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Fターム[4K029DC15]の内容

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Fターム[4K029DC15]に分類される特許

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【課題】耐酸性に優れ、かつ接触抵抗が低い燃料電池用金属セパレータおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る燃料電池用金属セパレータ1は、表面が平面の、または、表面の少なくとも一部に凹形状のガス流路が形成される金属基材2を用いて製造された燃料電池用金属セパレータであって、金属基材2の表面に、Zr、Nb、Taから選択される1種以上の非貴金属を含んでなる耐酸性金属皮膜3と、この耐酸性金属皮膜3の上にAu、Ptから選択される1種以上の貴金属、および、Zr、Nb、Taから選択される1種以上の非貴金属を含んでなる導電性合金皮膜4と、を有する構成とした。また、本発明に係る燃料電池用金属セパレータの製造方法は、耐酸性金属皮膜を成膜する工程S1と、導電性合金皮膜を成膜する工程S2と、を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】従来よりも光電変換効率が改善された光触媒膜として用いられ得る新規な膜およびその製造方法、ならびに、このような膜を用いた、水溶液から水素を発生するのに適した水素発生装置を提供する。
【解決手段】光を吸収して電子と正孔を生じる半導体酸化物で形成された膜であって、当該半導体酸化物が、Feに対するTiの原子数比が0.05〜0.2のTi含有Fe23であることを特徴とする半導体酸化物膜およびその製造方法、ならびに当該半導体酸化物膜を用いた水素発生装置。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、配線溝や層間接続路表面に形成されたTaNからなるバリア層との密着性が良好なCu配線と、このCu配線を製造できる方法を提供する。本発明の他の目的は、半導体基板上の絶縁膜に形成された配線溝や層間接続路の幅が狭く、深い場合でも、バリア層との密着性が良好で、配線溝や層間接続路の隅々に亘って埋め込まれているCu配線と、このCu配線を製造できる方法を提供する。
【解決手段】半導体基板上の絶縁膜に形成された配線溝または層間接続路に埋め込まれたCu配線を、(1)配線溝側または層間接続路側に形成されたTaNからなるバリア層と、(2)Pt、In、Ti、Nb、B、Fe、V、Zr、Hf、Ga、Tl、Ru、ReおよびOsよりなる群から選ばれる1種以上の元素を合計で0.05〜3.0原子%含有するCuからなる配線本体部とで構成すればよい。 (もっと読む)


【課題】臨界電流密度Jcが高く、かつ磁場角度依存性が小さい超電導体膜を提供する。
【解決手段】
一般式REBaCu(式中、REはPr及びCeを除く希土類元素のうち、少なくとも1種の元素であり、6.5<X<7.1である)で表される超電導物質からなる超電導体層中に、Baを含む常電導物質からなり、膜厚方向に間欠的に並んだ柱状結晶が形成されている。 (もっと読む)


【課題】 シンタリングが発生せず、かつ触媒特性に優れた導電性触媒粒子及びその製造方法、ガス拡散性触媒電極及び電気化学デバイスを提供すること。
【解決手段】 導電性粉体の表面に、MI(但し、MIはPt、Ir、Pd、Rh、Au又はRuからなる貴金属元素)と、MII(但し、MIIはCo、Ni、Cr、Al、Cu、Hf、Zr、Ti、V、Nb、Ta、W、Ga、Ge、Si、Re、Os、Pb、Bi、Sb、Mo、O、N、F、C、Zn、In又は希土類元素)との合金からなる触媒材料が付着している、導電性触媒粒子、及び、MIとMIIを物理蒸着法によって導電性粉体の表面に同時に付着させる導電性触媒粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 従来と比べて担持する物質の使用量を少なくすることによりコストを低減させた担持微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る担持微粒子の製造方法は、内部形状が多角形である真空容器内に、表面に複数の細孔21を有する微粒子3を収容し、前記真空容器を回転させることにより該真空容器内の微粒子を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行う担持微粒子の製造方法であって、前記担持微粒子における前記超微粒子又は薄膜は、前記複数の細孔21内より前記微粒子3の見掛け表面に多く担持されており、前記担持微粒子は、前記超微粒子又は薄膜が担持されていない前記細孔21を有し、前記担持微粒子は、1次電池の電極触媒、2次電池の電極触媒、燃料電池の電極触媒、1次電池の電極材料、2次電池の電極材料、及び燃料電池の電極材料のうち少なくとも一つに用いられるものである。 (もっと読む)


【課題】常温接合において、基板面に中間材を均一に形成し、接合時の加熱が不要で常温にて接合しても十分な接合強度が得られる方法、及び装置を提供する。
【解決手段】複数の基板4を中間材を介して常温で接合する方法において、複数のターゲット7を物理スパッタリングすることによって、前記基板の被接合面上に前記中間材を形成する工程と、被接合面をイオンビームにて活性化する工程と、を含む常温接合方法である。この場合、複数の種類の材料で構成されるターゲットを物理スパッタリングすることが好ましい。基板の被接合面から見て、種々の方向に配置された複数のターゲットから中間材の材料がスパッタリングされるので、前記被接合面へ中間材を均一に形成できる。更に、複数の種類の材料で中間材を形成しているので、単一種類の材料で中間材を形成しても接合し難い基板同士の常温接合が、接合時の加熱や過度な圧接無しに可能となる。 (もっと読む)


