有機エレクトロルミネッセンスパネルとその製造方法
【課題】高歩留まりあるいは高精細化に有効な有機エレクトロルミネッセンスパネルの構造と、それを実現するための適切なテンションを付与することができる蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】枠体３４と、間隔をあけて面状に並列された同じ幅の複数の線材３８を有する第１サブマスク３６と、少なくとも１つの開口４４を有する第２サブマスク４２と、を有する蒸着マスクを用意する。回路基板１０に、蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層２０を形成する。第１サブマスク３６は、複数の線材３８に長さ方向に張力が付与されるように枠体３４に固定され、複数の線材３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、複数の線材３８が少なくとも１つの開口４４と重なるように、第２サブマスク４２の一方の面上に配置されている。
【解決手段】枠体３４と、間隔をあけて面状に並列された同じ幅の複数の線材３８を有する第１サブマスク３６と、少なくとも１つの開口４４を有する第２サブマスク４２と、を有する蒸着マスクを用意する。回路基板１０に、蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層２０を形成する。第１サブマスク３６は、複数の線材３８に長さ方向に張力が付与されるように枠体３４に固定され、複数の線材３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、複数の線材３８が少なくとも１つの開口４４と重なるように、第２サブマスク４２の一方の面上に配置されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンスパネルに係り、特に、高歩留まりあるいは高精細化に有効な有機エレクトロルミネッセンスパネルの構造とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法では、蒸着マスクに回路基板を乗せ、蒸着マスクの下方に設置した蒸発源で有機材料を蒸発させ、回路基板に有機膜を形成する。通常使用される蒸着マスク（特許文献１及び２参照）は、多数のスリットが並行しており、スリット間のリブの幅がきわめて微細であるため、歪みが生じやすい。歪みが生じると有機膜の高精細パターニングを行えない。そのため、蒸着マスクに均一にテンションを付与し、スリット（リブ）の歪みを矯正することが必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−６９６１９号公報
【特許文献２】特開２００３−３３２０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、蒸着用のメタルマスクが支持フレームに溶接されていることで構成された蒸着マスクが開示されている。メタルマスクは、多面取りに対応したパターンが形成されている。すなわち、メタルマスクは、複数の蒸着領域を有し、それぞれの蒸着領域には多数のスリットが形成されている。また、メタルマスクには、それぞれの蒸着領域を囲むように、スリット間のリブよりも幅の広い枠部がある。そのため、メタルマスクにテンションを付与すると、枠部にテンションが掛かるので、スリット間のリブに適切なテンションを付与することが難しい。
【０００５】
特許文献２には、複数行複数列に並んだ開口を有する第一金属マスクと、第一金属マスクの各列に並ぶ複数の開口に対応するようにスリットが形成された第二金属マスクと、が重なった構造の蒸着マスクが開示されている。第二金属マスクは、周縁部（スリットが形成された領域の周囲）に幅の広い部分を有する。したがって、第二金属マスクにテンションを付与すると、その幅の広い部分にテンションが掛かるので、スリット間のリブに一様に適切なテンションを付与することが難しい。
【０００６】
本発明は、高歩留まりあるいは高精細化に有効な有機エレクトロルミネッセンスパネルの構造を提供し、またそれを実現するために、適切なテンションを一様に付与することができる蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明による有機エレクトロルミネッセンスパネルは、発光層が第１の電極と第２の電極により挟まれてなる有機エレクトロルミネッセンス素子を複数個配列され、前記発光層は、所定の方向に延びる第１側面と、該第１側面と交差する第２側面と、を含み、前記第１側面と前記第２側面のいずれか一方の側面が他方の側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする。かかる構成により、前記第１側面を第２側面より緩やかにした場合には、高歩留まりで製造できることから低コストの有機エレクトロルミネッセンスパネルを、前記第１側面を第２側面より急峻にした場合には、高解像度の発光層パターン形成が可能になることから高精細の有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供できる。
【０００８】
（２）（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より緩やかにすることを特徴とする。かかる構成にすることにより、周知のマスク蒸着法で前記発光層からなるパターンを形成する場合、蒸着マスクを非接触としながら発光層パターンが延伸する方向の側面（第１側面）を形成することができ、蒸着マスクの異物や衝撃の影響を抑制できる。このため、製造歩留まりを高くでき、有機エレクトロルミネッセンスパネルを低コストで提供できる。
【０００９】
（３）（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より急峻にすることを特徴とする。かかる構成によれば、高解像度の発光層パターン形成が可能になることから高精細の有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供できる。
【００１０】
（４）本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法は、枠体と、間隔をあけて面状に並列された複数の線材を有する第１サブマスクと、少なくとも１つの開口を有する第２サブマスクと、を有する蒸着マスクを用意する工程と、回路基板に、前記蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層を形成する工程と、を含み、前記第１サブマスクは、前記複数の線材に長さ方向に張力が付与されるように前記枠体に固定され、前記複数の線材のみが前記張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、前記複数の線材が前記少なくとも１つの開口と重なるように、前記第２サブマスクの一方の面上に配置されていることを特徴とする。本発明によれば、複数の線材のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続するので、第１サブマスクに歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。
【００１１】
（５）（４）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第２サブマスクの前記第１サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、前記蒸着を行うことを特徴としてもよい。
【００１２】
（６）（５）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、前記第１側面は、前記第２側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴としてもよい。
【００１３】
（７）（４）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第１サブマスクの前記第２サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向するように配置して、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、前記蒸着を行うことを特徴としてもよい。
【００１４】
