【課題】 宇宙や真空装置内で用いられるような真空中および大気中あるいはそれらの両方で低摩擦で耐久性の高い摺動部材を提供。
【解決手段】 第一の摺動部材のダイヤモンドまたはダイヤモンド膜の表面粗さを算術平均粗さＲａで０．５μｍ以下に研磨し、その摺動の相手材である第二の摺動部材の最表面をＮｉを４重量％以上、９６重量％以下を含有する合金又はめっき、あるいはＮｉを５重量％以上、６５重量％以下、かつＣｒを１５重量％以上、５５重量％以下を含む合金又はめっきし、第一及び第二の摺動部材とで真空用摺動部材とする。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、下地層、下部層および上部層からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、下地層は、立方晶のＴｉＣｒ複合炭化物相マトリックス中に１０〜４０面積％の斜方晶のＣｒＴｉ複合炭化物相が分散分布した層厚０．１〜２μｍの混合相組織層で構成し、下部層は、合計平均層厚３〜２０μｍのＴｉ化合物層で構成し、上部層は、平均層厚１〜２０μｍの酸化アルミニウム層で構成する。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工等で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）Ｔｉ化合物層からなる下部層、（ｂ）結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して傾斜角度数分布グラフを作成した場合、０〜１５度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在し、その度数割合が５０％以上を占める傾斜角度数分布グラフを示す改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、工具すくい面領域にのみ、さらに、酸化チタン層（下側層）と窒酸化チタン層（上側層）からなる最外層を設ける。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】下部層はＴｉ化合物層で構成し、上部層は改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層と標準α型Ａｌ₂Ｏ₃層とで構成し、硬質被覆層を前記下部層と上部層とから構成してなる表面被覆工具において、改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層は、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して、傾斜角度数分布グラフを作成した場合、７５〜８５度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在すると共に、前記７５〜８５度の範囲内に存在する度数の合計が度数全体の４５〜６５％の割合を占める傾斜角度数分布グラフを示すとともに、その表面粗さをＲａ：０．２μｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、下地層と上部層からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、下地層は、立方晶のＴｉＣｒ複合炭化物相マトリックス中に１０〜４０面積％の斜方晶のＣｒＴｉ複合炭化物相が分散分布した層厚０．１〜２μｍの混合相組織層で構成し、また、上部層は、層厚０．５〜２μｍの内部層（Ｔｉ窒化物層）と、層厚０．５〜５μｍの中間層（粒状結晶組織のＴｉ炭化物層または縦長成長結晶組織のＴｉ炭窒化物層）と、層厚０．３〜２μｍの表面層（Ｔｉ窒化物層）、の積層構造として構成する （もっと読む）

強化材の層を成長させること、及び、前記層をマトリックスで含浸することを含む、複合材の製造方法。強化材の層は化学蒸着法によって形成されうる。この方法は、所望の形状及び物性を有する部品を形成するためのアディティブ層製造技術として使用でき、又は、薄いシート材料を形成するために使用できる。
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【課題】難削材の高速重切削加工等で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）Ｔｉ化合物層からなる下部層、（ｂ）結晶粒の結晶面である（０００１）面の法線がなす傾斜角を測定して傾斜角度数分布グラフを作成した場合、７５〜９０度の範囲内の傾斜角区分に最高ピークが存在し、その度数割合が５０％以上を占める傾斜角度数分布グラフを示すα型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる補強層、（ｃ）改質α型Ａｌ₂Ｏ₃層からなる上部層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、工具すくい面領域にのみ、さらに、酸化チタン層（下側層）と窒酸化チタン層（上側層）からなる最外層を設ける。 （もっと読む）