【課題】 一般的な成膜方法であるスパッタリング法や蒸着法等の物理的気相成長法において、特殊な処理をしなくても、Pt−Fe二元系合金膜よりも低温で規則化することができる磁性薄膜を提供すること。
【解決手段】Pt 40〜60at%、Fe 40〜60at%およびP 0.05〜1.0at%ならびにさらに場合によりCuおよび/またはNi 0.4〜19.5at%より構成される磁性薄膜およびスパッタリングターゲットまたは蒸着材料。 (もっと読む)


【課題】基板上にマスクを設け、マグネトロンスパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成するためのマグネトロンスパッタ用ターゲットにおいて、マグネトロンスパッタリングにより、スパッタリングターゲット材の消費に無駄が無く透明導電膜を形成でき、また透明導電膜の抵抗率や透過率の制御が容易にできるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】多数の穴の開いた透明導電膜用材料からなる円盤状ターゲットに、ターゲットと同一透明導電膜用材料または他の透明導電膜用導電材料からなる円柱ピン形状のターゲットを多数の穴に完全充填するよう挿入させたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ターゲットを大型化してもそのクラックや破壊を未然に防止できる新規なコーティング装置およびスパッタリング成膜方法の提供。
【解決手段】チャンバー10内に設置されるバッキングプレート90に当該バッキングプレート90と線膨張係数の異なる板状のターゲット40を備えたコーティング装置100であって、前記ターゲット40を複数の分割ターゲット40aで構成すると共に当該各分割ターゲット40a同士を元の形状を維持すべく互いに所定の隙間を隔てて配置し、各々前記バッキングプレート90に取り付ける。これによって、各分割ターゲット40a間の隙間が適宜拡大縮小することでその膨張収縮量の差を吸収できるため、大型のターゲット40を用いた場合でも、これにクラックや破壊が生ずるのを防止できる。 (もっと読む)


【課題】反射率が高く、湿度や熱によるAgの凝集が発生し難いリフレクター用Ag合金反射膜およびリフレクター並びにリフレクター用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】(1) リフレクター用Ag合金反射膜であって、Agを主成分とし、Ti、V、Cr、Mn、Mg、Wから選ばれる1種以上を合計で3原子%超7原子%以下含有することを特徴とするリフレクター用Ag合金反射膜、(2) このAg合金反射膜においてAu、Pt、Pd、Cuから選ばれる1種以上を合計で0.3 〜2原子%含有しているもの、(3) このAg合金反射膜において波長が650nm の光によって測定される反射率が85%以上であるもの、(4) このAg合金反射膜においてスパッタリング法により形成されているもの、(4) このAg合金反射膜を備えていることを特徴とするリフレクター、(5)このAg合金反射膜の形成用ターゲット等。 (もっと読む)


【課題】配線材とバリアメタル層の密着性を向上させる。
【解決手段】第1の基板温度で、表面に凹部が形成された層間絶縁膜中及びその表面の酸
化種を放出させ、その後、前記第1の基板温度より低い第2の基板温度で、前記層間絶縁
膜の少なくとも一部と接触するようにして、Ti及びNを含み、酸素(O)及び貴金属成分を除く全成分におけるTi含有量が50at%を超える層を形成する。次いで、前記層上にCu金属層を形成して半導体装置を製造する。 (もっと読む)