（８）（７）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、前記第２側面は、前記第１側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴としてもよい。
【００１５】
（９）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第１サブマスクは、一対の保持部を有し、前記一対の保持部間に前記複数の線材が架け渡され、前記一対の保持部が前記枠体に固定されていることを特徴としてもよい。
【００１６】
（１０）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記回路基板は、複数行複数列で並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、前記複数の凹部は、各行に沿って一列に並び、各列に沿って一列に並び、それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴としてもよい。
【００１７】
（１１）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記回路基板は、千鳥状に並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、前記複数の凹部は、複数列であって各列では一列に並び、それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴としてもよい。
【００１８】
（１２）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第１サブマスクは、隣同士の線材を接続するリブを有し、前記リブを挟んで両側に前記線材の延びる方向にスリットが形成されていることを特徴としてもよい。
【００１９】
（１３）（１２）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記スリットの配列に対応して、２つ以上の前記発光層が一列に並ぶように形成されることを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る方法によって製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルを説明する図である。
【図２】１つの製品の一部を拡大した平面図である。
【図３】図２に示す構造のIII−III線断面図である。
【図４】図２に示す構造のIV−IV線断面図である。
【図５】発光層の長さ方向に沿って延びる側部の断面（図２のIII−III線断面）の拡大図である。
【図６】発光層の長さ方向の端部の断面（図２のIV−IV線断面）の拡大図である。
【図７】蒸着マスクの分解斜視図である。
【図８】蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を説明する図である。
【図９】蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【図１１】第２の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【図１３】第３の実施形態に係る蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。
【図１４】本発明の第３の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【図１５】図１４に示す構造のXV−XV線断面図である。
【図１６】図１４に示す構造のXVI−XVI線断面図である。
【図１７】本発明の第４の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【図１８】第４の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【図１９】本発明の第５の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００２２】
［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る方法によって製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルを説明する図である。
【００２３】
本実施形態では、多面取りの製造方法が想定されており、図１に示す有機エレクトロルミネッセンスパネルは、複数の製品が一体化されたマザーパネルである。このマザーパネルを切断して個々の製品が得られる。ただし、本発明は、このような多面取りの製造方法に限定されるものではなく、単品の製造方法も含む。
【００２４】
図２は、１つの製品の一部を拡大した平面図である。図３は、図２に示す構造のIII−III線断面図である。図４は、図２に示す構造のIV−IV線断面図である。
【００２５】
有機エレクトロルミネッセンスパネルは、回路基板１０を有する。回路基板１０には、図示しない配線及びスイッチング素子としての薄膜トランジスタを含む回路層１２（図３及び図４参照）が形成されている。回路層１２の上面は、図示しない平坦化層によって平坦になっている。回路層１２上には複数の画素電極１４が形成されている。
【００２６】
それぞれの画素電極１４は、バンク１６によって区画されている。詳しくは、回路層１２及び画素電極１４上にバンク１６が形成されており、バンク１６によって形成される凹部１８内に画素電極１４が露出する。図２に示すように、複数の凹部１８は、複数行複数列で並び、各行に沿って一列に並び、各列に沿って一列に並ぶ。複数の凹部１８内に露出する複数の画素電極１４の配置は、ストライプ配列である。
【００２７】
複数の画素電極１４の上方には、複数の発光層２０が設けられている。複数の発光層２０は、供給される電流によって光を発する有機材料からなる。異なる有機材料によって複数種類の発光層２０が形成されており、複数色（例えば赤、緑及び青の３色）の発光が可能になっている。図２に示す複数の発光層２０の配置は、ストライプ配列である。それぞれの発光層２０は、線状に延びているが、平面形状は矩形（長方形）である。
【００２８】
図２及び図３に示すように、隣同士の発光層２０の間には隙間がある。また、図２及び図４に示すように、それぞれの発光層２０は、一行又は一列に並ぶグループの画素電極１４上に連続的に形成されている。なお、図４の左側には、１つの発光層２０の長さ方向の端部が示されている。
【００２９】
図３及び図４に示す例では、発光層２０の下には正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも一方からなる下層２２が配置され、発光層２０の上には電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一方からなる上層２４が配置されている。下層２２は、複数の画素電極１４の全体を一体的に覆うように形成され、上層２４は、複数の発光層２０の全体を一体的に覆うように形成されている。
【００３０】
発光層２０の上方（例えば上層２４の上）には共通電極２６が形成されている。共通電極２６の上方には、スペースを介して封止板２８が配置されている。スペースには窒素などのガスが封入されており、封止板２８によって、発光層２０を湿気から遮断する。
【００３１】
図５は、発光層２０の長さ方向に沿って延びる側部の断面（図２のIII−III線断面）の拡大図である。図６は、発光層２０の長さ方向の端部の断面（図２のIV−IV線断面）の拡大図である。発光層２０は、側部において第１側面３０を有し、端部において第２側面３２を有する。第１側面３０と回路基板１０の表面に平行な面とのなす内角θ１は、第２側面３２と回路基板１０の表面に平行な面とのなす内角θ２よりも小さい。
【００３２】
発光層２０の厚みｄｆ及び第１側面３０の投影面での幅Δ１によって描かれる三角形において、
１／１００≦ｔａｎθ１≦１が成立する。
【００３３】
本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルには、発光層２０が画素電極１４と共通電極２６により挟まれてなる有機エレクトロルミネッセンス素子が複数個配列されている。発光層２０は、所定の方向に延びる第１側面３０と、第１側面３０と交差する第２側面３２と、を含む。第１側面３０と第２側面３２のいずれか一方の側面が他方の側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されている。
