【課題】蒸着ヘッドから噴射された成膜材料が被処理基板と、処理室又は他の蒸着ヘッドとの間で反跳し、蒸着されるべき箇所とは異なる部位に成膜材料が付着したり、各成膜材料噴出部からの蒸気が混じりあい隣接する膜中に不純物として混入する。
【解決手段】被処理基板Ｇを収容する処理室１１と、成膜材料の蒸気を該被処理基板へ向けて噴出する成膜材料噴出部１３とを備える成膜装置１に、成膜材料噴出部１３から噴出され、被処理基板Ｇで反跳した成膜材料を捕捉する捕捉部１６，１６…を処理室１１の内部に備える。 （もっと読む）

【課題】 放出装置によってマスク板が加熱されない有機薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】蒸気を放出しながら移動する放出装置３１〜３６を、マスク板１４と対面する位置を通過させ、マスク板１４の貫通孔底面に露出する部分の基板１３の成膜面に有機薄膜を形成する有機薄膜製造装置１０に於いて、高温に昇温される放出装置３１〜３５又は３６は、マスク板１４に近い位置を通過させないようにする。高温の放出装置３１〜３５又は３６が放射する熱によるマスク板１４の加熱が緩和され、マスク板１４が変形しないようになる。 （もっと読む）

【課題】 リニアソースに好適な水晶発振式膜厚モニタ装置と共に、膜厚モニタを用いたＥＬ材料の蒸発源装置や薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 外周端に沿って複数の水晶振動子５０を保持する円盤状の水晶振動子ホルダ１０と、その表面を覆い、かつ、その一個に対応した位置にだけ開口部２１を設けたカバー２０を備えたヘッダと、ヘッダの裏面に設けられた回転機構と、ホルダの回転に伴って開口部から表面を外部に露出する一の水晶振動子の共振周波数を検出する共振周波数検出手段を備えた水晶発振式膜厚モニタ装置では、ヘッダを構成する円盤状のホルダの外周部を円錐状に、内側に角度θだけ窪ませて水晶振動子表面から延長した垂線を円盤状のホルダの回転軸に対して角θだけ傾斜させ、ホルダを回転する駆動部５５０を含む回転機構を、水晶振動子ホルダの回転軸に対して垂直に伸びた方向に設ける。 （もっと読む）

【課題】成膜材料を微量に蒸発させることで成膜材料の利用効率を高めることができる蒸発装置を提供する。
【解決手段】基板Ｋ上に薄膜を蒸着形成する蒸着装置１０において、有機材料からなる成膜材料Ｐを収容する容器３と、容器３に収容された成膜材料Ｐに混入される導電性の粒状混合物４と、容器３内の粒状混合物４を誘導加熱する加熱部５と、を備え、粒状混合物４の成膜材料Ｐに対する体積比は、１／１００００以上で１／１００未満の範囲内の値である。 （もっと読む）

【課題】種々の多数の基板に対して真空蒸着法による成膜を効率良く行う技術を提供する。
【解決手段】本発明は、真空槽２内において、第１及び第２のマスク３１、３２を介して第１及び第２の基板５１、５２上に蒸着を行う真空蒸着装置である。本発明は、第１及び第２の基板５１、５２を保持する保持手段８０と、第１及び第２のマスク３１、３２をそれぞれ支持するマスク支持部１７、１８と、マスク支持部１７、１８を非接触の状態でそれぞれ位置合わせを行う第１及び第２のＸＹθステージ１５、１６とを有する。第１及び第２のＸＹθステージ１５、１６は、コ字形状に形成され、第１及び第２のＸＹθステージ１５、１６の端部がそれぞれ対向するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板１００に対して薄膜を形成する真空蒸着装置２００であって、基板１００に対向して搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着材料を放出する第１蒸着源２０３と、基板１００に対向して搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着源２０３に対して搬送方向Ａにずれて配置され、第１蒸着材料に重なり合うように第２蒸着材料を放出する第２蒸着源２０４と、搬送方向Ａに沿って配列された複数の羽板部材２０７ａと、を備え、複数の羽板部材２０７ａは、放出された第２蒸着材料の進行方向に対して傾斜し、且つ、放出された第１蒸着材料の進行方向に対して平行となるように設けられている。 （もっと読む）

【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板１００に対して薄膜を形成する真空蒸着装置２００であって、基板１００に対向して搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着材料を放出する第１蒸着源２０３と、搬送方向Ａに直交する幅方向に延在し、第１蒸着源２０３に対して搬送方向Ａにずれて配置され、放出された第１蒸着材料に重なり合うように第２蒸着材料を放出する第２蒸着源２０４と、第２蒸着源２０４が延在する方向と同一の方向に延在し、放出された第２蒸着材料に重なる位置であって、放出された第１蒸着材料に重ならない位置に設けられた遮蔽部材２３０と、を備え、遮蔽部材２３０は、放出された第２蒸着材料の一部を通過する開口部２３１を有する。 （もっと読む）