【課題】既存のスパッター装置に適用でき、同一薄膜形成室内において、複数の異なる組成を有する層からなる組成制御性に優れた多層膜が作れるだけでなく、添加材料の交換時においてもターゲットを汚染せず、コスト面においても有利に組成の異なる複数の不純物材料が添加できるスパッターターゲット、スパッター装置、スパッター法及びこれにより得られる多層膜を提供する。
【課題を解決するための手段】主ターゲット2と、この主ターゲット2上に載置される補助ターゲット3とを備え、補助ターゲット3は、添加材料4と、この添加材料4を主ターゲット2から離間させるための離間手段5とを備えたスパッターターゲット1を用いる。また、スパッターターゲット1を備えたスパッター装置又はスパッター方法により組成の異なる複数の不純物材料を添加した多層膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】高い熱伝導率を有する金属膜中に透明誘電体粒子を分散させた優れた放熱特性と高い透過率を有する半透過反射膜を、安定かつ高い作業効率で成膜可能な光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】半透過反射膜25aを構成する金属膜40と同一材料の金属ターゲット40aの成膜粒子生成部位45に、透明誘電体粒子42と同一材料の複数の透明誘電体チップ42aとを配設したターゲット44をスパッタリング装置に用いることで、金属膜40中に透明誘電体粒子42が分散した優れた放熱特性と高い透過率を有する半透過反射膜25aを、作業効率良く安定して成膜することができる。また、金属ターゲット40aの成膜粒子生成部位45に配設する透明誘電体チップ42aが占める面積の割合を変化させることで、半透過反射膜25aの透過率の制御を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】摩擦係数の一層の低減を図るとともに、簡便なプロセスで製造することができる硬質炭素被膜を提供すること。
【解決手段】非晶質炭素を主成分とし、該被膜中にCoやNiを合計で1.4〜9原子%含有し、該被膜中に存在するCo凝集体2またはNi凝集体2は、被膜断面を透過型電子顕微鏡で観察した際の該顕微鏡像上で、等価円直径が5nmを超える該凝集体の占める領域が面積比で30%以下であり、被膜表面にナノチューブを有する。ナノチューブの面密度が、1cm2あたり104本以上108本以下である。顕微鏡像上で、等価円直径が5nmを超える凝集体の占める領域の面積比をX%とし、該被膜中のコバルト及びニッケルの合計含有量をY原子%としたときに、X<4Yを満たす。 (もっと読む)


【課題】摩擦係数の一層の低減を図るとともに、簡便なプロセスで製造することができる硬質炭素被膜を提供すること。
【解決手段】最表面の第2層とその下層の第1層がなす積層構造を含んで成り、第2層は、非晶質炭素を主成分とし、CoやNiを合計で1.4〜39原子%含有し、第2層中に存在するCoまたはNiの凝集体5は、該第2層を透過型電子顕微鏡で観察した際の顕微鏡像上で、等価円直径が5nmを超える該凝集体の占める領域が面積比で30%以下であり、第1層がダイヤモンド多結晶から成る、硬質炭素被膜である。第2層の断面顕微鏡像上で、等価円直径が5nmを超える凝集体の占める領域の面積比をX%とし、第2層中のCoやNiの合計含有量をY原子%としたときに、X<4Yを満たす。 (もっと読む)


【課題】ZnO膜製造時の物理的なダメージを抑制し、残留能力が小さく良好な結晶性を有し、透明性及び導電性等の性状に優れたZnO透明導電膜、及びその低コストで効率の良い製造方法を提供する。
【解決手段】ZnOを主材料として、アルミニウム及びフッ素を共ドープすることによりZnO透明導電膜を構成する。このZnO透明導電膜は、基板を配置した陽極と、Alを含有するZnOとZnFをターゲットとして配置した陰極の間にメッシュ状のグリッド電極を設け、陰極に高周波電力を印加することにより基板上に形成することができる。 (もっと読む)


本発明は、回転可能なスパッタターゲット及びこのようなスパッタターゲットを製造する方法に関する。スパッタターゲットは、ターゲット材料及びターゲット材料の内部に配置された磁石アレイを備えている。磁石アレイは、ターゲット材料の長さの大部分に沿って延在する中心区域を画定すると共に、中心区域の各端に端区域を画定している。ターゲット材料は、第1の材料及び第2の材料を備えている。ターゲット材料は、少なくとも中心区域において第1の材料を備えると共に、少なくとも端区域において第2の材料を備えている。第2の材料は、第1の材料よりも低いスパッタ堆積率を有している。好ましくは第2の材料は、溶射によって施される。第1の材料は、第1の元素を含み、第2の材料は、第1の材料の第1の元素の化合物を含んでいる。
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【課題】Siを含有する皮膜の高硬度と耐熱性を活かし、靭性を高めることにより耐剥離性を改善し、更に表面平滑性に優れる被覆工具を提供することである。
【解決手段】基材表面に皮膜を被覆した被覆工具において、該皮膜の少なくとも1層は、Siを含有した窒化物の硬質皮膜であり、該硬質皮膜はKrを含有することを特徴とする被覆工具であり、該硬質皮膜のKr含有量が原子%で、0.01以上、0.6以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】ターゲットのエロージョンの均一化を図ったマグネトロンカソード及びそのスパッタ装置の提供。
【解決手段】円形の内ターゲット5と、その外側に内ターゲット5と同心状の外ターゲット4を具備するマグネトロンカソード1において、外ターゲット4の背面側に位置して外ターゲット4を保持する外ターゲット用裏板部62に対して不動であり、外ターゲット用マグネット群及びマグネット群が固定される外ヨーク10からなる外マグネットユニット9と、内ターゲット5の背面側に位置して内ターゲット5を保持する内ターゲット用裏板部72に回転可能及び移動可能とし、内ターゲット用マグネット群81及びマグネット群が固定される内ヨーク11からなる内マグネットユニット8と、内マグネットユニット8を内ターゲット5に対して移動させる移動制御手段と、内マグネットユニット8を内ターゲット5に対して回転させる回転制御手段を具備する。 (もっと読む)


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