【００３４】
図２に示す例では、第１側面３０の断面形状が第２側面３２より緩やかになっているので、周知のマスク蒸着法で発光層２０からなるパターンを形成する場合、蒸着マスクを非接触としながら発光層２０パターンが延伸する方向の側面（第１側面３０）を形成することができ、蒸着マスクの異物や衝撃の影響を抑制できる。このため、製造歩留まりを高くでき、有機エレクトロルミネッセンスパネルを低コストで提供することができる。
【００３５】
逆に、第１側面３０の断面形状を第２側面３２より急峻にした場合には、高解像度の発光層２０パターン形成が可能になることから高精細の有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供することができる。
【００３６】
次に、本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を説明する。本実施形態では、蒸着マスクを使用する。
【００３７】
図７は、蒸着マスクの分解斜視図である。蒸着マスクは、枠体３４を有する。枠体３４は剛体である。枠体３４の熱膨張率は、回路基板１０の熱膨張率の±０．５ｐｐｍ以内である。
【００３８】
蒸着マスクは、第１サブマスク３６を有する。第１サブマスク３６は、間隔をあけて面状に並列された同じ幅の複数の線材３８を有する。第１サブマスク３６は、一対の保持部４０を有している。一対の保持部４０間に複数の線材３８が架け渡されている。第１サブマスク３６は、金属箔をエッチングして形成することができる。
【００３９】
第１サブマスク３６は、複数の線材３８に長さ方向に張力が付与されるように枠体３４に固定されている。すなわち、線材３８には、一対の保持部４０が相互に離れる方向に張力が付与されている。第１サブマスク３６は、複数の線材３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続している。例えば、線材３８の外側に枠部材は存在しない。複数の線材３８は、それぞれの幅が等しいので、均一に張力が分散される。したがって、第１サブマスク３６に歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。線材３８は、図示しない接着剤による接着又は溶接によって枠体３４に固定されている。詳しくは、一対の保持部４０を介して、線材３８が枠体３４に固定されている。
【００４０】
蒸着マスクは、第２サブマスク４２を有する。第２サブマスク４２は、少なくとも１つ（図７の例では複数）の開口４４を有する。複数の開口４４が形成されている場合、製造される有機エレクトロルミネッセンスパネルは、複数の製品が一体化されたマザーパネルであり、１つの開口４４は、１つの製品の表示領域を区画する。開口４４と重なるように、複数の線材３８が第２サブマスク４２の一方の面上（図７では下面下）に配置されている。第２サブマスク４２と枠体３４との間に第１サブマスク３６が介在する。
【００４１】
開口４４とその上又は下を通る線材３８によって、複数のスリット４６が形成される（図９参照）。スリット４６は、長細い長方形である。スリット４６の長方形の長さ方向に沿った側辺（長辺）が線材３８によって区画され、長さ方向の両端（短辺）は、開口４４の縁によって区画される。
【００４２】
図８は、蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を説明する図である。本実施形態では、回路基板１０に、蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層２０を形成する。
【００４３】
図９は、蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。蒸着マスクは、第２サブマスク４２の第１サブマスク３６とは反対側の面が回路基板１０に対向するように配置する。また、第２サブマスク４２と回路基板１０を接触させる。ただし、接触はしていても、微視的には第２サブマスク４２と回路基板１０の間にわずかに隙間が形成される。これに対して、第１サブマスク３６（線材３８）と回路基板１０は接触しないようになっている。したがって、第１サブマスク３６（線材３８）と回路基板１０の間に隙間が形成され、その隙間は、第２サブマスク４２と回路基板１０の間の隙間よりも大きい。
【００４４】
蒸着によって、開口４４の内側であって隣同士の線材３８の間のスペースに、それぞれの発光層２０を形成する。バンク１６のそれぞれの列に並ぶ１グループの凹部１８上に、少なくとも１つの発光層２０を形成する（図２及び図３参照）。
【００４５】
図９に示すように、複数の線材３８と回路基板１０との間には隙間があいている。したがって、線材３８と回路基板１０の間には、第２サブマスク４２の開口４４の縁と回路基板１０との間よりも、蒸着材料が入り易い。蒸着材料が入り易い線材３８と回路基板１０の間には、蒸着材料が入り込む距離が長いことで、傾斜角度θ１（図５参照）が緩やかで幅の広い第１側面３０が形成される。一方、蒸着材料が入り難い開口４４の縁と回路基板１０との間には、蒸着材料が入り込む距離が短いことで、θ１と比較して、傾斜角度θ２（図６参照）が急な第２側面３２が形成される。発光層２０は、複数の線材３８に沿って延びる第１側面３０と、開口４４の縁に沿った第２側面３２と、を含む。第１側面３０は、第２側面３２よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成される。
【００４６】
［第２の実施形態］
図１０は、本発明の第２の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【００４７】
本実施形態では、第１サブマスク１３６は、隣同士の線材１３８を接続するリブ１４８を有する点で、第１の実施形態で説明した第１サブマスク３６と異なる。そして、リブ１４８を挟んで両側に線材１３８の延びる方向にスリット１４６が形成される。この例であっても、複数の線材１３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続しているので、第１サブマスク１３６に歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。
【００４８】
図１１は、第２の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。図２に示す例と比較すると、図１１の例では、リブ１４８によって分割されたスリット１４６（図１０参照）の配列に対応して、２つ以上の発光層１２０が間隔をあけて一列に並ぶように形成されている。詳しくは、２つ以上の発光層１２０が、間隔をあけて、長さ方向に沿って一列に並んでいる。その間隔は、隣同士の線材１３８を接続するリブ１４８によって蒸着がマスキングされることで形成される。その他の内容は、上述した第１の実施形態の内容が該当する。
【００４９】
［第３の実施形態］
図１２は、本発明の第３の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。本実施形態に係る蒸着マスクは、第１サブマスク２３６と枠体２３４との間に第２サブマスク２４２が介在する点で、第１の実施形態で説明した蒸着マスク（図７参照）とは異なる。
【００５０】
図１３は、第３の実施形態に係る蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。本実施形態では、第１サブマスク２３６の第２サブマスク２４２とは反対側の面が回路基板１０に対向するように蒸着マスクを配置する。そして、第１サブマスク２３６と回路基板１０を接触させる。また、第２サブマスク２４２と回路基板１０は接触しないようにする。こうして、第２サブマスク２４２の少なくとも１つの開口２４４の縁と回路基板１０との間には、複数の線材２３８と回路基板１０との間よりも、蒸着材料が入り易くなるように、蒸着を行う。そして、開口２４４の内側であって、隣同士の線材２３８の間のスペース（スリット２１６）に、蒸着によってそれぞれの発光層２２０（図４参照）を形成する。その詳細は、第１の実施形態で説明した通りである。
【００５１】
図１４は、本発明の第３の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。図１５は、図１４に示す構造のXV−XV線断面図である。図１６は、図１４に示す構造のXVI−XVI線断面図である。
【００５２】
