【課題】本発明は、好ましくは高速度でのノジュラー鋳鉄の旋削加工に特に役立つ被覆切削工具インサートに関する。
【解決手段】被覆切削工具インサートは、５〜９ｗｔ％のＣｏと、１〜５ｗｔ％の立方晶炭化物と、８６〜９４ｗｔ％の残部ＷＣとの超硬合金基材を含み、且つ前記被膜は、等軸粒を有するＴｉＣ_ｘＮ_ｙＯ_ｚの第１の層と、＞１０〜１５μｍの厚みで柱状粒を有するＴｉＣ_ｘＮ_ｙＯ_ｚの層と、０．１〜２μｍの厚みと等軸または板状の粒を有するＴｉＣ_ｘＮ_ｙＯ_ｚの層と、３〜８μｍ厚みのαＡｌ_２Ｏ_３の層と、最外層で０．５〜２μｍの合計厚みであるＴｉＣを有するＴｉＮ＋ＴｉＣの多層化した構造の外側層とから構成され、且つαＡｌ_２Ｏ_３の層が切刃線に沿う頂部とすくい面上になるように、前記外側被膜層が切刃線内及びすくい面上で除去され、かつ前記外側のＴｉＣの層が逃げ面上の頂部層である。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆超硬切削工具が、超硬合金またはサーメットで構成された基体の表面に、下部層と上部層からなる硬質被覆層を有し、下部層は、０．５〜１５μｍの合計平均層厚を有するＴｉ化合物層、上部層は、上部内周層と上部外周層とからなり、上部内周層は特定な組成式を満足し、かつ、０．５〜１３μｍの平均層厚を有するＡｌとＣｒの複合酸化物層、上部外周層は、０．１〜０．８μｍの平均層厚を有する薄層Ａと、０．１〜０．６μｍの平均層厚を有する薄層Ｂとを交互に積層して形成された、２〜１０μｍの合計平均層厚を有する交互多重積層からなり、上記薄層Ａは、クロム酸化物（Ｃｒ_２Ｏ_３）層、上記薄層Ｂは特定な組成式を満足するＡｌとＣｒの複合酸化物層、からなる硬質被覆層を化学蒸着により形成してなる。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で耐チッピング性を発揮する穴なし被覆切削チップを提供する。
【解決手段】 チップ基体の表面に、Ｔｉ化合物層からなる下部層、α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層で構成された硬質被覆層を蒸着形成してなり、工具本体にクランプ駒による挟み締めにより取り付けられる穴なし被覆切削チップにおいて、前記上部層の全面に、組成式：ＴｉＯ_X 、で表わした場合、Ｘ：原子比で１．２〜１．８、を満足する酸化チタン層からなる研磨材層を、０．５〜５μｍの平均層厚で蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、Ａｌ₂Ｏ₃微粒を配合した研磨液を噴射し、前記クランプ駒当接面部分の研磨材層を残して、前記α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で耐チッピング性を発揮する穴なし被覆切削チップを提供する。
【解決手段】 チップ基体の表面に、Ｔｉ化合物層からなる下部層、α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層で構成された硬質被覆層を蒸着形成してなり、工具本体にクランプ駒による挟み締めにより取り付けられる穴なし被覆切削チップにおいて、前記上部層の全面に、組成式：ＴｉＯ_X 、で表わした場合、Ｘ：原子比で１．２〜１．８、を満足する酸化チタン層からなる研磨材層を、０．５〜５μｍの平均層厚で蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、ＳｉＣ微粒を配合した研磨液を噴射し、前記クランプ駒当接面部分の研磨材層を残して、前記α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】金属の機械加工に使用するため、基材と被膜を含んでなる被覆切削工具インサートに関し、被膜が改良されたαアルミナ層を備えた被覆切削工具インサートを提供する。
【解決手段】硬質で耐摩耗性の被膜は、それらの機能部分を覆う基材に優れた接着性を示す。この被膜は、少なくとも１層が＜００１＞に沿う強い成長組織を示すαＡｌ_２Ｏ_３である１層以上の耐熱層からなる。このαＡｌ_２Ｏ_３層は、１〜２０μｍの範囲の厚みを有し、且つ２〜１５の長さ／幅の比を有する柱状粒からなる。この層は、ＸＲＤ使用して測定した（００６）の強い回折ピーク、及び（０１２）（１０４）（１１３）（２０４）（１１６）の弱い回折ピークによって特徴付けられる。この組織は、硫黄及びフッ素を含有するドーパントの使用と組み合わされた特別な核生成手段によって制御される。 （もっと読む）

