点が存在している。
【００６０】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置では、２対のガイドレール及び前記それぞれのガイドレールに結合される複数のガイドブロックを備えて、いずれか一つのガイドレールに沿って移送される基板に蒸着が行われる間、残りの一つのガイドレールに沿ってガイドブロックをローディング部に原位置させることで、基板の位置精密度を向上させると同時に、休止期間なしに連続的に蒸着を行わせることを一特徴とする。
【００６１】
さらに詳細には、前記支持台６１１と、支持台６１１上に形成された２対のガイドレール６１３、６１７とは前記蒸着部７３０のチャンバ、例えば、図１の実施形態では第１チャンバ７３１、図２の実施形態では第１チャンバ７３１と第２チャンバ７３２とを貫通するように設けられる。
【００６２】
支持台６１１の上部は概略扁平な平面に形成されており、前記支持台６１１の上部面上には２対のガイドレール６１３、６１７が形成されている。さらに詳細には、１対の第１ガイドレール６１３は支持台６１１の外側に形成され、１対の第２ガイドレール６１７は支持台６１１の内側に形成される。
【００６３】
一方、第１ガイドレール６１３には第１ガイドブロック６１５が挟み込まれて、第１ガイドブロック６１５が前記第１ガイドレール６１３に沿って往復動し、第２ガイドレール６１７には第２ガイドブロック６１９が挟み込まれて、第２ガイドブロック６１９が前記第２ガイドレール６１３に沿って往復動する。
【００６４】
前記第１ガイドブロック６１５及び前記第２ガイドブロック６１９には所定の駆動部（図示せず）が備えられうる。駆動部（図示せず）は、第１ガイドブロック６１５及び第２ガイドブロック６１９を第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７に沿って移動させる部材であって、それ自体から駆動力を提供するものであってもよく、別途の駆動源からの駆動力を第１ガイドブロック６１５及び第２ガイドブロック６１９に伝達するものであってもよい。
【００６５】
一方、静電チャック（図１の６００参照）は、第１静電チャック６０１及び第２静電チャック６０２を備える。第１静電チャック６０１の下部面の第２ガイドブロック６１９と対応する領域には、第１静電チャック６０１と第２ガイドブロック６１９とが互いに接触しないように第１陥没部６０１ａが形成されている。すなわち、第１静電チャック６０１は、第１ガイドブロック６１５のみと接触しており、したがって、第１ガイドブロック６１５の上部に配された第１静電チャック６０１が第１ガイドレール６１３に沿って移動する時、第２ガイドブロック６１９にその移動経路が干渉されない。
【００６６】
同様に、第２静電チャック６０２の下部面の第１ガイドブロック６１５と対応する領域には、第２静電チャック６０２と第１ガイドブロック６１５とが互いに接触しないように第２陥没部６０２ａが形成されている。すなわち、第２静電チャック６０２は、第２ガイドブロック６１９のみと接触しており、したがって、第２ガイドブロック６１９の上部に配された第２静電チャック６０２が第２ガイドレール６１７に沿って移動する時、第１ガイドブロック６１５にその移動経路が干渉されない。
【００６７】
このような構成によって、第１ガイドブロック６１５は、第２静電チャック６０２と干渉せずに直線往復動を行え、同時に、第２ガイドブロック６１９は、第１静電チャック６０１と干渉せずに直線往復動を行える。
【００６８】
ここで、前記ガイドレール６１３、６１７としてＬＭレール（Linear Motion rail）を備え、前記ガイドブロック６１５、６１９としてＬＭブロック（Linear Motion block）を備え、所定のＬＭシステムを構成できる。ＬＭシステムは、過去の滑り案内システムに比べて摩擦係数が小さくて位置誤差がほとんど発生しなくて位置精密度が非常に高い移送システムであり、本明細書では、このようなＬＭシステムについてはその詳細な説明を省略する。
【００６９】
次いで、前記第１ガイドブロック６１５（及びその上に配された第１静電チャック６０１）と、前記第２ガイドブロック６１９（及びその上に配された第２静電チャック６０２）との循環メカニズムについて説明する。
【００７０】
図７ないし図１０は、前記ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。ここで、説明の便宜のために第１ガイドブロック上に配された第１静電チャックと、第２ガイドブロック上に配された第２静電チャックとは図示していないが、実際の蒸着過程では、前記それぞれの第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃ上にはそれぞれ第１静電チャックが配され、前記それぞれの第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃ上にはそれぞれ第２静電チャックが配されると想定できる。
【００７１】
また、図面には、第１ガイドブロックと第２ガイドブロックとが３対ずつ備えられていると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、薄膜蒸着装置の製品仕様によって、前記ガイドブロックの数は多様に適用できるといえる。ただし、タクトタイムの短縮のために、第１ガイドブロック同士と第２ガイドブロック同士とはそれぞれ密集して配されることが望ましい。すなわち、第１ガイドブロックと第２ガイドブロックとが交互に配されるものではなく、複数の第１ガイドブロックが順に配された後、その一側に複数の第２ガイドブロックが順に配されることが望ましいといえる。
【００７２】
まず、図７を参照すれば、複数の第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃは、第１ガイドレール６１３に沿って矢印Ｄ方向に移動し、同時に複数の第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは、第２ガイドレール６１７に沿って矢印Ｄ方向に移動する。この過程で、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００から放射される蒸着物質が基板（図４の５００参照）上に蒸着される。（すなわち、ガイドレール上にガイドブロックが配されて、ガイドブロック上に静電チャックが安着して、静電チャックに基板が結合されている。）。
【００７３】
次いで、図８に図示されたように、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００を完全に通過して蒸着が完了した第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは、薄膜蒸着アセンブリー４００の一側に集まる。この時、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００を完全に通過した第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃの上部に配された第２静電チャック（図４の６０２参照）は、アンローディング部（図１の７２０参照）により第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃから分離され、前記分離された第２静電チャック（図４の６０２参照）は、第２循環部（図１の６２０参照）を通じてローディング部（図１の７１０参照）に原位置する。
【００７４】
次いで、図９に図示されたように、第２静電チャック（図４の６０２参照）が分離された第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは、矢印Ｄの逆方向に移動してローディング部（図１の７１０参照）側に原位置することで、次の蒸着を用意する。この時、第１静電チャック（図４の６０１参照）には第１陥没部（図４の６０１ａ参照）が形成されているため、第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは何の干渉も受けずに矢印Ｄの逆方向に移動できる。
【００７５】
次いで、図１０に図示されたように、ローディング部（図１の７１０参照）に原位置した第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃに、基板（図１の５００参照）が付着された第２静電チャックが装着された後、第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃが第２ガイドレール６１７に沿って矢印Ｄ方向に移動しつつ、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００から放射される蒸着物質が基板（図４の５００参照）上に連続的に蒸着される。
【００７６】
同様に、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００を完全に通過して蒸着が完了した第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃから第１静電チャックが分離された後、第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃが矢印Ｄの逆方向に移動してローディング部（図１の７１０参照）側に原位置することで、次の蒸着のために準備する。この時、第２静電チャック（図４の６０２参照）には第２陥没部（図４の６０２ａ参照）が形成されているため、第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃは、何の干渉も受けずに矢印Ｄの逆方向に移動できることである。
【００７７】
かかる本発明によって、２対のガイドレール及び前記それぞれのガイドレールに結合される複数のガイドブロックを備えて、いずれか一つのガイドレールに沿って移送される基板に蒸着が行われる間、残りの一つのガイドレールに沿ってガイドブロックをローディング部に原位置させることで、基板の位置精密度を向上させると同時に、休止期間なしに連続的に蒸着が行われる効果を得ることができる。
【００７８】
次いで、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリー１００を説明する。図１１は、図１の薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図であり、図１２は、図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側断面図であり、図１３は、図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平断面図である。
【００７９】
図１１ないし図１３を参照すれば、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、遮断板アセンブリー１３０及びパターニングスリット１５１を備える。
【００８０】
ここで、図１１ないし図１３には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１１ないし図１３のあらゆる構成は、適切な真空度が維持される第１チャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００８１】
さらに詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット１５１を通過して基板５００に所望のパターンに蒸着させるためには、基本的にチャンバ（図示せず）の内部は高真空状態を維持せねばならない。また遮断板１３１及びパターニングスリットシート１５０の温度が蒸着源１１０の温度より十分に低くて初めて（約１００℃以下）、蒸着源ノズル１２１とパターニングスリット１５１との間の空間を高真空状態に維持できる。このように、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０との温度が十分に低ければ、願わない方向に放射される蒸着物質１１５はいずれも遮断板アセンブリー１３０面に吸着されて高真空を維持できるため、蒸着物質間の衝突が発生しなくて蒸着物質の直進性を確保できるようになる。この時、遮断板アセンブリー１３０は高温の蒸着源１１０に向かっており、蒸着源１１０と近いところは最大１６７℃ほど温度が上昇するため、必要な場合、部分冷却装置（図示せず）がさらに備えられうる。
【００８２】
このような第１チャンバ内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００により移送される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【００８３】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００に対して相対的に移動するが、望ましくは、薄膜蒸着アセンブリー１００に対して基板５００をＡ方向に移動させることができる。
【００８４】
さらに詳細には、既存ＦＭＭ蒸着方法では、マスクのサイズが基板サイズと同一またこれより大きくなければならなかった。したがって、基板サイズが増大するほどマスクも大型化せねばならず、したがって、このような大型のマスクの製作が容易ではなく、マスクを引っ張って精密なパターンにアラインすることも容易ではないという問題点がある。
【００８５】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われることを一特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着アセンブリー１００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着する。すなわち、基板５００が図１１の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われることである。ここで、図面には、基板５００がチャンバ（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板５００は固定されており、薄膜蒸着アセンブリー１００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。
【００８６】
したがって、本発明の薄膜蒸着アセンブリー１００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリー１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅と基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成されれば、パターニングスリットシート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成されても構わない。もちろん、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅が基板５００のＸ軸方向への幅より小さく形成されるとしても、基板５００と薄膜蒸着アセンブリー１００との相対的移動によるスキャニング方式により、十分に基板５００全体に対して蒸着できるようになる。
【００８７】
このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を設けることができるため、本発明のパターニングスリットシート１５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【００８８】
このように、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが一定距離ほど離隔することが望ましい。これについては、後述する。
【００８９】
一方、第１チャンバ内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
【００９０】
前記蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が満たされる坩堝１１２と、この坩堝１１２を取り囲む冷却ブロック１１１とが備えられる。冷却ブロック１１１は、坩堝１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバの内部に発散されることを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には坩堝１１１を加熱させるヒータ（図示せず）が備えられている。
【００９１】
蒸着源１１０の一側、さらに詳細には、蒸着源１１０から基板５００に向かう側には蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル１２１は等間隔で形成されうる。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、このような蒸着源ノズル部１２０の蒸着源ノズル１２１を通過して、被蒸着体である基板５００側に向かう。
【００９２】
蒸着源ノズル部１２０の一側には遮断板アセンブリー１３０が備えられる。前記遮断板アセンブリー１３０は、複数の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備えられる遮断板フレーム１３２とを備える。前記複数の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に配されうる。ここで、前記複数の遮断板１３１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの遮断板１３１は、図面からみれば、ＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、長方形に備えられうる。このように配された複数の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリット１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切る。すなわち、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、前記遮断板１３１によって、図１３から分かるように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間Ｓが分離される。
【００９３】
ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１の間に配されうる。これは、言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１の間に一つの蒸着源ノズル１２１が配されることである。望ましくは、蒸着源ノズル１２１は、互いに隣接している遮断板１３１間の正中央に位置できる。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されず、互いに隣接している遮断板１３１の間に複数の蒸着源ノズル１２１が配されてもよい。ただし、この場合にも、複数の蒸着源ノズル１２１を互いに隣接している遮断板１３１の間の正中央に位置させることが望ましい。
【００９４】
このように、遮断板１３１が蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切ることによって、一つの蒸着源ノズル１２１から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１５１を通過して基板５００に蒸着されることである。すなわち、前記遮断板１３１は、各蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されずに直進性を維持するように、蒸着物質のＺ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９５】
このように、遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影（shadow）のサイズを大幅に縮めることができ、したがって、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００を一定距離ほど離隔させることができる。これについては、後述する。
【００９６】
一方、前記複数の遮断板１３１の外側には、遮断板フレーム１３２がさらに備えられうる。遮断板フレーム１３２は、複数の遮断板１３１の側面にそれぞれ備えられて、複数の遮断板１３１の位置を固定させると同時に、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質がＹ軸方向に分散されないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９７】
前記蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０とは一定距離ほど離隔されたことが望ましい。これにより、蒸着源１１０から発散される熱が遮断板アセンブリー１３０に伝導されることを防止できる。しかし、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０との間に適切な断熱手段が備えられる場合、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０とが結合して接触してもよい。
【００９８】
一方、前記遮断板アセンブリー１３０は、薄膜蒸着アセンブリー１００から着脱自在に形成されうる。本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００では、遮断板アセンブリー１３０を用いて蒸着空間を外部空間と分離したので、基板５００に蒸着されていない蒸着物質は、大部分遮断板アセンブリー１３０内に蒸着される。したがって、遮断板アセンブリー１３０を薄膜蒸着アセンブリー１００から着脱自在に形成して、長時間蒸着後に遮断板アセンブリー１３０に蒸着物質が多く溜まれば、遮断板アセンブリー１３０を薄膜蒸着アセンブリー１００から分離して、別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。このような構成を通じて、蒸着物質リサイクル率を高めることによって、蒸着効率が向上してコストダウン効果を得ることができる。
【００９９】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間にはパターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられる。前記フレーム１５５は、窓枠状に形成され、その内側にパターニングスリットシート１５０が結合される。そして、パターニングスリットシート１５０にはＸ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１が形成される。各パターニングスリット１５１はＹ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化して蒸着源ノズル１２１を通過した蒸着物質１１５は、パターニングスリット１５１を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。
【０１００】
前記パターニングスリットシート１５０は金属薄板で形成され、引張られた状態でフレーム１５５に固定される。前記パターニングスリット１５１は、ストライプタイプであって、パターニングスリットシート１５０にエッチングを通じて形成される。
【０１０１】
ここで、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源ノズル１２１の総数より、パターニングスリット１５１の総数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２つの遮断板１３１の間に配された蒸着源ノズル１２１の数より、パターニングスリット１５１の数がさらに多く形成される。前記パターニングスリット１５１の数は、基板５００に形成される蒸着パターンの数に対応させることが望ましい。
【０１０２】
一方、前述した遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、別途の連結部材１３５によって互いに連結されうる。さらに詳細には、高温状態の蒸着源１１０により、遮断板アセンブリー１３０の温度は最大１００℃以上上昇するため、上昇した遮断板アセンブリー１３０の温度がパターニングスリットシート１５０に伝導されないように、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とを一定距離ほど離隔させることである。
【０１０３】
前述したように、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着アセンブリー１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１５０は基板５００から一定距離ほど離隔するように形成される。そして、パターニングスリットシート１５０と基板５００とを離隔させる場合に発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮めたことである。
【０１０４】
従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影が生じないようにするために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触により基板に既に形成されていたパターンがかかれるなど、不良が発生するという問題点が存在している。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化することによってマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成し難いという問題点がある。
【０１０５】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００では、パターニングスリットシート１５０が被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔するように配させる。これは、遮断板１３１を備えて、基板５００に生成される陰影が小さくなることによって実現可能になる。
【０１０６】
このような本発明によってパターニングスリットシートを基板より小さく形成した後、このパターニングスリットシートを基板に対して相対移動させることによって、従来ＦＭＭ方法のように大きいマスクを製作しなくて済むようになった。また、基板とパターニングスリットシートとの間が離隔されているために、互いの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で基板とパターニングスリットシートとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得ることができる。
【０１０７】
図１４は、本発明の望ましい他の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【０１０８】
図１４に図示された実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、第１遮断板アセンブリー１３０、第２遮断板アセンブリー１４０、パターニングスリットシート１５０を備える。
【０１０９】
ここで、図１４には説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１４のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【０１１０】
このようなチャンバ（図示せず）内には被蒸着体である基板５００が配される。そして、チャンバ（図示せず）内で基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
【０１１１】
蒸着源１１０及びパターニングスリットシート１５０の詳細な構成は、前述した図１１による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。そして、前記第一遮断板アセンブリー１３０は、図１１による実施形態の遮断板アセンブリーと同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。
【０１１２】
本実施形態では、第１遮断板アセンブリー１３０の一側に第２遮断板アセンブリー１４０が備えられる。前記第２遮断板アセンブリー１４０は、複数の第２遮断板１４１と、第２遮断板１４１の外側に備えられる第２遮断板フレーム１４２とを備える。
【０１１３】
前記複数の第２遮断板１４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備えられうる。そして、前記複数の第２遮断板１４１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの第２遮断板１４１は、図面からみた時にＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直に形成される。
【０１１４】
このように配された複数の第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を区切る役割を行う。すなわち、前記第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間が分離されることを一特徴とする。
【０１１５】
ここで、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１と一対一対応するように配されうる。言い換えれば、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１とアラインされて互いに平行に配されうる。すなわち、互いに対応する第１遮断板１３１と第２遮断板１４１とは、互いに同じ平面上に位置する。図面には、第１遮断板１３１の長さと第２遮断板１４１のＸ軸方向の幅とが同一であると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、パターニングスリット１５１との精密なアラインが要求される第２遮断板１４１は相対的に薄く形成される一方、精密なアラインが要求されない第１遮断板１３１は相対的に厚く形成されて、その製造を容易にすることも可能であるといえる。
【０１１６】
以上説明したような薄膜蒸着アセンブリー１００は、図１から分かるように、第１チャンバ７３１内に複数が連続して配されうる。この場合、各薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００は相異なる蒸着物質を蒸着させることができ、この時、各薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００のパターニングスリットのパターンを相異なるパターンにして、例えば、赤、緑、青色の画素を一括蒸着するなどの成膜工程を進めることができる。
【０１１７】
図１５は、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００を概略的に示す斜視図であり、図１６は、図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側面図であり、図１７は、図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平面図である。
【０１１８】
図１５ないし図１７を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。
【０１１９】
ここで、図１５ないし図１７には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１５ないし図１７のあらゆる構成は、適切な真空度が維持される第１チャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質９１５の直進性を確保するためである。
【０１２０】
そして、第１チャンバ（図示せず）内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００により移送される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【０１２１】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー９００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進まれることを一特徴とする。さらに詳細には、薄膜蒸着アセンブリー９００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板５００が図１５の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われることである。ここで、図面には基板５００がチャンバ内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板５００は固定されており、薄膜蒸着アセンブリー９００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。
【０１２２】
したがって、本発明の薄膜蒸着アセンブリー９００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリー９００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート９５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成されうる。このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を設けることができるため、本発明のパターニングスリットシート９５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート９５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート９５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これはディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【０１２３】
このように、薄膜蒸着アセンブリー９００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着アセンブリー９００と基板５００とが一定距離ほど離隔することが望ましい。これについては、後述する。
【０１２４】
一方、チャンバ内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質９１５が収納及び加熱される蒸着源９１０が配される。前記蒸着源９１０内に収納されている蒸着物質９１５が気化することで基板５００に蒸着が行われる。
【０１２５】
さらに詳細には、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が満たされる坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を坩堝９１１の一側、さらに詳細には、蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒータ９１２とを備える。
【０１２６】
蒸着源９１０の一側、詳細には、蒸着源９１０から基板５００に向かう側には蒸着源ノズル部９２０が配される。そして、蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル９２１は等間隔で形成されうる。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、このような蒸着源ノズル部９２０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。このように、蒸着源ノズル部９２０上にＹ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成する場合、パターニングスリットシート９５０のそれぞれのパターニングスリット９５１を通過する蒸着物質により形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル９２１の一つのサイズのみに影響されるので（すなわち、Ｘ軸方向には蒸着源ノズル９２１が一つだけ存在するので）、陰影が発生しなくなる。また、複数の蒸着源ノズル９２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス差が発生しても、その差が相殺されて蒸着均一度が一定に維持される効果を得ることができる。
【０１２７】
一方、蒸着源９１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられる。フレーム９５５は、窓枠状に形成され、その内側にパターニングスリットシート９５０が結合される。そして、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かうようになる。この時、前記パターニングスリットシート９５０は、従来のＦＭＭ、特にストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを通じて製作されうる。この時、蒸着源ノズル９２１の総数よりパターニングスリット９５１の総数がさらに多く形成されうる。