発光層２２０は、複数の線材２３８に沿って延びる第１側面２３０と、少なくとも１つの開口２４４の縁に沿った第２側面２３２と、を含む。第２側面２３２は、第１側面２３０よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成される（図１５及び図１６参照）。このような形状になるのは次の理由からである。
【００５３】
図１３に示すように、第１サブマスク２３６（線材２３８）と回路基板１０との間の隙間は小さいため、その隙間には蒸着材料が入り難い。したがって、蒸着材料が入り難い複数の線材２３８と回路基板１０との間には、蒸着材料が入り込む距離が短いことで、傾斜角度が急な第１側面２３０が形成される（図１５参照）。一方、第２サブマスク２４２の開口２４４の縁と回路基板１０との間には、第１サブマスク２３６と回路基板１０との隙間よりも大きな隙間があいている。したがって、第２サブマスク２４２と回路基板１０の間には、第１サブマスク２３６と回路基板１０との間よりも、蒸着材料が入り易い。蒸着材料が入り易い第２サブマスク２４２と回路基板１０の間には、蒸着材料が入り込む距離が長いことで、傾斜角度が緩やかで幅の広い第２側面２３２が形成される（図１６参照）。
【００５４】
［第４の実施形態］
図１７は、本発明の第４の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【００５５】
本実施形態では、第１サブマスク３３６は、隣同士の線材３３８を接続するリブ３４８を有する点で、第３の実施形態で説明した第１サブマスク２３６と異なる。そして、リブ３４８を挟んで両側に線材３３８の延びる方向にスリット３４６が形成される。この例であっても、複数の線材３３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続しているので、第１サブマスク３３６に歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。
【００５６】
図１８は、第４の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。図１４に示す例と比較すると、図１８の例では、リブ３４８によって分割されたスリット３４６（図１７参照）の配列に対応して、２つ以上の発光層３２０が間隔をあけて一列に並ぶように形成されている。詳しくは、２つ以上の発光層３２０が、間隔をあけて、長さ方向に沿って一列に並んでいる。その間隔は、隣同士の線材３３８を接続するリブ３４８によって蒸着がマスキングされることで形成される。その他の内容は、上述した第３の実施形態の内容が該当する。
【００５７】
［第５の実施形態］
図１９は、本発明の第５の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【００５８】
本実施形態では、回路基板４１０は、千鳥状に並ぶ複数の凹部４１８を区画するバンク４１６を有する。そのため、バンク４１６から露出する複数の画素電極４１４の配置はデルタ配列となっている。複数の凹部４１８は、複数列であって各列では一列に並ぶ。それぞれの列に並ぶ１グループの凹部４１８上に、少なくとも１つの発光層４２０を形成する。本実施形態の内容は、上述した第１〜第４の実施形態のいずれにも適用することができる。
【００５９】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００６０】
１０ 回路基板、１２ 回路層、１４ 画素電極、１６ バンク、１８ 凹部、２０ 発光層、２２ 下層、２４ 上層、２６ 共通電極、２８ 封止板、３０ 第１側面、３２ 第２側面、３４ 枠体、３６ 第１サブマスク、３８ 線材、４０ 保持部、４２ 第２サブマスク、４４ 開口、４６ スリット、１２０ 発光層、１３６ 第１サブマスク、１３８ 線材、１４６ スリット、１４８ リブ、２１６ スリット、２２０ 発光層、２３０ 第１側面、２３２ 第２側面、２３４ 枠体、２３６ 第１サブマスク、２３８ 線材、２４２ 第２サブマスク、２４４ 開口、３２０ 発光層、３３６ 第１サブマスク、３３８ 線材、３４６ スリット、３４８ リブ、４１０ 回路基板、４１４ 画素電極、４１６ バンク、４１８ 凹部、４２０ 発光層。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンスパネルに係り、特に、高歩留まりあるいは高精細化に有効な有機エレクトロルミネッセンスパネルの構造とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法では、蒸着マスクに回路基板を乗せ、蒸着マスクの下方に設置した蒸発源で有機材料を蒸発させ、回路基板に有機膜を形成する。通常使用される蒸着マスク（特許文献１及び２参照）は、多数のスリットが並行しており、スリット間のリブの幅がきわめて微細であるため、歪みが生じやすい。歪みが生じると有機膜の高精細パターニングを行えない。そのため、蒸着マスクに均一にテンションを付与し、スリット（リブ）の歪みを矯正することが必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−６９６１９号公報
【特許文献２】特開２００３−３３２０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、蒸着用のメタルマスクが支持フレームに溶接されていることで構成された蒸着マスクが開示されている。メタルマスクは、多面取りに対応したパターンが形成されている。すなわち、メタルマスクは、複数の蒸着領域を有し、それぞれの蒸着領域には多数のスリットが形成されている。また、メタルマスクには、それぞれの蒸着領域を囲むように、スリット間のリブよりも幅の広い枠部がある。そのため、メタルマスクにテンションを付与すると、枠部にテンションが掛かるので、スリット間のリブに適切なテンションを付与することが難しい。
【０００５】
特許文献２には、複数行複数列に並んだ開口を有する第一金属マスクと、第一金属マスクの各列に並ぶ複数の開口に対応するようにスリットが形成された第二金属マスクと、が重なった構造の蒸着マスクが開示されている。第二金属マスクは、周縁部（スリットが形成された領域の周囲）に幅の広い部分を有する。したがって、第二金属マスクにテンションを付与すると、その幅の広い部分にテンションが掛かるので、スリット間のリブに一様に適切なテンションを付与することが難しい。
【０００６】
本発明は、高歩留まりあるいは高精細化に有効な有機エレクトロルミネッセンスパネルの構造を提供し、またそれを実現するために、適切なテンションを一様に付与することができる蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
（１）本発明による有機エレクトロルミネッセンスパネルは、発光層が第１の電極と第２の電極により挟まれてなる有機エレクトロルミネッセンス素子を複数個配列され、前記発光層は、所定の方向に延びる第１側面と、該第１側面と交差する第２側面と、を含み、前記第１側面と前記第２側面のいずれか一方の側面が他方の側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする。かかる構成により、前記第１側面を第２側面より緩やかにした場合には、高歩留まりで製造できることから低コストの有機エレクトロルミネッセンスパネルを、前記第１側面を第２側面より急峻にした場合には、高解像度の発光層パターン形成が可能になることから高精細の有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供できる。
【０００８】
（２）（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より緩やかにすることを特徴とする。かかる構成にすることにより、周知のマスク蒸着法で前記発光層からなるパターンを形成する場合、蒸着マスクを非接触としながら発光層パターンが延伸する方向の側面（第１側面）を形成することができ、蒸着マスクの異物や衝撃の影響を抑制できる。このため、製造歩留まりを高くでき、有機エレクトロルミネッセンスパネルを低コストで提供できる。
【０００９】
（３）（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より急峻にすることを特徴とする。かかる構成によれば、高解像度の発光層パターン形成が可能になることから高精細の有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供できる。
【００１０】