【課題】高速搬送においても放電が安定で、機能性堆積膜を数ｎｍ／ｓｅｃ以上の高速で形成する場合でも、電気的、光学的特性に優れ、量産時の素子の歩留りが向上する堆積膜形成装置を提供する。
【解決手段】堆積膜を形成する基板４の裏面に、表面に凹凸を有する天板２を接触させ、該天板２の表面凹凸に基板４を沿わせて凹凸形状とする堆積膜形成装置であって、該凹部又は凸部のピッチ、凹部と凸部の高低差と、基板４と平板電極３との最短距離とが特定の関係を満たすように設定する。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で耐チッピング性を発揮する穴なし被覆切削チップを提供する。
【解決手段】チップ基体の表面に、Ｔｉ化合物層からなる下部層、α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層で構成された硬質被覆層を蒸着形成してなり、工具本体にクランプ駒による挟み締めにより取り付けられる穴なし被覆切削チップにおいて、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の全面に、いずれも０．１〜２．５μｍの平均層厚を有するＴｉＮ層とＴｉＣＮ層の２層以上の交互積層で構成され、かつ、０．４〜５μｍの全体平均層厚を有する研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、Ａｌ₂Ｏ₃微粒を配合した研磨液を噴射し、前記クランプ駒当接面部分の研磨材層を残して、前記α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】チップ基体の表面に、下部層としてＴｉ化合物層、上部層としてα型Ａｌ₂Ｏ₃層、の硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆切削チップにおいて、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の全面に、いずれも０．５〜５μｍの平均層厚を有する、ＣｒＣＮ層、ＨｆＣＮ層、ＺｒＣＮ層、およびＶＣＮ層のうちのいずれか１層からなる金属炭窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材としてＡｌ₂Ｏ₃微粒を配合した研磨液を噴射し、工具取り付け孔周辺部の前記研磨材層を残して、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性が、小さな摩擦係数で燃料供給ユニットの寿命全体を通して保証される、耐摩耗性コーティング、およびこのようなコーティングの製造方法を提供する。
【解決手段】特に燃料供給ユニット用の、摩擦摩耗に曝された焼結材料からなる機械またはエンジン部品１の所定の表面２上の耐摩耗性コーティングであって、機械またはエンジン部品１の所定の表面２にｓｐ^２およびｓｐ^３混成カーボンを有する少なくとも１つの無金属アモルファス炭化水素層５を含む耐摩耗性コーティングを行う。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で耐チッピング性を発揮する穴なし被覆切削チップを提供する。
【解決手段】 チップ基体の表面に、Ｔｉ化合物層からなる下部層、α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層で構成された硬質被覆層を蒸着形成してなり、工具本体にクランプ駒による挟み締めにより取り付けられる穴なし被覆切削チップにおいて、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の全面に、いずれも０．１〜２．５μｍの平均層厚を有するＴｉＮ層とＴｉＣＮ層の２層以上の交互積層で構成され、かつ、０．４〜５μｍの全体平均層厚を有する研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、ＳｉＣ微粒を配合した研磨液を噴射し、前記クランプ駒当接面部分の研磨材層を残して、前記α型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する被覆切削チップを提供する。
【解決手段】チップ基体の表面に、下部層としてＴｉ化合物層、上部層としてα型Ａｌ₂Ｏ₃層、の硬質被覆層を蒸着形成してなる被覆切削チップにおいて、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の全面に、いずれも０．５〜５μｍの平均層厚を有する、ＣｒＣＮ層、ＨｆＣＮ層、ＺｒＣＮ層、およびＶＣＮ層のうちのいずれか１層からなる金属炭窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材としてＳｉＣ微粒を配合した研磨液を噴射し、工具取り付け孔周辺部の前記研磨材層を残して、前記上部層のα型Ａｌ₂Ｏ₃層の表面を研磨して、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】多結晶ＡｌＮ基板を用いつつ結晶性にすぐれた窒化物半導体ウェーハ及び窒化物半導体素子を提供する。
【解決手段】配向性を有する多結晶窒化アルミニウムからなり、主面上に複数のステップ１０Ｓが形成された基板１０と、前記基板の前記主面上に設けられた単結晶の窒化物半導体層２５とを備えた窒化物半導体ウェーハ１及び前記窒化物半導体層２５の上に設けられた電極を備えた窒化物半導体素子。 （もっと読む）