【０１２８】
一方、前述した蒸着源９１０及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、蒸着源９１０及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０が連結部材９３５により連結されて、互いに一体に形成されうる。ここで、連結部材９３５は、蒸着源ノズル９２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材９３５が蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０の左右方向のみに形成されて、蒸着物質のＸ軸方向のみをガイドすると図示されているが、これは図示の便宜のためのものであって、本発明の思想はこれに制限されず、連結部材９３５がボックス状の密閉型に形成されて、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向移動を同時にガイドすることもできる。
【０１２９】
前述したように、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー９００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着アセンブリー９００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート９５０は、基板５００から一定距離ほど離隔するように形成される。
【０１３０】
さらに詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良が発生するという問題点がある。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置の大型化につれてマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成し難いという問題点がある。
【０１３１】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー９００では、パターニングスリットシート９５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔するように配させる。
【０１３２】
このような本発明によってマスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行うことで、マスク製作が容易になる効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得ることができる。
【０１３３】
図１８は、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを示す図面である。図面を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。ここで、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が満たされる坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて、坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒータ９１２とを備える。一方、蒸着源９１０の一側には蒸着源ノズル部９２０が配され、蒸着源ノズル部９２０にはＹ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。一方、蒸着源９１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられ、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。そして、蒸着源９１０及び蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって結合される。
【０１３４】
本実施形態では、蒸着源ノズル部９２０に形成された複数の蒸着源ノズル９２１が所定角度チルトされて配されるという点で、前述した実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル９２１は２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂで形成され、前記２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは交互に配される。この時、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは、ＸＺ平面上で所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【０１３５】
すなわち、本実施形態では、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂを所定角度チルトして配する。ここで、第１列の蒸着源ノズル９２１ａは、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂに向かうようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル９２１ａに向かうようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル９２１ａは、パターニングスリットシート９５０の右側端部に向かうように配され、右側列に配された蒸着源ノズル９２１ｂは、パターニングスリットシート９５０の左側端部に向かうように配されうる。
【０１３６】
図１９は、本発明による薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面であり、図２０は、本発明による薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。図１９と図２０とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚さが相対的に増大して、蒸着膜の均一度が上昇することが分かる。
【０１３７】
このような構成によって、基板の中央と端部とでの成膜厚さ差が低減して、全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が増大する効果を得ることができる。
【０１３８】
ここで、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着装置では、２対のガイドレール及び前記それぞれのガイドレールに結合される複数のガイドブロックを備え、いずれか一つのガイドレールに沿って移送される基板に蒸着が行われる間、残りの一つのガイドレールに沿ってガイドブロックをローディング部に原位置させることで、基板の位置精密度を向上させると同時に、休止期間なしに連続的に蒸着を行わせることを一特徴とする。これについては、第１実施形態で詳細に説明したので、本実施形態ではその詳細な説明は省略する。
【０１３９】
図２１は、本発明の蒸着装置を用いて製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を図示したものである。
【０１４０】
図２１を参照すれば、前記アクティブマトリス型の有機発光表示装置は基板３０上に形成される。前記基板３０は透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材、または金属材で形成されうる。前記基板３０上には、全体的にバッファ層のような絶縁膜３１が形成されている。
【０１４１】
前記絶縁膜３１上には、図２１に示したようなＴＦＴ ４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０とが形成される。
【０１４２】
前記絶縁膜３１の上面には、所定パターンで配列された半導体活性層４１が形成されている。前記半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め立てられている。前記活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体で備えられうる。
【０１４３】
前記ゲート絶縁膜３２の上面には、前記活性層４１と対応する所にＴＦＴ ４０のゲート電極４２が形成される。そして、前記ゲート電極４２を覆うように層間絶縁膜３３が形成される。前記層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングのエッチング工程によって、前記ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングしてコンタクトホールを形成させて、前記活性層４１の一部を露出させる。
【０１４４】
次いで、前記層間絶縁膜３３上にソース／ドレイン電極４３が形成されるが、コンタクトホールを通じて露出された活性層４１に接触するように形成される。前記ソース／ドレイン電極４３を覆うように保護膜３４が形成され、エッチング工程を通じて前記ドレイン電極４３の一部を露出させる。前記保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために別途の絶縁膜をさらに形成してもよい。
【０１４５】
一方、前記有機発光素子６０は、電流のフローによって赤、緑、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するためのものであって、前記保護膜３４上に第１電極６１を形成する。前記第１電極６１は、ＴＦＴ ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。
【０１４６】
そして、前記第１電極６１を覆うように画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に所定の開口６４を形成した後、この開口６４で限定された領域内に有機発光膜６３を形成する。有機発光膜６３上には第２電極６２を形成する。
【０１４７】
前記画素定義膜３５は各画素を区切るものであって、有機物で形成されて、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護層３４の表面を平坦化する。
【０１４８】
前記第１電極６１と第２電極６２とは互いに絶縁されており、有機発光膜６３に相異なる極性の電圧を加えて発光がなされるようにする。
【０１４９】
前記有機発光膜６３は、低分子または高分子有機物が使われうるが、低分子有機物を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：Hole Injection Layer）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Hole Transport Layer）、発光層（ＥＭＬ：Emission Layer）、電子輸送層（ＥＴＬ：Electron Transport Layer）、電子注入層（ＥＩＬ：Electron Injection Layer）などが単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用できる。これら低分子有機物は、図１ないし図３に示した蒸着装置及び蒸着ソースユニット１０を用いて真空蒸着の方法で形成されうる。
【０１５０】
まず、画素定義膜３５に開口６４を形成した後、この基板３０を図１のようにチャンバ２０内に移送する。そして、第１蒸着ソース１１と第２蒸着ソース１２とに目標有機物を収納した後、蒸着する。この時、ホストとドーパントとを同時に蒸着させる場合には、第１蒸着ソース１１と第２蒸着ソース１２とにそれぞれホスト物質とドーパント物質とを収納して蒸着させる。
【０１５１】
このような有機発光膜を形成した後には、第２電極６２も同じ蒸着工程で形成できる。
【０１５２】
一方、前記第１電極６１はアノード電極の機能を行い、前記第２電極６２はカソード電極の機能を行えるが、もちろん、これら第１電極６１と第２電極６２との極性は逆になってもよい。そして、第１電極６１は、各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第２電極６２は、あらゆる画素を覆うように形成されうる。
【０１５３】
前記第１電極６１は、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で備えられ、反射型電極として使われる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物などで反射層を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３に透明電極層を形成できる。このような第１電極６１は、スパッタリング方法などにより成膜された後、フォトリソグラフィ法などによりパターニングされる。
【０１５４】
一方、前記第２電極６２も透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、この第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物が有機発光膜６３の方向に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われる時には、前記Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。この時、蒸着は前述した有機発光膜６３の場合と同じ方法で行える。
【０１５５】
本発明はこれ以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無期膜などの蒸着にも使用できて、その他に多様な素材の成膜工程に適用できる。
【０１５６】
本発明は図面に図示された実施形態を参考として説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるだろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１５７】
本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１５８】
１００ 薄膜蒸着アセンブリー
１１０ 蒸着源
１２０ 蒸着源ノズル部
１３０ 遮断板アセンブリー
１３１ 遮断板
１３２ 遮断板フレーム
１５０ パターニングスリットシート
１５５ フレーム
５００ 基板
６００ 静電チャック
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法に係り、さらに詳細には、大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まりを向上する薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置のうち、有機発光表示装置は視野角が広くてコントラストが優れているだけでなく、応答速度が速いという長所を持っており、よって次世代ディスプレイ装置として注目されている。
【０００３】
有機発光表示装置は、互いに対向する第１電極と第２電極との間に発光層及びこれを含む中間層を備える。この時、前記電極及び中間層はいろいろな方法で形成されうるが、そのうち一つの方法が独立蒸着方式である。蒸着方法を用いて有機発光表示装置を製作するためには、薄膜などが形成される基板面に、形成される薄膜などのパターンと同じパターンを持つファインメタルマスク（Fine Metal Mask：ＦＭＭ）を密着させ、薄膜などの材料を蒸着して所定パターンの薄膜を形成する。
【０００４】
しかし、これらのＦＭＭを用いる方法は、５Ｇ以上のマザーガラスを使用する大面積化には適していないという限界がある。すなわち、大面積マスクを使用すれば、自重によりマスクの反り現象が発生するが、この反り現象によるパターンの歪曲が発生しうるためである。これは、パターンに高精細を要する現在の傾向に反することである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、前記のような従来のＦＭＭを用いた蒸着方法の限界を乗り越えるためのものであって、大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングの可能な薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、チャンバと、前記チャンバの内部に配され、かつ前記静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部と、前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部と、前記基板が固定された静電チャックを前記ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部と、を備え、前記第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールと、前記第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロックと、前記第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロックとを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置を提供する。
【０００７】
本発明において、前記２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、前記チャンバに貫設されるが、前記１対の第１ガイドレールが前記１対の第２ガイドレールの外側に配されるように形成し、前記第１ガイドブロックは、前記第１ガイドレールに沿って直線往復動し、前記第２ガイドブロックは、前記第２ガイドレールに沿って直線往復動する。
【０００８】
ここで、前記基板を固定している前記静電チャックが前記第１ガイドブロックまたは第２ガイドブロック上に配されて、前記基板が前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って直線往復動できる。
【０００９】
ここで、前記第１ガイドブロックと前記第２ガイドブロックとは、互いに独立して直線往復動する。
【００１０】
本発明において、前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備える。