（４）本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法は、枠体と、間隔をあけて面状に並列された複数の線材を有する第１サブマスクと、少なくとも１つの開口を有する第２サブマスクと、を有する蒸着マスクを用意する工程と、回路基板に、前記蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層を形成する工程と、を含み、前記第１サブマスクは、前記複数の線材に長さ方向に張力が付与されるように前記枠体に固定され、前記複数の線材のみが前記張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、前記複数の線材が前記少なくとも１つの開口と重なるように、前記第２サブマスクの一方の面上に配置されていることを特徴とする。本発明によれば、複数の線材のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続するので、第１サブマスクに歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。
【００１１】
（５）（４）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第２サブマスクの前記第１サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、前記蒸着を行うことを特徴としてもよい。
【００１２】
（６）（５）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、前記第１側面は、前記第２側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴としてもよい。
【００１３】
（７）（４）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第１サブマスクの前記第２サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向するように配置して、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、前記蒸着を行うことを特徴としてもよい。
【００１４】
（８）（７）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、前記第２側面は、前記第１側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴としてもよい。
【００１５】
（９）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第１サブマスクは、一対の保持部を有し、前記一対の保持部間に前記複数の線材が架け渡され、前記一対の保持部が前記枠体に固定されていることを特徴としてもよい。
【００１６】
（１０）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記回路基板は、複数行複数列で並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、前記複数の凹部は、各行に沿って一列に並び、各列に沿って一列に並び、それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴としてもよい。
【００１７】
（１１）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記回路基板は、千鳥状に並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、前記複数の凹部は、複数列であって各列では一列に並び、それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴としてもよい。
【００１８】
（１２）（４）から（８）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第１サブマスクは、隣同士の線材を接続するリブを有し、前記リブを挟んで両側に前記線材の延びる方向にスリットが形成されていることを特徴としてもよい。
【００１９】
（１３）（１２）に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記スリットの配列に対応して、２つ以上の前記発光層が一列に並ぶように形成されることを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る方法によって製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルを説明する図である。
【図２】１つの製品の一部を拡大した平面図である。
【図３】図２に示す構造のIII−III線断面図である。
【図４】図２に示す構造のIV−IV線断面図である。
【図５】発光層の長さ方向に沿って延びる側部の断面（図２のIII−III線断面）の拡大図である。
【図６】発光層の長さ方向の端部の断面（図２のIV−IV線断面）の拡大図である。
【図７】蒸着マスクの分解斜視図である。
【図８】蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を説明する図である。
【図９】蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【図１１】第２の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【図１３】第３の実施形態に係る蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。
【図１４】本発明の第３の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【図１５】図１４に示す構造のXV−XV線断面図である。
【図１６】図１４に示す構造のXVI−XVI線断面図である。
【図１７】本発明の第４の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【図１８】第４の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【図１９】本発明の第５の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００２２】
［第１の実施形態］
図１は、本発明の第１の実施形態に係る方法によって製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルを説明する図である。
【００２３】
本実施形態では、多面取りの製造方法が想定されており、図１に示す有機エレクトロルミネッセンスパネルは、複数の製品が一体化されたマザーパネルである。このマザーパネルを切断して個々の製品が得られる。ただし、本発明は、このような多面取りの製造方法に限定されるものではなく、単品の製造方法も含む。
【００２４】
図２は、１つの製品の一部を拡大した平面図である。図３は、図２に示す構造のIII−III線断面図である。図４は、図２に示す構造のIV−IV線断面図である。
【００２５】
有機エレクトロルミネッセンスパネルは、回路基板１０を有する。回路基板１０には、図示しない配線及びスイッチング素子としての薄膜トランジスタを含む回路層１２（図３及び図４参照）が形成されている。回路層１２の上面は、図示しない平坦化層によって平坦になっている。回路層１２上には複数の画素電極１４が形成されている。
【００２６】
それぞれの画素電極１４は、バンク１６によって区画されている。詳しくは、回路層１２及び画素電極１４上にバンク１６が形成されており、バンク１６によって形成される凹部１８内に画素電極１４が露出する。図２に示すように、複数の凹部１８は、複数行複数列で並び、各行に沿って一列に並び、各列に沿って一列に並ぶ。複数の凹部１８内に露出する複数の画素電極１４の配置は、ストライプ配列である。
【００２７】
複数の画素電極１４の上方には、複数の発光層２０が設けられている。複数の発光層２０は、供給される電流によって光を発する有機材料からなる。異なる有機材料によって複数種類の発光層２０が形成されており、複数色（例えば赤、緑及び青の３色）の発光が可能になっている。図２に示す複数の発光層２０の配置は、ストライプ配列である。それぞれの発光層２０は、線状に延びているが、平面形状は矩形（長方形）である。
【００２８】