【課題】密封式油圧ダンパのダイヤフラムゴム膜の放熱性を改良したガスバリヤ構造およびその作製方法を提供する。
【解決手段】密封式油圧ダンパのダイヤフラムを構成するゴム膜１０のガスバリヤ構造であって、上記ゴム膜１０の表面に形成されたアルミニウム薄膜１４と、該アルミニウム薄膜１４上に形成されたフレキシブルＤＬＣ膜１８とを備え、上記アルミニウム薄膜１４と上記フレキシブルＤＬＣ膜１８とが両者間に介在するアルミニウム・シリコン共晶層１６により相互に接合されていることを特徴とするガスバリヤ構造。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 工具基体の表面に、硬質被覆層として、（ａ）１〜５μｍの平均層厚の窒化チタン層と、（ｂ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、ＴｉとＣｒの合量に対するＣｒの含有割合（Ｃｒ／（Ｔｉ＋Ｃｒ））が、原子比で０．０１〜０．１であるＴｉ−Ｃｒ複合炭窒化物層、上記（ａ）、（ｂ）を少なくとも３層以上交互に積層し、合計平均層厚が５〜１５μｍであるＴｉ系化合物積層を設け、あるいは、該Ｔｉ系化合物積層表面に、必要によりＴｉ化合物層を介して、０．５〜５μｍの層厚の酸化アルミニウム層を設けた構成とする。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 工具基体の表面に、硬質被覆層として、（ａ）１〜５μｍの平均層厚の炭化チタン層と、（ｂ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、ＴｉとＣｒの合量に対するＣｒの含有割合（Ｃｒ／（Ｔｉ＋Ｃｒ））が、原子比で０．０１〜０．１であるＴｉ−Ｃｒ複合炭窒化物層、上記（ａ）、（ｂ）を少なくとも３層以上交互に積層し、合計平均層厚が５〜１５μｍであるＴｉ系化合物積層を設け、あるいは、該Ｔｉ系化合物積層表面に、必要によりＴｉ化合物層を介して、０．５〜５μｍの層厚の酸化アルミニウム層を設ける。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層が高速断続切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、（ａ）下部層としてＴｉ化合物層、（ｂ）上部層として、化学蒸着した状態でα型の結晶構造を有し、組成式：（Ａｌ_{１−Ｑ−Ｒ}Ｃｒ_ＱＺｒ_Ｒ）_２Ｏ_３、（ただし、原子比で、Ｑ：、０．００５〜０．０７、Ｒ：０．００３〜０．０５）、を満足するＡｌとＣｒとＺｒの複合酸化物層を設け、さらに、該上部層は、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面（１０−１０）面の法線がなす傾斜角を測定し、特定な構成原子共有格子点分布グラフを示すＡｌとＣｒとＺｒの複合酸化物層で構成する。 （もっと読む）

【課題】硬質被覆層が高速重切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、（ａ）下部層としてＴｉ化合物層、（ｂ）中間層として、特定なを満足するＴｉとＡｌとＣｒとＺｒの複合炭窒酸化物層、（ｃ）上部層として、化学蒸着した状態でα型の結晶構造を有し、特定な組成式を満足するＡｌとＣｒとＺｒの複合酸化物層を設け、さらに、該上部層は、表面研磨面の測定範囲内に存在する六方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（０００１）面（１０−１０）面の法線がなす傾斜角を測定し、特定な構成原子共有格子点分布グラフを示すＡｌとＣｒとＺｒの複合酸化物層で構成する。 （もっと読む）

【課題】オーステナイト組織を有するステンレス鋼からなる母材を加工後、窒化処理を施しても母材と同程度の耐食性を示す基材をもつ被覆部材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】オーステナイト組織を有するステンレス鋼からなる母材を加工した加工材の表層部を窒化してなり、所定の条件の自然浸漬電位測定で−２００ｍＶより貴の自然浸漬電位を示す基材と、該表層部の表面の少なくとも一部に被覆された無機被膜と、を備える。基材は、母材を加工することで加工誘起マルテンサイトが生成した加工材から加工誘起マルテンサイトを減少させる工程、あるいは、母材をステンレス鋼のＭｄ３０よりも３０℃以上高い温度で温間加工または熱間加工して加工材とする工程を経て、該加工材に窒化処理を行い窒化層を形成することで得られる。 （もっと読む）