【課題】 多孔質体の有する液体吸収保持作用を、生産性よく、向上させる方法を提供する。
【解決手段】 金属骨格を有してなる多孔質体の、該骨格に親水化処理を施すための方法であって、有機金属化合物を原料とし、これを気化させた原料ガスを、大気圧近傍の圧力の酸素を含むプラズマガスで反応させて、生成した金属酸化物を、前記骨格表面に形成させる親水化処理を施す金属多孔質体の表面処理方法である。好ましくは、大気圧近傍の圧力の酸素を含むプラズマガスを、多孔質体の下方から上向きに流して、金属酸化物を骨格表面に形成させる金属多孔質体の表面処理方法である。金属酸化物は、シリコン酸化物であることが望ましく、あるいは更に、金属多孔質体は、金属粉末が焼結した骨格を有することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】 外表面に機能性の薄膜を有する、内部に気体または液体が内包された空間を有する基体から構成される液晶パネル等の物品の製造方法において、耐久性に優れた物品を売ることのできる、生産性がよい製造方法を提供することである。
【解決手段】 内部に気体または液体が内包された空間を有する基体の外面側の少なくとも１面に大気圧プラズマ処理により、薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。 （もっと読む）

化学蒸着（ＣＶＤ）によって形状記憶または超弾性薄膜を堆積する方法、ならびにステント、移植片、ステント移植片、ステントカバー、閉塞およびフィルタメンブレン、および薬物送達デバイスを含めた、それによって作製される医療デバイス。この方法は、ニッケルチタン形状記憶または超弾性合金の被膜の製造時にＣＶＤ反応を使用して基板表面上に薄膜が堆積されることを含む。そのようなニッケルチタンベースの形状記憶または超弾性合金は、二元ニッケルチタン合金であってよく、または三元、四元、もしくはそれよりも高いレベルの合金を形成するために追加の化合物を含んでいてもよい。
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【課題】パーティクル発生の少なく使用寿命の長いプラズマエッチング用シリコン電極板を提供する。
【解決手段】厚さ方向に平行に貫通細孔５が設けられているプラズマエッチング用シリコン電極基板２において、前記シリコン電極基板２の少なくとも下面８の全面に平均粒径：１μｍ以下のシリコン化学蒸着膜１１が被覆してなるプラズマエッチング用シリコン電極板。 （もっと読む）

本発明は、一実施形態では、合成ダイヤモンド、および複数の種ダイヤモンド上でそうしたダイヤモンドを成長させ、その成長ダイヤモンドにイオンを注入し、複数の種ダイヤモンドから成長ダイヤモンドを分離する方法を提供する。 （もっと読む）

高アスペクト比空間へ共形フィルムを蒸着する方法は、蒸着より前に空間内に前駆体ガスの勾配を形成するステップを含む。例えば、勾配は蒸着チャンバ内を減圧することにより、あるいは、蒸着チャンバの部分的な排出によって形成される。基板の温度がその後一時的に上昇することによって、高アスペクト比空間の閉じている、又は「深い」部分へ前駆物質が蒸着することが好ましい。このプロセスを複数サイクルくり返して、完全に空間を充填する。このプロセスにより、できたデバイスの動作に悪影響を与えるボイドもキーホールも発生させずに、高アスペクト比空間を充填することができる。 （もっと読む）

【課題】
高温、かつ、還元性ガスや反応性ガス雰囲気下で、長時間使用された場合であっても消耗等に起因するクラックや剥離等の損傷が生じることがなく、耐久性に優れた炭素複合材料を提供すること。
【解決手段】
炭素基材と前記炭素基材の表面に形成された炭化タンタル層とからなる炭素複合材料であって、前記炭化タンタル層を構成する結晶のＸ線回折による分析で、（２００）面に相当するピークと（１１１）面に相当するピークとのピーク強度比：Ｉ（２００）／Ｉ（１１１）が、０．２〜０．５であるか、又は、（１１１）面に相当するピークと（２００）面に相当するピークとのピーク強度比：Ｉ（１１１）／Ｉ（２００）が、０．２〜０．５であることを特徴とする炭素複合材料。 （もっと読む）

【課題】 球レンズの表面に，真空蒸着法等を用いてコーティングして無反射フィルタ膜等を形成する従来の方法では，全面に均一なフィルタ膜を成膜するのが困難である，微小外径の球レンズに適用することができない，球レンズに蒸着カス等が付着する等の課題がある。
【解決手段】 そこで本発明では，真空チャンバ１内におけるフィルタ膜材料２の供給源３の上方に球レンズ８の支持容器９を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸１３は鉛直方向に対して所定角度θ傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部１１を形成し，網状部に球状ガラスを載せて支持容器を回転させることにより，球状ガラスを網状部に対して転動させながら，供給源からフィルタ膜材料を供給して，球状ガラスの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜する全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法を提案する。 （もっと読む）