図２及び図３に示すように、隣同士の発光層２０の間には隙間がある。また、図２及び図４に示すように、それぞれの発光層２０は、一行又は一列に並ぶグループの画素電極１４上に連続的に形成されている。なお、図４の左側には、１つの発光層２０の長さ方向の端部が示されている。
【００２９】
図３及び図４に示す例では、発光層２０の下には正孔輸送層及び正孔注入層の少なくとも一方からなる下層２２が配置され、発光層２０の上には電子輸送層及び電子注入層の少なくとも一方からなる上層２４が配置されている。下層２２は、複数の画素電極１４の全体を一体的に覆うように形成され、上層２４は、複数の発光層２０の全体を一体的に覆うように形成されている。
【００３０】
発光層２０の上方（例えば上層２４の上）には共通電極２６が形成されている。共通電極２６の上方には、スペースを介して封止板２８が配置されている。スペースには窒素などのガスが封入されており、封止板２８によって、発光層２０を湿気から遮断する。
【００３１】
図５は、発光層２０の長さ方向に沿って延びる側部の断面（図２のIII−III線断面）の拡大図である。図６は、発光層２０の長さ方向の端部の断面（図２のIV−IV線断面）の拡大図である。発光層２０は、側部において第１側面３０を有し、端部において第２側面３２を有する。第１側面３０と回路基板１０の表面に平行な面とのなす内角θ１は、第２側面３２と回路基板１０の表面に平行な面とのなす内角θ２よりも小さい。
【００３２】
発光層２０の厚みｄｆ及び第１側面３０の投影面での幅Δ１によって描かれる三角形において、
１／１００≦ｔａｎθ１≦１が成立する。
【００３３】
本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルには、発光層２０が画素電極１４と共通電極２６により挟まれてなる有機エレクトロルミネッセンス素子が複数個配列されている。発光層２０は、所定の方向に延びる第１側面３０と、第１側面３０と交差する第２側面３２と、を含む。第１側面３０と第２側面３２のいずれか一方の側面が他方の側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されている。
【００３４】
図２に示す例では、第１側面３０の断面形状が第２側面３２より緩やかになっているので、周知のマスク蒸着法で発光層２０からなるパターンを形成する場合、蒸着マスクを非接触としながら発光層２０パターンが延伸する方向の側面（第１側面３０）を形成することができ、蒸着マスクの異物や衝撃の影響を抑制できる。このため、製造歩留まりを高くでき、有機エレクトロルミネッセンスパネルを低コストで提供することができる。
【００３５】
逆に、第１側面３０の断面形状を第２側面３２より急峻にした場合には、高解像度の発光層２０パターン形成が可能になることから高精細の有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供することができる。
【００３６】
次に、本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を説明する。本実施形態では、蒸着マスクを使用する。
【００３７】
図７は、蒸着マスクの分解斜視図である。蒸着マスクは、枠体３４を有する。枠体３４は剛体である。枠体３４の熱膨張率は、回路基板１０の熱膨張率の±０．５ｐｐｍ以内である。
【００３８】
蒸着マスクは、第１サブマスク３６を有する。第１サブマスク３６は、間隔をあけて面状に並列された同じ幅の複数の線材３８を有する。第１サブマスク３６は、一対の保持部４０を有している。一対の保持部４０間に複数の線材３８が架け渡されている。第１サブマスク３６は、金属箔をエッチングして形成することができる。
【００３９】
第１サブマスク３６は、複数の線材３８に長さ方向に張力が付与されるように枠体３４に固定されている。すなわち、線材３８には、一対の保持部４０が相互に離れる方向に張力が付与されている。第１サブマスク３６は、複数の線材３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続している。例えば、線材３８の外側に枠部材は存在しない。複数の線材３８は、それぞれの幅が等しいので、均一に張力が分散される。したがって、第１サブマスク３６に歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。線材３８は、図示しない接着剤による接着又は溶接によって枠体３４に固定されている。詳しくは、一対の保持部４０を介して、線材３８が枠体３４に固定されている。
【００４０】
蒸着マスクは、第２サブマスク４２を有する。第２サブマスク４２は、少なくとも１つ（図７の例では複数）の開口４４を有する。複数の開口４４が形成されている場合、製造される有機エレクトロルミネッセンスパネルは、複数の製品が一体化されたマザーパネルであり、１つの開口４４は、１つの製品の表示領域を区画する。開口４４と重なるように、複数の線材３８が第２サブマスク４２の一方の面上（図７では下面下）に配置されている。第２サブマスク４２と枠体３４との間に第１サブマスク３６が介在する。
【００４１】
開口４４とその上又は下を通る線材３８によって、複数のスリット４６が形成される（図９参照）。スリット４６は、長細い長方形である。スリット４６の長方形の長さ方向に沿った側辺（長辺）が線材３８によって区画され、長さ方向の両端（短辺）は、開口４４の縁によって区画される。
【００４２】
図８は、蒸着マスクを使用した有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を説明する図である。本実施形態では、回路基板１０に、蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層２０を形成する。
【００４３】
図９は、蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。蒸着マスクは、第２サブマスク４２の第１サブマスク３６とは反対側の面が回路基板１０に対向するように配置する。また、第２サブマスク４２と回路基板１０を接触させる。ただし、接触はしていても、微視的には第２サブマスク４２と回路基板１０の間にわずかに隙間が形成される。これに対して、第１サブマスク３６（線材３８）と回路基板１０は接触しないようになっている。したがって、第１サブマスク３６（線材３８）と回路基板１０の間に隙間が形成され、その隙間は、第２サブマスク４２と回路基板１０の間の隙間よりも大きい。
【００４４】
蒸着によって、開口４４の内側であって隣同士の線材３８の間のスペースに、それぞれの発光層２０を形成する。バンク１６のそれぞれの列に並ぶ１グループの凹部１８上に、少なくとも１つの発光層２０を形成する（図２及び図３参照）。
【００４５】
図９に示すように、複数の線材３８と回路基板１０との間には隙間があいている。したがって、線材３８と回路基板１０の間には、第２サブマスク４２の開口４４の縁と回路基板１０との間よりも、蒸着材料が入り易い。蒸着材料が入り易い線材３８と回路基板１０の間には、蒸着材料が入り込む距離が長いことで、傾斜角度θ１（図５参照）が緩やかで幅の広い第１側面３０が形成される。一方、蒸着材料が入り難い開口４４の縁と回路基板１０との間には、蒸着材料が入り込む距離が短いことで、θ１と比較して、傾斜角度θ２（図６参照）が急な第２側面３２が形成される。発光層２０は、複数の線材３８に沿って延びる第１側面３０と、開口４４の縁に沿った第２側面３２と、を含む。第１側面３０は、第２側面３２よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成される。
【００４６】
［第２の実施形態］
図１０は、本発明の第２の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【００４７】
本実施形態では、第１サブマスク１３６は、隣同士の線材１３８を接続するリブ１４８を有する点で、第１の実施形態で説明した第１サブマスク３６と異なる。そして、リブ１４８を挟んで両側に線材１３８の延びる方向にスリット１４６が形成される。この例であっても、複数の線材１３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続しているので、第１サブマスク１３６に歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。
【００４８】