【課題】ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を精度良く蒸着させるとともに、蒸着材料のロスを抑制する。
【解決手段】真空処理室２０１内において、基板１００に対して蒸着材料を蒸着させて薄膜を形成する真空蒸着装置２００であって、内部に収容された蒸着材料を加熱し、発生した蒸着材料の蒸気を放出口２０４ａから基板１００へ向けて放出する第２蒸着源２０４と、第２蒸着源２０４に連結され、第２蒸着源２０４の内部で発生した蒸着材料の蒸気を導く導管２２０と、導管２２０を流れる蒸着材料の蒸気の流量を制御する流量制御バルブ２２１と、導管２２０を介して第２蒸着源２０４に連結されて、第２蒸着源２０４の内部で発生した蒸着材料の蒸気を回収する回収容器２３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で均一な膜厚および膜質の蒸着膜を成膜可能な蒸発源およびこれを備えた蒸着装置ならびに蒸着方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１の有機層１６を真空蒸着法によって形成する。底部が平坦な加熱用容器２１に、溶媒に溶解または均一に分散させた有機材料を流し込む。加熱用容器２１を加熱することにより溶媒を除去し、加熱用容器２１の底部に均質に分散した有機膜２２を形成する。この有機膜２２を蒸発源２とすることより、基板１１の大きさにかかわらず、均一な膜厚および膜質の有機層１６を容易に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイの生産性を高めるため、高い成膜速度で長時間安定に成膜作業を実施し、かつ均一な膜厚分布を達成する。
【解決手段】成膜室内で、昇華又は蒸発した成膜材料を基板Ｗに成膜する成膜装置において、加熱機構１１を備えた複数の材料収容部１０と、成膜材料を基板Ｗに向けて放出させる放出口１３との間に、連結空間１４を配置する。複数の材料収容部１０を用いることで高い成膜速度を得るとともに、各材料収容部１０から昇華又は蒸発した成膜材料を連結空間１４において混合し、均一な膜厚分布を実現する蒸気として複数の放出口１３から基板Ｗに向かって放出する。 （もっと読む）

【課題】蒸着源及び有機膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程に容易に適用でき、蒸着工程中にノズルの閉塞現象を防止して、歩留まり及び蒸着効率を高める蒸着源及びこれを利用した有機膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】発光色の変動が抑制された、高品質な有機ＥＬ素子を製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源のノズルから気化された有機層形成材料を吐出させて、前記基材の電極層側に有機層を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記蒸着源として、前記キャンロール側に突設され、先端部が前記キャンロールの軸方向両端部に当接する突出部材が備えられたものを用い、弾性体を介して前記突出部材が前記キャンロールに当接する方向に前記蒸着源を付勢しつつ、前記蒸着工程を実施することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】互いに真空度の異なる複数の成膜室間での基板の連続搬送・連続成膜処理を可能にしながら有機ＥＬ素子などの半導体素子の生産性を大幅に向上させることを低コストで実現可能とする真空一貫成膜装置を提供する。
【解決手段】互いに真空度の異なる複数の成膜室１，２と、前記各成膜室の間を圧力差を維持しながら連通させる圧力調整室３とを備えた真空一貫成膜装置であって、前記圧力調整室には、前記圧力調整室が連通させている各成膜室の間を基板が挿通可能なスリットの部分を除いて遮蔽する遮蔽部材が備えられている。また、前記遮蔽部材を冷却する冷却部が備えられている。また、前記遮蔽部材の表面には活性炭またはゼオライトなどの吸着剤が付着されている。さらに、前記遮蔽部材は、その一部に基板が挿通可能なスリットが形成された遮蔽板である。 （もっと読む）