【００１１】
ここで、前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成される。
【００１２】
ここで、前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成される。
【００１３】
本発明において、前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、ＬＭレール（linear motion rail）であり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックは、ＬＭブロック（linear motion block）である。
【００１４】
本発明において、前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられうる。
【００１５】
本発明において、前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられた第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記第１チャンバと第２チャンバとが互いに連係している。
【００１６】
本発明において、前記薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが配されるパターニングスリットシートと、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、前記薄膜蒸着アセンブリーは前記基板と離隔するように配され、前記薄膜蒸着アセンブリーと前記基板とは、互いに相対的に移動する。
【００１７】
前記薄膜蒸着アセンブリーの前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
【００１８】
前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成される。
【００１９】
前記複数の遮断板は等間隔で配される。
【００２０】
前記遮断板アセンブリーは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリーと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリーと、を備える。
【００２１】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成される。
【００２２】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配される。
【００２３】
前記互いに対応する第１遮断板及び第２遮断板は、実質的に同じ平面上に位置するように配される。
【００２４】
本発明において、前記薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着物質を放射する蒸着源と、前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成される。
【００２５】
前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成される。
【００２６】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドする。
【００２７】
前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成される。
【００２８】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定ほど離隔するように形成される。
【００２９】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着される。
【００３０】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成される。
【００３１】
本発明において、前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成される。
【００３２】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされている。
【００３３】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向かうように配され、前記二列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向かうように配される。
【００３４】
他の側面に関する本発明は、被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部、前記基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部、及び前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部を備える薄膜蒸着装置を用いた有機発光表示装置の製造方法において、前記ローディング部で前記基板を前記静電チャックで固定させる段階と、第１ガイドレールに沿って移動するように形成された第１ガイドブロックまたは第２ガイドレールに沿って移動するように形成された第２ガイドブロック上に、前記基板が固定された前記静電チャックを配する段階と、前記基板と前記薄膜蒸着アセンブリーとの相対的移動により、前記薄膜蒸着アセンブリーで放射された蒸着物質が前記基板に蒸着される段階と、前記アンローディング部から前記静電チャックが、前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックから分離される段階と、前記静電チャックが分離された前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックが、前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って前記ローディング部方向に移動する段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【００３５】
本発明において、前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備える。
【００３６】
前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成される。
【００３７】
前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成される。
【００３８】
本発明において、前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールはＬＭレールであり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックはＬＭブロックである。
【００３９】
本発明において、前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられて、各薄膜蒸着アセンブリーにより前記基板に連続的に蒸着が行われる。
【００４０】
本発明において、前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられ、互いに連係した第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記基板が、前記第１チャンバ及び第２チャンバにわたって移動しつつ連続的に蒸着が行われる。
【発明の効果】
【００４１】
本発明の薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法によれば、製造が容易であり、大型基板の量産工程に容易に適用でき、歩留まり及び蒸着効率が向上し、蒸着物質のリサイクルが容易になる効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置を概略的に示すシステム構成図である。
【図２】図１の変形例を示す図面である。
【図３】図１の静電チャックの一例を示す概略面である。
【図４】図１の薄膜蒸着装置の第１循環部を概略的に示す斜視図である。
【図５】図４の第１循環部で、第１静電チャック及び第１ガイドブロックを示す平面図である。
【図６】図４の第１循環部で、第２静電チャック及び第２ガイドブロックを示す平面図である。
【図７】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図８】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図９】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図１０】図１の薄膜蒸着装置で、ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。
【図１１】図１の薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１２】図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側断面図である。
【図１３】図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平断面図である。
【図１４】本発明の他の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１５】本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【図１６】図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側面図である。
【図１７】図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平面図である。
【図１８】本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを図示した斜視図である。
【図１９】図１８の薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【図２０】図１８の薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。
【図２１】本発明の蒸着装置を用いて製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
以下、添付した図面を参照して本発明による望ましい実施形態を詳細に説明すれば、次の通りである。
【００４４】
図１は、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着装置を概略的に図示したシステム構成の上方から見た平面図であり、図２は、図１の変形例を図示したものである。図３は、後述する構成にて反転された静電チャック６００の一例を示す概略側面図である。
【００４５】
図１を参照すれば、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置は、ローディング部７１０、蒸着部７３０、アンローディング部７２０、第１循環部６１０及び第２循環部６２０を備える。
【００４６】
ローディング部７１０は、第１ラック７１２と、導入ロボット７１４と、導入室７１６と、第１反転室７１８とを備えることができる。
【００４７】
第１ラック７１２には蒸着が行われる前の基板５００が多く積載されており、導入ロボット７１４は、前記第１ラック７１２から基板５００を捉えて第２循環部６２０から移送されてきた静電チャック６００に基板５００を載置した後、基板５００が付着された静電チャック６００を導入室７１６に移す。
【００４８】
導入室７１６に隣接して第１反転室７１８が備えられ、第１反転室７１８に位置した第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させて、静電チャック６００を蒸着部７３０の第１循環部６１０に装着する。
【００４９】
静電チャック６００は、図３から分かるように、セラミックからなる本体６９１の内部に電源が印加される電極６９２が埋め立てられたものであって、この電極６９２に高電圧が印加されることによって本体６９１の表面に基板５００を付着させることである。
【００５０】
図１からみれば、導入ロボット７１４は、静電チャック６００の上面に基板５００を載せ、この状態で静電チャック６００は導入室７１６に移送され、第１反転ロボット７１９が静電チャック６００を反転させることによって、蒸着部７３０では基板５００が下方を向かうように位置する。
【００５１】
アンローディング部７２０の構成は、前述したローディング部７１０の構成と逆に構成される。すなわち、蒸着部７３０を経た基板５００及び静電チャック６００を、第２反転室７２８で第２反転ロボット７２９が反転させて搬出室７２６に移送し、搬出ロボット７２４が搬出室７２６から基板５００及び静電チャック６００を取り出した後、基板５００を静電チャック６００から分離して第２ラック７２２に積載する。基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０を通じてローディング部７１０に回送される。
【００５２】
しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、基板５００が静電チャック６００に最初に固定される時から静電チャック６００の下面に基板５００を固定させて、そのまま蒸着部７３０に移送させてもよい。この場合、例えば、第１反転室７１８及び第１反転ロボット７１９と第２反転室７２８及び第２反転ロボット７２９は必要なくなる。
【００５３】
蒸着部７３０は少なくとも一つの蒸着用チャンバを備える。図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は第１チャンバ７３１を備え、この第１チャンバ７３１内に複数の薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００が配される。図１に図示された本発明の望ましい一実施形態によれば、前記第１チャンバ７３１内に第１薄膜蒸着アセンブリー１００、第２薄膜蒸着アセンブリー２００、第３薄膜蒸着アセンブリー３００及び第４薄膜蒸着アセンブリー４００の４つの薄膜蒸着アセンブリーが設けられているが、その数字は蒸着物質及び蒸着条件によって可変できる。前記第１チャンバ７３１は、蒸着が進む間に真空に維持される。
【００５４】
また、図２による本発明の他の一実施形態によれば、前記蒸着部７３０は互いに連係した第１チャンバ７３１及び第２チャンバ７３２を備え、第１チャンバ７３１には第１及び２薄膜蒸着アセンブリー１００及び２００が、第２チャンバ７３２には第３及び４薄膜蒸着アセンブリー３００及び４００が配されうる。この時、チャンバの数が追加されうるということは言うまでもない。
【００５５】
一方、図１による本発明の望ましい一実施形態によれば、前記基板５００が固定された静電チャック６００は、第１循環部６１０により少なくとも蒸着部７３０に、望ましくは、前記ローディング部７１０、蒸着部７３０及びアンローディング部７２０に順次移動し、前記アンローディング部７２０で基板５００と分離された静電チャック６００は、第２循環部６２０により前記ローディング部７１０に戻される。
【００５６】
前記第１循環部６１０は、前記蒸着部７３０を通過する時に前記第１チャンバ７３１を貫通するように備えられ、前記第２循環部６２０は、静電チャックが移送されるように備えられる。
【００５７】
図４は、図１の薄膜蒸着装置の第１循環部を概略的に示す斜視図であり、図５は、図４の第１循環部で第１静電チャック及び第１ガイドブロックの断面を第１反転ロボット７１９側又は第２反転ロボット７２９側から見た図であり、図６は、図４の第１循環部で第２静電チャック及び第２ガイドブロックの断面を第１反転ロボット７１９側又は第２反転ロボット７２９側から見た図である。
【００５８】
図４ないし図６を参照すれば、第１循環部６１０は、基板５００を固定している静電チャック６０１及び６０２を移動させる役割を行う。ここで、第１循環部６１０は、支持台６１１と、前記支持台６１１上に形成された２対のガイドレール６１３、６１７と、前記２対のガイドレール６１３、６１７上にそれぞれ形成された複数のガイドブロック６１５、６１９とを備える。これをさらに詳細に説明すれば、次の通りである。
【００５９】
前述したように本発明では、基板が固定された静電チャックがチャンバ内部で直線運動しつつ蒸着が行われる。この場合、既存の移送方式であるローラやコンベヤーベルトを使用すれば、基板の位置精密度が落ちるため、基板の精密な移送のためには、ガイドレールとガイドブロックとで形成されたリニアモーションシステムを用いることが望ましい。ところが、基板の精密な移送のためには、すなわち、直線運動の精密度を保証するためには、ガイドレールとガイドブロックとの間の間隔を最小化せねばならず、ガイドレールとガイドブロックとの間のボールベアリングのサイズを大きくするか、またはガイドレールに弾性変形を加え、かつ予圧を印加してクリアランスを最小化せねばならない。この場合、ガイドレールとガイドブロックとは互いに密着結合されて分離できなくなるが、このような構造では、蒸着が完了した後、ガイドブロックがローディング部に原位置する間に蒸着が行われることができないので、タクトタイム（tact time）が長くなって収率が低下するという問題点が存在している。
【００６０】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置では、２対のガイドレール及び前記それぞれのガイドレールに結合される複数のガイドブロックを備えて、いずれか一つのガイドレールに沿って移送される基板に蒸着が行われる間、残りの一つのガイドレールに沿ってガイドブロックをローディング部に原位置させることで、基板の位置精密度を向上させると同時に、休止期間なしに連続的に蒸着を行わせることを一特徴とする。
【００６１】
さらに詳細には、前記支持台６１１と、支持台６１１上に形成された２対のガイドレール６１３、６１７とは前記蒸着部７３０のチャンバ、例えば、図１の実施形態では第１チャンバ７３１、図２の実施形態では第１チャンバ７３１と第２チャンバ７３２とを貫通するように設けられる。
【００６２】
支持台６１１の上部は概略扁平な平面に形成されており、前記支持台６１１の上部面上には２対のガイドレール６１３、６１７が形成されている。さらに詳細には、１対の第１ガイドレール６１３は支持台６１１の外側に形成され、１対の第２ガイドレール６１７は支持台６１１の内側に形成される。
【００６３】
