【課題】垂直磁気記録媒体のグラニュラー記録層において磁性粒子と非磁性粒界を適切に分離し、磁性粒子の磁気異方性を損なうことなく粒子間の磁気的相互作用を低減し、媒体ノイズを低減する。
【解決手段】ＣｏとＰｔとＣｒとを含む合金結晶粒子と、ＳｉとＯとを含む非磁性粒界を含み、記録層中のＳｉ原子数に対するＯ原子数の比率が２．５以上５以下、記録層中のＳｉ原子含有率が３〜６原子％、Ｏ原子含有率が１２〜２０原子％である垂直磁気記録媒体を用いる。また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±１０％以下とする。 （もっと読む）

【課題】
構成元素や不純物添加量が膜中で変化した薄膜を短時間かつ低コストで形成可能なマグネトロンスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】
マグネトロンスパッタリング装置１０は、薄膜が堆積される基体３０と、基体３０と対向して配置されたターゲット２０と、ターゲット２０の表面に磁界を発生させる磁界発生手段として磁石５０およびヨーク５２を備える。ターゲット２０が２つの領域に分割され、一方の領域にＺｎ_２ＧｅＯ_４：Ｍｎ（２ａｔ．％）を充填し、他方の領域にＺｎ_２ＧｅＯ_４：Ｍｎ（２ａｔ．％）を充填することにより、Ｇｅ含有量Ｘが基体上の長手方向に連続的に変化したＺｎ_２Ｓｉ_１−ＸＧｅ_ＸＯ_４：Ｍｎ（２ａｔ．％）複合酸化物蛍光体薄膜を基体３０上に形成することができる。 （もっと読む）

本発明は、厚膜絶縁性電子発光ディスプレイ用の多成分の薄膜の燐光物質のための新規なスパッタターゲット及び蒸着方法であって、蒸着された燐光物質は、テレビ用として要求される高輝度と多色を提供する。 この方法は、反応種と非反応種とを有するガスを含む低圧スパッタリング雰囲気中で、単一の複合ターゲットをスパッタリングするステップを備えている。 この複合ターゲットは、マトリクス相と封入相、若しくは２つのマトリクス相を有しており、前記相の一方が、燐光物質の組成に寄与する一以上の金属元素を含むと共に、成分相の他方が、燐光物質の組成に寄与する残余の元素を含んでいる。 前記方法においては、複合ターゲットのマトリクス相及び封入相のスパッタリング速度を制御するためにスパッタリング雰囲気内で前記反応種の圧力を変化させることにより、蒸着すべき２つの相における元素の割合を、基板上に形成する燐光体膜として所望の割合とするステップを更に備えている。 （もっと読む）

本発明は、基板上で金属M1の炭化物からナノロッドを合成する方法に関する。該発明の方法は、(a)基板上での、金属M1の酸化物のナノ結晶および金属M1とは異なる少なくとも1種の金属M2の酸化物のナノ結晶の層(M1金属酸化物ナノ結晶は、この層に分散している)を蒸着させるステップ、(b)金属M1およびM2の酸化物ナノ結晶を対応する金属に還元するステップ、および(c)金属M1のナノ結晶を選択的に成長させるステップよりなる。本発明は、また、基板上で前記材料のナノ結晶から金属M1の炭化物のナノロッドを成長させる方法、かくして得られた基板、およびそれらの用途、例えば化学的または生物学的機能性を含むミクロシステム、特にバイオセンサー、例えばフラットテレビまたはコンピュータスクリーンなどのための電子放射源の製造における用途にも関する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ中のある程度の割合のイオンを薄膜に接触させて成膜の形成を行うことができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置１は、真空槽１１の前記開口１１ａに対応する位置に設けられ真空槽１１内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段８０と、真空槽１１内で基体を保持する基体保持手段１３と、プラズマ発生手段８０と基体保持手段１３との間に設けられたイオン消滅手段９０を備える。プラズマ発生手段８０から基板ホルダ１３を臨んだときの、イオン消滅手段９０がプラズマ発生手段８０に対して基体保持手段１３を遮蔽する面積は、プラズマ発生手段８０から基板ホルダ１３を臨む残余の面積よりも狭く構成されている。 （もっと読む）

【課題】バリア性の高いバリア膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
本発明に用いるターゲット４５ａ、４５ｂは、ＣｒとＡｌとを含有するフェロシリコンを主成分としており、そのようなターゲット４５ａ、４５ｂは耐久性が高いので、ターゲット４５ａ、４５ｂ割れに起因するピンホール等の欠陥が成膜される薄膜に発生し難い。また、耐久性が高いので、樹脂フィルム１１の長い成膜領域に成膜を行う場合であっても、ターゲット４５ａ、４５ｂを交換する必要がない。 （もっと読む）

【課題】
スパッタ膜の成分の組成比の変動を抑制し、高密度記録を行う光ディスクに好適なスパッタ膜を得る。
【解決手段】
金属チップ１４は、ターゲット表面側からターゲット深部側に向かう厚み方向に萎むテーパ１４Ａが形成された形状となっている。このテーパ１４Ａの角度は、ターゲットベース１２の露出面積と、金属チップ１２の露出面積の比率が、エロージョン進行によっても変化しないように設定される。すなわち、金属チップ１２の上側の面積と下側の面積の比率が、エロージョン進行に伴って生ずる面積比の変動をキャンセルするように、テーパ１４Ａが形成される。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット材料の多数のタイルを含むターゲットを提供する。
【解決手段】 特に、ターゲット材料を大きな長方形パネルにスパッタ堆積するためのスパッタリングターゲット(80)において、複数のターゲットタイル(32)が二次元の非長方形アレイにおいてバッキングプレート(34)に接合され、タイルは３つ以下のタイルの間隙(84)で合流し、従って、接合中及び繰り返しの熱サイクル中に過剰な不整列に対してタイルをロックする。長方形タイルは、食い違った行、或いはヘリングボーン又はジグザグパターンで配列されてもよい。六角形及び三角形タイルも、本発明の多数の効果を発揮する。扇形状のタイル(154)は、中心に食い違ったオフセット(156)をもつ円形ターゲット(150)において配列されてもよい。 （もっと読む）