【課題】発光色の変動が抑制され、高品質な有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源のノズルから気化された有機層形成材料を吐出させて、前記基材の電極層側に有機層を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記基材の移動方向に対し前記ノズルよりも上流側において前記キャンロールに支持された前記基材までの第１の距離を測定可能な距離測定手段と、前記蒸着源のノズルと前記基材の表面との間の第２の距離を調整可能な位置調整手段と、を用い、前記距離測定手段による前記第１の距離の測定結果に基づいて、前記位置調整手段により前記第２の距離が一定となるように制御しつつ前記蒸着工程を行なうことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】テープ状基材の表面に、基材の幅方向に厚みの揃った均一な薄膜を、連続して効率的に形成することのできる蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着室１１内に設けられた蒸着源１と、蒸着用のテープ状基材１０を供給するための基材供給手段（３）と、蒸着源１から蒸散する蒸着材料をテープ状基材１０の被蒸着面に対して放出する放出口１ａと、蒸着後のテープ状基材１０を回収するための基材巻取り手段（４）と、テープ状基材１０の蒸着位置を蒸着源１の放出口１ａに対して所定の距離に保持するための基材支持手段（５）とを備える蒸着装置であって、蒸着源１の放出口１ａには、テープ状基材１０に対する蒸着材料の付着量を均一に制御する所定形状の遮蔽マスク２が、交換可能に装着されている。 （もっと読む）

【課題】蒸着重合において、ポリイミド被膜の密着力が低くなることを防止しつつ成膜速度を大きくすることができる成膜基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜基材の製造方法は、第１工程と第２工程とを備える。第１工程では、成膜室２０内で、室内温度Ｔを予め設定される基材１０の酸化基準温度（２５０度）より低い第１温度（２２０度）に設定し、室内圧力Ｐを第１温度で原料モノマー３１，４１が気化する第１圧力（１５Ｐａ）に設定して、基材１０の表面にポリイミドの酸化防止用被膜１１ａを形成する。第２工程では、成膜室２０内で、原料モノマー３１，４１の分子数を増加して室内圧力Ｐを第１圧力より大きい第２圧力（９０Ｐａ）に設定し、室内温度Ｔを酸化基準温度より高く且つ第２圧力で各原料モノマー３１，４１が気化する第２温度（３００度）に設定して、酸化防止用被膜１１ａの表面にポリイミドの厚膜用被膜１１ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】マスクをフレームに引っ張り溶接するときに発生しうるシワを改善することが可能な、マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】フレームと、フレームに第１方向に引っ張られた状態で設けられるマスクと、を備え、マスクは、複数の蒸着用パターン部が備えられる蒸着領域と、蒸着領域より厚く形成され、蒸着領域の両側に前記第１方向に沿って延設されるエッジ部と、蒸着領域より厚く形成され、第１方向と垂直の第２方向に隣接した蒸着用パターン部の間に少なくとも２つ以上形成されるリブと、を備えるマスクフレーム組立体が提供される。 （もっと読む）

【課題】基材に形成される各層の移動方向及び該移動方向と垂直方向のアライメントを調整して、効率的に有機ＥＬ素子を製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源を用いて、有機層を形成する蒸着工程を含む有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記蒸着工程では、更に、シャドーマスクを、前記キャンロールに当接した前記基材と前記ノズルとの間に介入させるように供給し、シャドーマスクとして、長手方向に配列された複数の貫通孔が設けられたものを用い且つ前記キャンロールとして、前記貫通孔に係合する係合突起部が設けられたものを用い、それらを係合させて前記基材及びシャドーマスクを移動させることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】加熱による蒸着材料の劣化を抑制しつつ、より安定に蒸着材料を対象部材に蒸着することのできる真空蒸着装置及び真空蒸着方法を提供することを目的とする。
【解決手段】真空蒸着装置１は、開口部を有し、蒸着材料３を収容可能な容器４と、該容器４に蒸着材料３が収容された場合に、蒸着材料３と接触するよう容器４内に固定配置された、外部から個別に加熱制御可能な複数の熱源５と、を備える。熱源５を蒸着材料３と直接接触させることにより、効率良く蒸着材料３を加熱することができる。 （もっと読む）

【課題】真空槽内の真空雰囲気を維持しながら振動子から付着膜を除去できる真空蒸着装置及び薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】
真空排気された真空槽１１内に蒸着材料の蒸気を放出させ、ホルダ３２ａ、３２ｂに接触して保持された振動子３１ａ、３１ｂの表面に蒸気を付着させ、付着膜の膜厚を測定しながら、基板１６に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、付着膜の蒸発温度より融点の高い振動子３１ａ、３１ｂとホルダ３２ａ、３２ｂと、ホルダ加熱装置３３ａ、３３ｂとを用いて、真空槽１１内の真空雰囲気を維持しながら、ホルダ３２ａ、３２ｂの融点と振動子３１ａ、３１ｂの融点の両方より低い温度でかつ付着膜の蒸発温度以上の温度にホルダ３２ａ、３２ｂを加熱し、ホルダ３２ａ、３２ｂからの熱伝導により振動子３１ａ、３１ｂを加熱し、振動子３１ａ、３１ｂから付着膜を気化させて除去する。 （もっと読む）