図１１は、第２の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。図２に示す例と比較すると、図１１の例では、リブ１４８によって分割されたスリット１４６（図１０参照）の配列に対応して、２つ以上の発光層１２０が間隔をあけて一列に並ぶように形成されている。詳しくは、２つ以上の発光層１２０が、間隔をあけて、長さ方向に沿って一列に並んでいる。その間隔は、隣同士の線材１３８を接続するリブ１４８によって蒸着がマスキングされることで形成される。その他の内容は、上述した第１の実施形態の内容が該当する。
【００４９】
［第３の実施形態］
図１２は、本発明の第３の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。本実施形態に係る蒸着マスクは、第１サブマスク２３６と枠体２３４との間に第２サブマスク２４２が介在する点で、第１の実施形態で説明した蒸着マスク（図７参照）とは異なる。
【００５０】
図１３は、第３の実施形態に係る蒸着マスクと回路基板の配置を説明する図である。本実施形態では、第１サブマスク２３６の第２サブマスク２４２とは反対側の面が回路基板１０に対向するように蒸着マスクを配置する。そして、第１サブマスク２３６と回路基板１０を接触させる。また、第２サブマスク２４２と回路基板１０は接触しないようにする。こうして、第２サブマスク２４２の少なくとも１つの開口２４４の縁と回路基板１０との間には、複数の線材２３８と回路基板１０との間よりも、蒸着材料が入り易くなるように、蒸着を行う。そして、開口２４４の内側であって、隣同士の線材２３８の間のスペース（スリット２１６）に、蒸着によってそれぞれの発光層２２０（図４参照）を形成する。その詳細は、第１の実施形態で説明した通りである。
【００５１】
図１４は、本発明の第３の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。図１５は、図１４に示す構造のXV−XV線断面図である。図１６は、図１４に示す構造のXVI−XVI線断面図である。
【００５２】
発光層２２０は、複数の線材２３８に沿って延びる第１側面２３０と、少なくとも１つの開口２４４の縁に沿った第２側面２３２と、を含む。第２側面２３２は、第１側面２３０よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成される（図１５及び図１６参照）。このような形状になるのは次の理由からである。
【００５３】
図１３に示すように、第１サブマスク２３６（線材２３８）と回路基板１０との間の隙間は小さいため、その隙間には蒸着材料が入り難い。したがって、蒸着材料が入り難い複数の線材２３８と回路基板１０との間には、蒸着材料が入り込む距離が短いことで、傾斜角度が急な第１側面２３０が形成される（図１５参照）。一方、第２サブマスク２４２の開口２４４の縁と回路基板１０との間には、第１サブマスク２３６と回路基板１０との隙間よりも大きな隙間があいている。したがって、第２サブマスク２４２と回路基板１０の間には、第１サブマスク２３６と回路基板１０との間よりも、蒸着材料が入り易い。蒸着材料が入り易い第２サブマスク２４２と回路基板１０の間には、蒸着材料が入り込む距離が長いことで、傾斜角度が緩やかで幅の広い第２側面２３２が形成される（図１６参照）。
【００５４】
［第４の実施形態］
図１７は、本発明の第４の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造に使用する蒸着マスクの分解斜視図である。
【００５５】
本実施形態では、第１サブマスク３３６は、隣同士の線材３３８を接続するリブ３４８を有する点で、第３の実施形態で説明した第１サブマスク２３６と異なる。そして、リブ３４８を挟んで両側に線材３３８の延びる方向にスリット３４６が形成される。この例であっても、複数の線材３３８のみが張力の方向に一直線に切れ目なく連続しているので、第１サブマスク３３６に歪みが生じないように適切なテンションを付与することができる。
【００５６】
図１８は、第４の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。図１４に示す例と比較すると、図１８の例では、リブ３４８によって分割されたスリット３４６（図１７参照）の配列に対応して、２つ以上の発光層３２０が間隔をあけて一列に並ぶように形成されている。詳しくは、２つ以上の発光層３２０が、間隔をあけて、長さ方向に沿って一列に並んでいる。その間隔は、隣同士の線材３３８を接続するリブ３４８によって蒸着がマスキングされることで形成される。その他の内容は、上述した第３の実施形態の内容が該当する。
【００５７】
［第５の実施形態］
図１９は、本発明の第５の実施形態に係る方法で製造された有機エレクトロルミネッセンスパネルの一部を示す図である。
【００５８】
本実施形態では、回路基板４１０は、千鳥状に並ぶ複数の凹部４１８を区画するバンク４１６を有する。そのため、バンク４１６から露出する複数の画素電極４１４の配置はデルタ配列となっている。複数の凹部４１８は、複数列であって各列では一列に並ぶ。それぞれの列に並ぶ１グループの凹部４１８上に、少なくとも１つの発光層４２０を形成する。本実施形態の内容は、上述した第１〜第４の実施形態のいずれにも適用することができる。
【００５９】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００６０】
１０ 回路基板、１２ 回路層、１４ 画素電極、１６ バンク、１８ 凹部、２０ 発光層、２２ 下層、２４ 上層、２６ 共通電極、２８ 封止板、３０ 第１側面、３２ 第２側面、３４ 枠体、３６ 第１サブマスク、３８ 線材、４０ 保持部、４２ 第２サブマスク、４４ 開口、４６ スリット、１２０ 発光層、１３６ 第１サブマスク、１３８ 線材、１４６ スリット、１４８ リブ、２１６ スリット、２２０ 発光層、２３０ 第１側面、２３２ 第２側面、２３４ 枠体、２３６ 第１サブマスク、２３８ 線材、２４２ 第２サブマスク、２４４ 開口、３２０ 発光層、３３６ 第１サブマスク、３３８ 線材、３４６ スリット、３４８ リブ、４１０ 回路基板、４１４ 画素電極、４１６ バンク、４１８ 凹部、４２０ 発光層。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層が第１の電極と第２の電極により挟まれてなるエレクトロルミネッセンス素子を複数個配列された有機エレクトロルミネッセンスパネルであって、
前記発光層は、所定の方向に延びる第１側面と、該第１側面と交差する第２側面と、を含み、
前記第１側面と前記第２側面のいずれか一方の側面が他方の側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項２】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より緩やかにすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項３】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より急峻にすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項４】
枠体と、間隔をあけて面状に並列された複数の線材を有する第１サブマスクと、少なくとも１つの開口を有する第２サブマスクと、を有する蒸着マスクを用意する工程と、
回路基板に、前記蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層を形成する工程と、
を含み、
前記第１サブマスクは、前記複数の線材に長さ方向に張力が付与されるように前記枠体に固定され、前記複数の線材のみが前記張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、前記複数の線材が前記少なくとも１つの開口と重なるように、前記第２サブマスクの一方の面上に配置されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第２サブマスクの前記第１サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、
前記蒸着を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、
それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、
前記第１側面は、前記第２側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項７】