一方、第１ガイドレール６１３には第１ガイドブロック６１５が挟み込まれて、第１ガイドブロック６１５が前記第１ガイドレール６１３に沿って往復動し、第２ガイドレール６１７には第２ガイドブロック６１９が挟み込まれて、第２ガイドブロック６１９が前記第２ガイドレール６１３に沿って往復動する。
【００６４】
前記第１ガイドブロック６１５及び前記第２ガイドブロック６１９には所定の駆動部（図示せず）が備えられうる。駆動部（図示せず）は、第１ガイドブロック６１５及び第２ガイドブロック６１９を第１ガイドレール６１３及び第２ガイドレール６１７に沿って移動させる部材であって、それ自体から駆動力を提供するものであってもよく、別途の駆動源からの駆動力を第１ガイドブロック６１５及び第２ガイドブロック６１９に伝達するものであってもよい。
【００６５】
一方、静電チャック（図１の６００参照）は、第１静電チャック６０１及び第２静電チャック６０２を備える。第１静電チャック６０１の下部面の第２ガイドブロック６１９と対応する領域には、第１静電チャック６０１と第２ガイドブロック６１９とが互いに接触しないように第１陥没部６０１ａが形成されている。すなわち、第１静電チャック６０１は、第１ガイドブロック６１５のみと接触しており、したがって、第１ガイドブロック６１５の上部に配された第１静電チャック６０１が第１ガイドレール６１３に沿って移動する時、第２ガイドブロック６１９にその移動経路が干渉されない。
【００６６】
同様に、第２静電チャック６０２の下部面の第１ガイドブロック６１５と対応する領域には、第２静電チャック６０２と第１ガイドブロック６１５とが互いに接触しないように第２陥没部６０２ａが形成されている。すなわち、第２静電チャック６０２は、第２ガイドブロック６１９のみと接触しており、したがって、第２ガイドブロック６１９の上部に配された第２静電チャック６０２が第２ガイドレール６１７に沿って移動する時、第１ガイドブロック６１５にその移動経路が干渉されない。
【００６７】
このような構成によって、第１ガイドブロック６１５は、第２静電チャック６０２と干渉せずに直線往復動を行え、同時に、第２ガイドブロック６１９は、第１静電チャック６０１と干渉せずに直線往復動を行える。
【００６８】
ここで、前記ガイドレール６１３、６１７としてＬＭレール（Linear Motion rail）を備え、前記ガイドブロック６１５、６１９としてＬＭブロック（Linear Motion block）を備え、所定のＬＭシステムを構成できる。ＬＭシステムは、過去の滑り案内システムに比べて摩擦係数が小さくて位置誤差がほとんど発生しなくて位置精密度が非常に高い移送システムであり、本明細書では、このようなＬＭシステムについてはその詳細な説明を省略する。
【００６９】
次いで、前記第１ガイドブロック６１５（及びその上に配された第１静電チャック６０１）と、前記第２ガイドブロック６１９（及びその上に配された第２静電チャック６０２）との循環メカニズムについて説明する。
【００７０】
図７ないし図１０は、前記ガイドブロックの循環メカニズムを示す図面である。ここで、説明の便宜のために第１ガイドブロック上に配された第１静電チャックと、第２ガイドブロック上に配された第２静電チャックとは図示していないが、実際の蒸着過程では、前記それぞれの第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃ上にはそれぞれ第１静電チャックが配され、前記それぞれの第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃ上にはそれぞれ第２静電チャックが配されると想定できる。
【００７１】
また、図面には、第１ガイドブロックと第２ガイドブロックとが３対ずつ備えられていると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、薄膜蒸着装置の製品仕様によって、前記ガイドブロックの数は多様に適用できるといえる。ただし、タクトタイムの短縮のために、第１ガイドブロック同士と第２ガイドブロック同士とはそれぞれ密集して配されることが望ましい。すなわち、第１ガイドブロックと第２ガイドブロックとが交互に配されるものではなく、複数の第１ガイドブロックが順に配された後、その一側に複数の第２ガイドブロックが順に配されることが望ましいといえる。
【００７２】
まず、図７を参照すれば、複数の第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃは、第１ガイドレール６１３に沿って矢印Ｄ方向に移動し、同時に複数の第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは、第２ガイドレール６１７に沿って矢印Ｄ方向に移動する。この過程で、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００から放射される蒸着物質が基板（図４の５００参照）上に蒸着される。（すなわち、ガイドレール上にガイドブロックが配されて、ガイドブロック上に静電チャックが安着して、静電チャックに基板が結合されている。）。
【００７３】
次いで、図８に図示されたように、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００を完全に通過して蒸着が完了した第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは、薄膜蒸着アセンブリー４００の一側に集まる。この時、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００を完全に通過した第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃの上部に配された第２静電チャック（図４の６０２参照）は、アンローディング部（図１の７２０参照）により第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃから分離され、前記分離された第２静電チャック（図４の６０２参照）は、第２循環部（図１の６２０参照）を通じてローディング部（図１の７１０参照）に原位置する。
【００７４】
次いで、図９に図示されたように、第２静電チャック（図４の６０２参照）が分離された第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは、矢印Ｄの逆方向に移動してローディング部（図１の７１０参照）側に原位置することで、次の蒸着を用意する。この時、第１静電チャック（図４の６０１参照）には第１陥没部（図４の６０１ａ参照）が形成されているため、第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃは何の干渉も受けずに矢印Ｄの逆方向に移動できる。
【００７５】
次いで、図１０に図示されたように、ローディング部（図１の７１０参照）に原位置した第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃに、基板（図１の５００参照）が付着された第２静電チャックが装着された後、第２ガイドブロック６１９ａ、６１９ｂ、６１９ｃが第２ガイドレール６１７に沿って矢印Ｄ方向に移動しつつ、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００から放射される蒸着物質が基板（図４の５００参照）上に連続的に蒸着される。
【００７６】
同様に、薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００を完全に通過して蒸着が完了した第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃから第１静電チャックが分離された後、第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃが矢印Ｄの逆方向に移動してローディング部（図１の７１０参照）側に原位置することで、次の蒸着のために準備する。この時、第２静電チャック（図４の６０２参照）には第２陥没部（図４の６０２ａ参照）が形成されているため、第１ガイドブロック６１５ａ、６１５ｂ、６１５ｃは、何の干渉も受けずに矢印Ｄの逆方向に移動できることである。
【００７７】
かかる本発明によって、２対のガイドレール及び前記それぞれのガイドレールに結合される複数のガイドブロックを備えて、いずれか一つのガイドレールに沿って移送される基板に蒸着が行われる間、残りの一つのガイドレールに沿ってガイドブロックをローディング部に原位置させることで、基板の位置精密度を向上させると同時に、休止期間なしに連続的に蒸着が行われる効果を得ることができる。
【００７８】
次いで、本発明の一実施形態による薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリー１００を説明する。図１１は、図１の薄膜蒸着装置の薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図であり、図１２は、図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側断面図であり、図１３は、図１１の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平断面図である。
【００７９】
図１１ないし図１３を参照すれば、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、遮断板アセンブリー１３０及びパターニングスリット１５１を備える。
【００８０】
ここで、図１１ないし図１３には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１１ないし図１３のあらゆる構成は、適切な真空度が維持される第１チャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【００８１】
さらに詳細には、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリット１５１を通過して基板５００に所望のパターンに蒸着させるためには、基本的にチャンバ（図示せず）の内部は高真空状態を維持せねばならない。また遮断板１３１及びパターニングスリットシート１５０の温度が蒸着源１１０の温度より十分に低くて初めて（約１００℃以下）、蒸着源ノズル１２１とパターニングスリット１５１との間の空間を高真空状態に維持できる。このように、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０との温度が十分に低ければ、願わない方向に放射される蒸着物質１１５はいずれも遮断板アセンブリー１３０面に吸着されて高真空を維持できるため、蒸着物質間の衝突が発生しなくて蒸着物質の直進性を確保できるようになる。この時、遮断板アセンブリー１３０は高温の蒸着源１１０に向かっており、蒸着源１１０と近いところは最大１６７℃ほど温度が上昇するため、必要な場合、部分冷却装置（図示せず）がさらに備えられうる。
【００８２】
このような第１チャンバ内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００により移送される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【００８３】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー１００に対して相対的に移動するが、望ましくは、薄膜蒸着アセンブリー１００に対して基板５００をＡ方向に移動させることができる。
【００８４】
さらに詳細には、既存ＦＭＭ蒸着方法では、マスクのサイズが基板サイズと同一またこれより大きくなければならなかった。したがって、基板サイズが増大するほどマスクも大型化せねばならず、したがって、このような大型のマスクの製作が容易ではなく、マスクを引っ張って精密なパターンにアラインすることも容易ではないという問題点がある。
【００８５】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われることを一特徴とする。言い換えれば、薄膜蒸着アセンブリー１００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着する。すなわち、基板５００が図１１の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われることである。ここで、図面には、基板５００がチャンバ（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板５００は固定されており、薄膜蒸着アセンブリー１００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。
【００８６】
したがって、本発明の薄膜蒸着アセンブリー１００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリー１００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅と基板５００のＸ軸方向への幅のみ実質的に同一に形成されれば、パターニングスリットシート１５０のＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成されても構わない。もちろん、パターニングスリットシート１５０のＸ軸方向への幅が基板５００のＸ軸方向への幅より小さく形成されるとしても、基板５００と薄膜蒸着アセンブリー１００との相対的移動によるスキャニング方式により、十分に基板５００全体に対して蒸着できるようになる。
【００８７】
このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート１５０を設けることができるため、本発明のパターニングスリットシート１５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート１５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【００８８】
このように、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００とが一定距離ほど離隔することが望ましい。これについては、後述する。
【００８９】
一方、第１チャンバ内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
【００９０】
前記蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が満たされる坩堝１１２と、この坩堝１１２を取り囲む冷却ブロック１１１とが備えられる。冷却ブロック１１１は、坩堝１１２からの熱が外部、すなわち、第１チャンバの内部に発散されることを最大限抑制するためのものであり、この冷却ブロック１１１には坩堝１１１を加熱させるヒータ（図示せず）が備えられている。
【００９１】
蒸着源１１０の一側、さらに詳細には、蒸着源１１０から基板５００に向かう側には蒸着源ノズル部１２０が配される。そして、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル１２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル１２１は等間隔で形成されうる。蒸着源１１０内で気化した蒸着物質１１５は、このような蒸着源ノズル部１２０の蒸着源ノズル１２１を通過して、被蒸着体である基板５００側に向かう。
【００９２】
蒸着源ノズル部１２０の一側には遮断板アセンブリー１３０が備えられる。前記遮断板アセンブリー１３０は、複数の遮断板１３１と、遮断板１３１の外側に備えられる遮断板フレーム１３２とを備える。前記複数の遮断板１３１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に配されうる。ここで、前記複数の遮断板１３１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの遮断板１３１は、図面からみれば、ＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、長方形に備えられうる。このように配された複数の遮断板１３１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリット１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切る。すなわち、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、前記遮断板１３１によって、図１３から分かるように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間Ｓが分離される。
【００９３】
ここで、それぞれの遮断板１３１は、互いに隣接している蒸着源ノズル１２１の間に配されうる。これは、言い換えれば、互いに隣接している遮断板１３１の間に一つの蒸着源ノズル１２１が配されることである。望ましくは、蒸着源ノズル１２１は、互いに隣接している遮断板１３１間の正中央に位置できる。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されず、互いに隣接している遮断板１３１の間に複数の蒸着源ノズル１２１が配されてもよい。ただし、この場合にも、複数の蒸着源ノズル１２１を互いに隣接している遮断板１３１の間の正中央に位置させることが望ましい。
【００９４】
このように、遮断板１３１が蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を複数の蒸着空間Ｓに区切ることによって、一つの蒸着源ノズル１２１から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１５１を通過して基板５００に蒸着されることである。すなわち、前記遮断板１３１は、各蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されずに直進性を維持するように、蒸着物質のＺ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９５】
このように、遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影（shadow）のサイズを大幅に縮めることができ、したがって、薄膜蒸着アセンブリー１００と基板５００を一定距離ほど離隔させることができる。これについては、後述する。
【００９６】