請求項４に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第１サブマスクの前記第２サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向するように配置して、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、
前記蒸着を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、
それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、
前記第２側面は、前記第１側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項９】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第１サブマスクは、一対の保持部を有し、前記一対の保持部間に前記複数の線材が架け渡され、前記一対の保持部が前記枠体に固定されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記回路基板は、複数行複数列で並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、
前記複数の凹部は、各行に沿って一列に並び、各列に沿って一列に並び、
それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記回路基板は、千鳥状に並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、
前記複数の凹部は、複数列であって各列では一列に並び、
それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１２】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第１サブマスクは、隣同士の線材を接続するリブを有し、前記リブを挟んで両側に前記線材の延びる方向にスリットが形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記スリットの配列に対応して、２つ以上の前記発光層が一列に並ぶように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１】
発光層が第１の電極と第２の電極により挟まれてなるエレクトロルミネッセンス素子を複数個配列された有機エレクトロルミネッセンスパネルであって、
前記発光層は、所定の方向に延びる第１側面と、該第１側面と交差する第２側面と、を含み、
前記第１側面と前記第２側面のいずれか一方の側面が他方の側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項２】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より緩やかにすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項３】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルにおいて，前記第１側面の断面形状を前記第２側面より急峻にすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項４】
枠体と、間隔をあけて面状に並列された複数の線材を有する第１サブマスクと、少なくとも１つの開口を有する第２サブマスクと、を有する蒸着マスクを用意する工程と、
回路基板に、前記蒸着マスクを使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層を形成する工程と、
を含み、
前記第１サブマスクは、前記複数の線材に長さ方向に張力が付与されるように前記枠体に固定され、前記複数の線材のみが前記張力の方向に一直線に切れ目なく連続し、前記複数の線材が前記少なくとも１つの開口と重なるように、前記第２サブマスクの一方の面上に配置されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第２サブマスクの前記第１サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、
前記蒸着を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、
それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、
前記第１側面は、前記第２側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項７】
請求項４に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第１サブマスクの前記第２サブマスクとは反対側の面が前記回路基板に対向するように配置して、前記第１サブマスクと前記回路基板が接触し、前記第２サブマスクと前記回路基板が接触しないように、前記蒸着マスクを配置し、
前記蒸着を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記少なくとも１つの開口の内側であって、隣同士の前記線材の間のスペースに、前記蒸着によってそれぞれの前記発光層を形成し、
それぞれの前記発光層は、前記複数の線材に沿って延びる第１側面と、前記少なくとも１つの開口の縁に沿った第２側面と、を含み、
前記第２側面は、前記第１側面よりも緩やかな角度で立ち上がるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項９】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第１サブマスクは、一対の保持部を有し、前記一対の保持部間に前記複数の線材が架け渡され、前記一対の保持部が前記枠体に固定されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記回路基板は、複数行複数列で並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、
前記複数の凹部は、各行に沿って一列に並び、各列に沿って一列に並び、
それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記回路基板は、千鳥状に並ぶ複数の凹部を区画するバンクを有し、
前記複数の凹部は、複数列であって各列では一列に並び、
それぞれの列に並ぶ１グループの前記凹部上に、少なくとも１つの前記発光層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１２】
請求項４から８のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記第１サブマスクは、隣同士の線材を接続するリブを有し、前記リブを挟んで両側に前記線材の延びる方向にスリットが形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載された有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、
前記スリットの配列に対応して、２つ以上の前記発光層が一列に並ぶように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【公開番号】特開２０１２−２２９３２（Ｐ２０１２−２２９３２Ａ）
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１６０７０２（Ｐ２０１０−１６０７０２）
【出願日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年２月２日（２０１２．２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月１５日（２０１０．７．１５）
【出願人】（５０２３５６５２８）株式会社 日立ディスプレイズ (2,552)
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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