一方、前記複数の遮断板１３１の外側には、遮断板フレーム１３２がさらに備えられうる。遮断板フレーム１３２は、複数の遮断板１３１の側面にそれぞれ備えられて、複数の遮断板１３１の位置を固定させると同時に、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質がＹ軸方向に分散されないように、蒸着物質のＹ軸方向の移動経路をガイドする役割を行う。
【００９７】
前記蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０とは一定距離ほど離隔されたことが望ましい。これにより、蒸着源１１０から発散される熱が遮断板アセンブリー１３０に伝導されることを防止できる。しかし、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０との間に適切な断熱手段が備えられる場合、蒸着源ノズル部１２０と遮断板アセンブリー１３０とが結合して接触してもよい。
【００９８】
一方、前記遮断板アセンブリー１３０は、薄膜蒸着アセンブリー１００から着脱自在に形成されうる。本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００では、遮断板アセンブリー１３０を用いて蒸着空間を外部空間と分離したので、基板５００に蒸着されていない蒸着物質は、大部分遮断板アセンブリー１３０内に蒸着される。したがって、遮断板アセンブリー１３０を薄膜蒸着アセンブリー１００から着脱自在に形成して、長時間蒸着後に遮断板アセンブリー１３０に蒸着物質が多く溜まれば、遮断板アセンブリー１３０を薄膜蒸着アセンブリー１００から分離して、別途の蒸着物質リサイクル装置に入れて蒸着物質を回収できる。このような構成を通じて、蒸着物質リサイクル率を高めることによって、蒸着効率が向上してコストダウン効果を得ることができる。
【００９９】
一方、蒸着源１１０と基板５００との間にはパターニングスリットシート１５０及びフレーム１５５がさらに備えられる。前記フレーム１５５は、窓枠状に形成され、その内側にパターニングスリットシート１５０が結合される。そして、パターニングスリットシート１５０にはＸ軸方向に沿って複数のパターニングスリット１５１が形成される。各パターニングスリット１５１はＹ軸方向に沿って延びている。蒸着源１１０内で気化して蒸着源ノズル１２１を通過した蒸着物質１１５は、パターニングスリット１５１を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。
【０１００】
前記パターニングスリットシート１５０は金属薄板で形成され、引張られた状態でフレーム１５５に固定される。前記パターニングスリット１５１は、ストライプタイプであって、パターニングスリットシート１５０にエッチングを通じて形成される。
【０１０１】
ここで、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源ノズル１２１の総数より、パターニングスリット１５１の総数がさらに多く形成される。また、互いに隣接している２つの遮断板１３１の間に配された蒸着源ノズル１２１の数より、パターニングスリット１５１の数がさらに多く形成される。前記パターニングスリット１５１の数は、基板５００に形成される蒸着パターンの数に対応させることが望ましい。
【０１０２】
一方、前述した遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とは、別途の連結部材１３５によって互いに連結されうる。さらに詳細には、高温状態の蒸着源１１０により、遮断板アセンブリー１３０の温度は最大１００℃以上上昇するため、上昇した遮断板アセンブリー１３０の温度がパターニングスリットシート１５０に伝導されないように、遮断板アセンブリー１３０とパターニングスリットシート１５０とを一定距離ほど離隔させることである。
【０１０３】
前述したように、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着アセンブリー１００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１５０は基板５００から一定距離ほど離隔するように形成される。そして、パターニングスリットシート１５０と基板５００とを離隔させる場合に発生する陰影問題を解決するために、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間に遮断板１３１を備えて蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影のサイズを大幅に縮めたことである。
【０１０４】
従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影が生じないようにするために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触により基板に既に形成されていたパターンがかかれるなど、不良が発生するという問題点が存在している。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化することによってマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成し難いという問題点がある。
【０１０５】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００では、パターニングスリットシート１５０が被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔するように配させる。これは、遮断板１３１を備えて、基板５００に生成される陰影が小さくなることによって実現可能になる。
【０１０６】
このような本発明によってパターニングスリットシートを基板より小さく形成した後、このパターニングスリットシートを基板に対して相対移動させることによって、従来ＦＭＭ方法のように大きいマスクを製作しなくて済むようになった。また、基板とパターニングスリットシートとの間が離隔されているために、互いの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で基板とパターニングスリットシートとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得ることができる。
【０１０７】
図１４は、本発明の望ましい他の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリーを概略的に示す斜視図である。
【０１０８】
図１４に図示された実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー１００は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、第１遮断板アセンブリー１３０、第２遮断板アセンブリー１４０、パターニングスリットシート１５０を備える。
【０１０９】
ここで、図１４には説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１４のあらゆる構成は、適切な真空度が維持されるチャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。
【０１１０】
このようなチャンバ（図示せず）内には被蒸着体である基板５００が配される。そして、チャンバ（図示せず）内で基板５００と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配される。
【０１１１】
蒸着源１１０及びパターニングスリットシート１５０の詳細な構成は、前述した図１１による実施形態と同一であるので、詳細な説明を省略する。そして、前記第一遮断板アセンブリー１３０は、図１１による実施形態の遮断板アセンブリーと同一であるので、やはり詳細な説明は省略する。
【０１１２】
本実施形態では、第１遮断板アセンブリー１３０の一側に第２遮断板アセンブリー１４０が備えられる。前記第２遮断板アセンブリー１４０は、複数の第２遮断板１４１と、第２遮断板１４１の外側に備えられる第２遮断板フレーム１４２とを備える。
【０１１３】
前記複数の第２遮断板１４１は、Ｘ軸方向に沿って互いに平行に備えられうる。そして、前記複数の第２遮断板１４１は等間隔で形成されうる。また、それぞれの第２遮断板１４１は、図面からみた時にＹＺ平面と平行に、言い換えれば、Ｘ軸方向に垂直に形成される。
【０１１４】
このように配された複数の第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１５０との間の空間を区切る役割を行う。すなわち、前記第１遮断板１３１及び第２遮断板１４１によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間が分離されることを一特徴とする。
【０１１５】
ここで、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１と一対一対応するように配されうる。言い換えれば、それぞれの第２遮断板１４１は、それぞれの第１遮断板１３１とアラインされて互いに平行に配されうる。すなわち、互いに対応する第１遮断板１３１と第２遮断板１４１とは、互いに同じ平面上に位置する。図面には、第１遮断板１３１の長さと第２遮断板１４１のＸ軸方向の幅とが同一であると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されるものではない。すなわち、パターニングスリット１５１との精密なアラインが要求される第２遮断板１４１は相対的に薄く形成される一方、精密なアラインが要求されない第１遮断板１３１は相対的に厚く形成されて、その製造を容易にすることも可能であるといえる。
【０１１６】
以上説明したような薄膜蒸着アセンブリー１００は、図１から分かるように、第１チャンバ７３１内に複数が連続して配されうる。この場合、各薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００は相異なる蒸着物質を蒸着させることができ、この時、各薄膜蒸着アセンブリー１００、２００、３００、４００のパターニングスリットのパターンを相異なるパターンにして、例えば、赤、緑、青色の画素を一括蒸着するなどの成膜工程を進めることができる。
【０１１７】
図１５は、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００を概略的に示す斜視図であり、図１６は、図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な側面図であり、図１７は、図１５の薄膜蒸着アセンブリーの概略的な平面図である。
【０１１８】
図１５ないし図１７を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリー９００は、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。
【０１１９】
ここで、図１５ないし図１７には、説明の便宜のためにチャンバを図示していないが、図１５ないし図１７のあらゆる構成は、適切な真空度が維持される第１チャンバ内に配されることが望ましい。これは、蒸着物質９１５の直進性を確保するためである。
【０１２０】
そして、第１チャンバ（図示せず）内には、被蒸着体である基板５００が静電チャック６００により移送される。前記基板５００は、平板表示装置用基板になりうるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような大面積基板が適用されうる。
【０１２１】
ここで、本発明の一実施形態では、基板５００が薄膜蒸着アセンブリー９００に対して相対的に移動しつつ蒸着が進まれることを一特徴とする。さらに詳細には、薄膜蒸着アセンブリー９００と対向するように配された基板５００が、Ｙ軸方向に沿って移動しつつ連続的に蒸着を行う。すなわち、基板５００が図１５の矢印Ａ方向に移動しつつスキャニング方式で蒸着が行われることである。ここで、図面には基板５００がチャンバ内でＹ軸方向に移動しつつ蒸着が行われると図示されているが、本発明の思想はこれに制限されず、基板５００は固定されており、薄膜蒸着アセンブリー９００自体がＹ軸方向に移動しつつ蒸着を行うことも可能であるといえる。
【０１２２】
したがって、本発明の薄膜蒸着アセンブリー９００では、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を設けることができる。すなわち、本発明の薄膜蒸着アセンブリー９００の場合、基板５００がＹ軸方向に沿って移動しつつ連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うため、パターニングスリットシート９５０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さは、基板５００の長さより非常に小さく形成されうる。このように、従来のＦＭＭに比べて非常に小さくパターニングスリットシート９５０を設けることができるため、本発明のパターニングスリットシート９５０はその製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート９５０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などのあらゆる工程で、小サイズのパターニングスリットシート９５０がＦＭＭ蒸着方法に比べて有利である。また、これはディスプレイ装置が大型化するほどさらに有利になる。
【０１２３】
このように、薄膜蒸着アセンブリー９００と基板５００とが互いに相対的に移動しつつ蒸着が行われるためには、薄膜蒸着アセンブリー９００と基板５００とが一定距離ほど離隔することが望ましい。これについては、後述する。
【０１２４】
一方、チャンバ内で前記基板５００と対向する側には、蒸着物質９１５が収納及び加熱される蒸着源９１０が配される。前記蒸着源９１０内に収納されている蒸着物質９１５が気化することで基板５００に蒸着が行われる。
【０１２５】
さらに詳細には、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が満たされる坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を坩堝９１１の一側、さらに詳細には、蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒータ９１２とを備える。
【０１２６】
蒸着源９１０の一側、詳細には、蒸着源９１０から基板５００に向かう側には蒸着源ノズル部９２０が配される。そして、蒸着源ノズル部９２０には、Ｙ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。ここで、前記複数の蒸着源ノズル９２１は等間隔で形成されうる。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、このような蒸着源ノズル部９２０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かう。このように、蒸着源ノズル部９２０上にＹ軸方向、すなわち、基板５００のスキャン方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成する場合、パターニングスリットシート９５０のそれぞれのパターニングスリット９５１を通過する蒸着物質により形成されるパターンのサイズは、蒸着源ノズル９２１の一つのサイズのみに影響されるので（すなわち、Ｘ軸方向には蒸着源ノズル９２１が一つだけ存在するので）、陰影が発生しなくなる。また、複数の蒸着源ノズル９２１がスキャン方向に存在するので、個別蒸着源ノズル間のフラックス差が発生しても、その差が相殺されて蒸着均一度が一定に維持される効果を得ることができる。
【０１２７】
一方、蒸着源９１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられる。フレーム９５５は、窓枠状に形成され、その内側にパターニングスリットシート９５０が結合される。そして、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。蒸着源９１０内で気化した蒸着物質９１５は、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を通過して被蒸着体である基板５００側に向かうようになる。この時、前記パターニングスリットシート９５０は、従来のＦＭＭ、特にストライプタイプのマスクの製造方法と同じ方法であるエッチングを通じて製作されうる。この時、蒸着源ノズル９２１の総数よりパターニングスリット９５１の総数がさらに多く形成されうる。
【０１２８】
一方、前述した蒸着源９１０及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、蒸着源９１０及びこれと結合された蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって互いに連結されうる。すなわち、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０が連結部材９３５により連結されて、互いに一体に形成されうる。ここで、連結部材９３５は、蒸着源ノズル９２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように蒸着物質の移動経路をガイドできる。図面には、連結部材９３５が蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０の左右方向のみに形成されて、蒸着物質のＸ軸方向のみをガイドすると図示されているが、これは図示の便宜のためのものであって、本発明の思想はこれに制限されず、連結部材９３５がボックス状の密閉型に形成されて、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向移動を同時にガイドすることもできる。
【０１２９】
前述したように、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー９００は、基板５００に対して相対的に移動しつつ蒸着を行い、このように薄膜蒸着アセンブリー９００が基板５００に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート９５０は、基板５００から一定距離ほど離隔するように形成される。
【０１３０】
さらに詳細には、従来のＦＭＭ蒸着方法では、基板に陰影を生じさせないために、基板にマスクを密着させて蒸着工程を進めた。しかし、このように基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良が発生するという問題点がある。また、マスクを基板に対して移動させられないため、マスクが基板と同じサイズに形成されねばならない。したがって、ディスプレイ装置の大型化につれてマスクのサイズも大きくならねばならないが、このような大型マスクを形成し難いという問題点がある。
【０１３１】
このような問題点を解決するために、本発明の一実施形態に関する薄膜蒸着アセンブリー９００では、パターニングスリットシート９５０を、被蒸着体である基板５００と所定間隔をおいて離隔するように配させる。
【０１３２】
このような本発明によってマスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ蒸着を行うことで、マスク製作が容易になる効果を得ることができる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果を得ることができる。また、工程で基板とマスクとを密着させる時間が不要になるため、製造速度が向上する効果を得ることができる。
【０１３３】
図１８は、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーを示す図面である。図面を参照すれば、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着アセンブリーは、蒸着源９１０、蒸着源ノズル部９２０及びパターニングスリットシート９５０を備える。ここで、蒸着源９１０は、その内部に蒸着物質９１５が満たされる坩堝９１１と、坩堝９１１を加熱させて、坩堝９１１の内部に満たされた蒸着物質９１５を蒸着源ノズル部９２０側に蒸発させるためのヒータ９１２とを備える。一方、蒸着源９１０の一側には蒸着源ノズル部９２０が配され、蒸着源ノズル部９２０にはＹ軸方向に沿って複数の蒸着源ノズル９２１が形成される。一方、蒸着源９１０と基板５００との間には、パターニングスリットシート９５０及びフレーム９５５がさらに備えられ、パターニングスリットシート９５０には、Ｘ軸方向に沿って複数のパターニングスリット９５１が形成される。そして、蒸着源９１０及び蒸着源ノズル部９２０とパターニングスリットシート９５０とは、連結部材９３５によって結合される。
【０１３４】
本実施形態では、蒸着源ノズル部９２０に形成された複数の蒸着源ノズル９２１が所定角度チルトされて配されるという点で、前述した実施形態と区別される。詳細には、蒸着源ノズル９２１は２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂで形成され、前記２列の蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは交互に配される。この時、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂは、ＸＺ平面上で所定角度傾くようにチルトされて形成されうる。
【０１３５】
すなわち、本実施形態では、蒸着源ノズル９２１ａ、９２１ｂを所定角度チルトして配する。ここで、第１列の蒸着源ノズル９２１ａは、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂに向かうようにチルトされ、第２列の蒸着源ノズル９２１ｂは、第１列の蒸着源ノズル９２１ａに向かうようにチルトされうる。言い換えれば、左側列に配された蒸着源ノズル９２１ａは、パターニングスリットシート９５０の右側端部に向かうように配され、右側列に配された蒸着源ノズル９２１ｂは、パターニングスリットシート９５０の左側端部に向かうように配されうる。
【０１３６】
図１９は、本発明による薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせていない時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面であり、図２０は、本発明による薄膜蒸着アセンブリーで蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板に蒸着された蒸着膜の分布形態を概略的に示す図面である。図１９と図２０とを比較すれば、蒸着源ノズルをチルトさせた時、基板の両端部に成膜される蒸着膜の厚さが相対的に増大して、蒸着膜の均一度が上昇することが分かる。
【０１３７】
このような構成によって、基板の中央と端部とでの成膜厚さ差が低減して、全体的な蒸着物質の厚さが均一になるように蒸着量を制御でき、さらには、材料利用効率が増大する効果を得ることができる。
【０１３８】
ここで、本発明のさらに他の一実施形態による薄膜蒸着装置では、２対のガイドレール及び前記それぞれのガイドレールに結合される複数のガイドブロックを備え、いずれか一つのガイドレールに沿って移送される基板に蒸着が行われる間、残りの一つのガイドレールに沿ってガイドブロックをローディング部に原位置させることで、基板の位置精密度を向上させると同時に、休止期間なしに連続的に蒸着を行わせることを一特徴とする。これについては、第１実施形態で詳細に説明したので、本実施形態ではその詳細な説明は省略する。
【０１３９】
図２１は、本発明の蒸着装置を用いて製造されたアクティブマトリックス型有機発光表示装置の断面を図示したものである。
【０１４０】
図２１を参照すれば、前記アクティブマトリス型の有機発光表示装置は基板３０上に形成される。前記基板３０は透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材、または金属材で形成されうる。前記基板３０上には、全体的にバッファ層のような絶縁膜３１が形成されている。
【０１４１】
前記絶縁膜３１上には、図２１に示したようなＴＦＴ ４０と、キャパシタ５０と、有機発光素子６０とが形成される。
【０１４２】
前記絶縁膜３１の上面には、所定パターンで配列された半導体活性層４１が形成されている。前記半導体活性層４１は、ゲート絶縁膜３２によって埋め立てられている。前記活性層４１は、ｐ型またはｎ型の半導体で備えられうる。
【０１４３】
前記ゲート絶縁膜３２の上面には、前記活性層４１と対応する所にＴＦＴ ４０のゲート電極４２が形成される。そして、前記ゲート電極４２を覆うように層間絶縁膜３３が形成される。前記層間絶縁膜３３が形成された後には、ドライエッチングのエッチング工程によって、前記ゲート絶縁膜３２と層間絶縁膜３３とをエッチングしてコンタクトホールを形成させて、前記活性層４１の一部を露出させる。
【０１４４】
次いで、前記層間絶縁膜３３上にソース／ドレイン電極４３が形成されるが、コンタクトホールを通じて露出された活性層４１に接触するように形成される。前記ソース／ドレイン電極４３を覆うように保護膜３４が形成され、エッチング工程を通じて前記ドレイン電極４３の一部を露出させる。前記保護膜３４上には、保護膜３４の平坦化のために別途の絶縁膜をさらに形成してもよい。
【０１４５】
一方、前記有機発光素子６０は、電流のフローによって赤、緑、青色の光を発光して所定の画像情報を表示するためのものであって、前記保護膜３４上に第１電極６１を形成する。前記第１電極６１は、ＴＦＴ ４０のドレイン電極４３と電気的に連結される。
【０１４６】
そして、前記第１電極６１を覆うように画素定義膜３５が形成される。この画素定義膜３５に所定の開口６４を形成した後、この開口６４で限定された領域内に有機発光膜６３を形成する。有機発光膜６３上には第２電極６２を形成する。
【０１４７】
前記画素定義膜３５は各画素を区切るものであって、有機物で形成されて、第１電極６１が形成されている基板の表面、特に、保護層３４の表面を平坦化する。
【０１４８】
前記第１電極６１と第２電極６２とは互いに絶縁されており、有機発光膜６３に相異なる極性の電圧を加えて発光がなされるようにする。
【０１４９】
前記有機発光膜６３は、低分子または高分子有機物が使われうるが、低分子有機物を使用する場合、ホール注入層（ＨＩＬ：Hole Injection Layer）、ホール輸送層（ＨＴＬ：Hole Transport Layer）、発光層（ＥＭＬ：Emission Layer）、電子輸送層（ＥＴＬ：Electron Transport Layer）、電子注入層（ＥＩＬ：Electron Injection Layer）などが単一あるいは複合の構造で積層されて形成され、使用可能な有機材料も銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリンアルミニウム（Ａｌｑ３）などをはじめとして多様に適用できる。これら低分子有機物は、図１ないし図３に示した蒸着装置及び蒸着ソースユニット１０を用いて真空蒸着の方法で形成されうる。
【０１５０】
まず、画素定義膜３５に開口６４を形成した後、この基板３０を図１のようにチャンバ２０内に移送する。そして、第１蒸着ソース１１と第２蒸着ソース１２とに目標有機物を収納した後、蒸着する。この時、ホストとドーパントとを同時に蒸着させる場合には、第１蒸着ソース１１と第２蒸着ソース１２とにそれぞれホスト物質とドーパント物質とを収納して蒸着させる。
【０１５１】
このような有機発光膜を形成した後には、第２電極６２も同じ蒸着工程で形成できる。
【０１５２】
一方、前記第１電極６１はアノード電極の機能を行い、前記第２電極６２はカソード電極の機能を行えるが、もちろん、これら第１電極６１と第２電極６２との極性は逆になってもよい。そして、第１電極６１は、各画素の領域に対応するようにパターニングされ、第２電極６２は、あらゆる画素を覆うように形成されうる。
【０１５３】
前記第１電極６１は、透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３で備えられ、反射型電極として使われる時には、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、及びこれらの化合物などで反射層を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３に透明電極層を形成できる。このような第１電極６１は、スパッタリング方法などにより成膜された後、フォトリソグラフィ法などによりパターニングされる。
【０１５４】
一方、前記第２電極６２も透明電極または反射型電極で備えられうるが、透明電極として使われる時には、この第２電極６２がカソード電極として使われるので、仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物が有機発光膜６３の方向に向かうように蒸着した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、またはＩｎ２Ｏ３などで補助電極層やバス電極ラインを形成できる。そして、反射型電極として使われる時には、前記Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ａｇ、Ｍｇ、及びこれらの化合物を全面蒸着して形成する。この時、蒸着は前述した有機発光膜６３の場合と同じ方法で行える。
【０１５５】
本発明はこれ以外にも、有機ＴＦＴの有機膜または無期膜などの蒸着にも使用できて、その他に多様な素材の成膜工程に適用できる。
【０１５６】
本発明は図面に図示された実施形態を参考として説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるだろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０１５７】
本発明は、薄膜蒸着装置及びこれを用いた有機発光表示装置関連の技術分野に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１５８】
１００ 薄膜蒸着アセンブリー
１１０ 蒸着源
１２０ 蒸着源ノズル部
１３０ 遮断板アセンブリー
１３１ 遮断板
１３２ 遮断板フレーム
１５０ パターニングスリットシート
１５５ フレーム
５００ 基板
６００ 静電チャック
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、
チャンバと、前記チャンバの内部に配され、かつ前記静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部と、
前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部と、
前記基板が固定された静電チャックを前記ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部と、を備え、
前記第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールと、前記第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロックと、前記第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロックとを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２】
前記２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、前記チャンバに貫設されるが、前記１対の第１ガイドレールが前記１対の第２ガイドレールの外側に配されるように形成し、
前記第１ガイドブロックは、前記第１ガイドレールに沿って直線往復動し、
前記第２ガイドブロックは、前記第２ガイドレールに沿って直線往復動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３】
前記基板を固定している前記静電チャックが前記第１ガイドブロックまたは第２ガイドブロック上に配されて、前記基板が前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って直線往復動することを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４】
前記第１ガイドブロックと前記第２ガイドブロックとは、互いに独立して直線往復動することを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項５】
前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項６】
前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、
前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項７】
前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、
前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項８】
前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、ＬＭレールであり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックは、ＬＭブロックであることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項９】
前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられたことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１０】
前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられた第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記第１チャンバと第２チャンバとが互いに連係された請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１１】
前記薄膜蒸着アセンブリーは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが配されるパターニングスリットシートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、
前記薄膜蒸着アセンブリーは前記基板と離隔するように配され、
前記薄膜蒸着アセンブリーと前記基板とは、互いに相対的に移動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１２】
前記薄膜蒸着アセンブリーの前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１３】
前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１４】
前記複数の遮断板は等間隔で配されることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１５】
前記遮断板アセンブリーは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリーと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリーと、を備えることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１６】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１７】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されることを特徴とする請求項１６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１８】
前記互いに対応する第１遮断板及び第２遮断板は、実質的に同じ平面上に位置するように配されることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１９】
前記薄膜蒸着アセンブリーは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２０】
前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２１】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２２】
前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２３】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定ほど離隔するように形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２４】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２５】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２６】
前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２７】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされていることを特徴とする請求項２６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２８】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、
前記二列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向かうように配され、
前記二列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向かうように配されることを特徴とする請求項２６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２９】
被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部、前記基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部、及び前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部を備える薄膜蒸着装置を用いた有機発光表示装置の製造方法において、
前記ローディング部で前記基板を前記静電チャックで固定させる段階と、
第１ガイドレールに沿って移動するように形成された第１ガイドブロックまたは第２ガイドレールに沿って移動するように形成された第２ガイドブロック上に、前記基板が固定された前記静電チャックを配する段階と、
前記基板と前記薄膜蒸着アセンブリーとの相対的移動により、前記薄膜蒸着アセンブリーで放射された蒸着物質が前記基板に蒸着される段階と、
前記アンローディング部から前記静電チャックが、前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックから分離される段階と、
前記静電チャックが分離された前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックが、前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って前記ローディング部方向に移動する段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３０】
前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備えることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３１】
前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、
前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成されることを特徴とする請求項３０に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３２】
前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、
前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成されることを特徴とする請求項３０に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３３】
前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールはＬＭレールであり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックはＬＭブロックであることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３４】
前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられて、各薄膜蒸着アセンブリーにより前記基板に連続的に蒸着が行われることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３５】
前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられ、互いに連係した第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記基板が、前記第１チャンバ及び第２チャンバにわたって移動しつつ連続的に蒸着が行われることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１】
被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部と、
チャンバと、前記チャンバの内部に配され、かつ前記静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部と、
前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部と、
前記基板が固定された静電チャックを前記ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部と、を備え、
前記第１循環部は、互いに平行に形成された２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールと、前記第１ガイドレールに結合する一つ以上の第１ガイドブロックと、前記第２ガイドレールに結合する一つ以上の第２ガイドブロックとを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置。
【請求項２】
前記２対の第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、前記チャンバに貫設されるが、前記１対の第１ガイドレールが前記１対の第２ガイドレールの外側に配されるように形成し、
前記第１ガイドブロックは、前記第１ガイドレールに沿って直線往復動し、
前記第２ガイドブロックは、前記第２ガイドレールに沿って直線往復動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項３】
前記基板を固定している前記静電チャックが前記第１ガイドブロックまたは第２ガイドブロック上に配されて、前記基板が前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って直線往復動することを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項４】
前記第１ガイドブロックと前記第２ガイドブロックとは、互いに独立して直線往復動することを特徴とする請求項２に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項５】
前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備えることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項６】
前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、
前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項７】
前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、
前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成されることを特徴とする請求項５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項８】
前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールは、ＬＭレールであり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックは、ＬＭブロックであることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項９】
前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられたことを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１０】
前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられた第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記第１チャンバと第２チャンバとが互いに連係された請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１１】
前記薄膜蒸着アセンブリーは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成された蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に沿って複数のパターニングスリットが配されるパターニングスリットシートと、
前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間に、前記第１方向に沿って配されて、前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリーと、を備え、
前記薄膜蒸着アセンブリーは前記基板と離隔するように配され、
前記薄膜蒸着アセンブリーと前記基板とは、互いに相対的に移動することを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１２】
前記薄膜蒸着アセンブリーの前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１３】
前記複数の遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１４】
前記複数の遮断板は等間隔で配されることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１５】
前記遮断板アセンブリーは、複数の第１遮断板を備える第１遮断板アセンブリーと、複数の第２遮断板を備える第２遮断板アセンブリーと、を備えることを特徴とする請求項１１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１６】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、前記第１方向と実質的に垂直な第２方向に沿って延びるように形成されたことを特徴とする請求項１５に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１７】
前記複数の第１遮断板及び前記複数の第２遮断板それぞれは、互いに対応するように配されることを特徴とする請求項１６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１８】
前記互いに対応する第１遮断板及び第２遮断板は、実質的に同じ平面上に位置するように配されることを特徴とする請求項１７に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項１９】
前記薄膜蒸着アセンブリーは、
蒸着物質を放射する蒸着源と、
前記蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、
前記蒸着源ノズル部と対向して配され、前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ蒸着が行われ、
前記蒸着源、前記蒸着源ノズル部及び前記パターニングスリットシートは一体に形成されることを特徴とする請求項１に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２０】
前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとは、連結部材により結合されて一体に形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２１】
前記連結部材は、前記蒸着物質の移動経路をガイドすることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２２】
前記連結部材は、前記蒸着源及び前記蒸着源ノズル部と前記パターニングスリットシートとの間の空間を外部から密閉するように形成されることを特徴とする請求項２０に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２３】
前記薄膜蒸着装置は、前記基板と所定ほど離隔するように形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２４】
前記基板が前記薄膜蒸着装置に対して前記第１方向に沿って移動しつつ、前記基板上に前記蒸着物質が連続的に蒸着されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２５】
前記薄膜蒸着装置の前記パターニングスリットシートは、前記基板より小さく形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２６】
前記複数の蒸着源ノズルは、所定角度チルトされるように形成されることを特徴とする請求項１９に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２７】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、前記二列の蒸着源ノズルは、互いに対向する方向にチルトされていることを特徴とする請求項２６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２８】
前記複数の蒸着源ノズルは、前記第１方向に沿って形成された二列の蒸着源ノズルを備え、
前記二列の蒸着源ノズルのうち、第１側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第２側端部に向かうように配され、
前記二列の蒸着源ノズルのうち、第２側に配された蒸着源ノズルは、パターニングスリットシートの第１側端部に向かうように配されることを特徴とする請求項２６に記載の薄膜蒸着装置。
【請求項２９】
被蒸着用基板を静電チャックで固定させるローディング部、前記基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリーを備える蒸着部、及び前記静電チャックから蒸着が完了した前記基板を分離させるアンローディング部を備える薄膜蒸着装置を用いた有機発光表示装置の製造方法において、
前記ローディング部で前記基板を前記静電チャックで固定させる段階と、
第１ガイドレールに沿って移動するように形成された第１ガイドブロックまたは第２ガイドレールに沿って移動するように形成された第２ガイドブロック上に、前記基板が固定された前記静電チャックを配する段階と、
前記基板と前記薄膜蒸着アセンブリーとの相対的移動により、前記薄膜蒸着アセンブリーで放射された蒸着物質が前記基板に蒸着される段階と、
前記アンローディング部から前記静電チャックが、前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックから分離される段階と、
前記静電チャックが分離された前記第１ガイドブロックまたは前記第２ガイドブロックが、前記第１ガイドレールまたは前記第２ガイドレールに沿って前記ローディング部方向に移動する段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３０】
前記静電チャックは、前記第１ガイドブロック上に配される第１静電チャックと、前記第２ガイドブロック上に配される第２静電チャックと、を備えることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３１】
前記第１静電チャックで、前記第２ガイドブロックと対向する領域には第１陥没部が形成され、
前記第２静電チャックで、前記第１ガイドブロックと対向する領域には第２陥没部が形成されることを特徴とする請求項３０に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３２】
前記第１静電チャックと前記第２ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成され、
前記第２静電チャックと前記第１ガイドブロックとは、互いに一定距離ほど離隔するように形成されることを特徴とする請求項３０に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３３】
前記第１ガイドレール及び第２ガイドレールはＬＭレールであり、前記第１ガイドブロック及び第２ガイドブロックはＬＭブロックであることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３４】
前記チャンバ内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーが備えられて、各薄膜蒸着アセンブリーにより前記基板に連続的に蒸着が行われることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項３５】
前記チャンバは、その内部に複数の薄膜蒸着アセンブリーがそれぞれ備えられ、互いに連係した第１チャンバと第２チャンバとを備え、前記基板が、前記第１チャンバ及び第２チャンバにわたって移動しつつ連続的に蒸着が行われることを特徴とする請求項２９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【公開番号】特開２０１１−２１９８６６（Ｐ２０１１−２１９８６６Ａ）
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−７９３４３（Ｐ２０１１−７９３４３）
【出願日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
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