【課題】従来の気相結晶成長法を用いて水晶成膜用基板上に形成した水晶ウエハより水晶片を製造する方法では、例えば平板状の水晶成膜用基板主面全面上に所望の厚みの水晶ウエハを形成しても、この水晶ウエハの厚みは、厚い場合でも百数十μｍであり、水晶デバイス内に搭載するサイズの水晶片に機械的な切断加工を施すことが非常に難しい。
【解決手段】水晶片の主面外形形状と同外形形状の平坦面が頂部に形成された凸部が、一方の主面上にマトリックス状に形成されている水晶成膜用基板を用いて、気相結晶成長装置の結晶成長室内に、前記水晶成膜用基板を配置する工程と、水晶成膜用基板に形成したバッファ層の上に水晶片を、気相結晶成長法により成長させる工程と、水晶成膜用基板を結晶成長室内より取り出し、水晶片をバッファ層ごと水晶成膜用基板から個々に分離するする工程とを備えた水晶片の製造方法。 （もっと読む）

【課題】その欠点を矯正し、多孔性の基材が、制御された微細構造の物質で高密度化されることを可能とする化学気相浸透方法の提供。
【解決手段】浸透条件を、化学蒸着浸透プロセスの開始および終わりにおいて、少なくとも１つの浸透パラメーター、すなわち、ガス相の滞留時間、圧力、温度、ガス相の前駆体含有量、およびガス相の任意のドーパントの濃度を変化させることによって修飾し、変化させ、それにより、浸透条件を、基材内に沈積した物質の微細構造を制御するための基材の孔サイズの変化に適合させることができ、特に一定の微細構造を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】 硬質被覆層が高速重切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、（ａ）下部層としてＴｉ化合物層、（ｂ）中間層として、特定の組成式：（Ｔｉ_{１−Ｘ−Ｙ}Ａｌ_ＸＣｒ_Ｙ）Ｃ_αＮ_βＯ_γを満足するＴｉとＡｌとＣｒの複合炭窒酸化物層、（ｃ）上部層として、化学蒸着した状態でα型の結晶構造を有し、特定の組成式：（Ａｌ_１−ＱＣｒ_Ｑ）_２Ｏ_３を満足するＡｌとＣｒの複合酸化物層を設け、さらに、該上部層は、相互に隣接する結晶粒の界面で、前記構成原子のそれぞれが前記結晶粒相互間で１つの構成原子を共有する格子点（構成原子共有格子点）が特定の構成原子共有格子点分布グラフを示すＡｌとＣｒの複合酸化物層で構成する。 （もっと読む）

【課題】工業用接着テープや光学用粘着シートに好適な、水滴の付着や汚染を防止するための、高い撥水性を有する剥離フィルムの提供。
【解決手段】表面粗さが５〜２００ｎｍであり、かつＳ／Ｎ比が５〜５０の範囲内である微細な凹凸を有する高分子基材上に形成された、水との接触角が１００〜１６０°であり、かつ石鹸水との接触角が５０〜１００°の範囲である、自己組織化単分子膜からなる撥水層を非剥離面に有することを特徴とする、剥離フィルム。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、被覆層としてアルミナを用いた刃先交換型切削チップであって、耐摩耗性と靭性とを高度に両立させた刃先交換型切削チップを提供することにある。
【解決手段】本発明の刃先交換型切削チップは、基材と、該基材上の少なくとも一部に形成された被覆層とを有するものであって、この基材は、刃先稜線と逃げ面とすくい面とを有し、この被覆層は、α型の結晶構造を有するアルミナを主体として含む第１層とα型の結晶構造を有するアルミナ以外のアルミナを主体として含む第２層とを含み、該第１層または該第２層のいずれか一方の層は、逃げ面から刃先稜線を挟んですくい面へと繋がる領域において連続した状態で形成されており、該第１層は、すくい面の少なくとも一部において最上層となり、該第２層は、逃げ面の少なくとも一部において最上層となることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、被覆層としてアルミナを用いた刃先交換型切削チップであって、Ｔｉ合金の切削加工用に特に適する刃先交換型切削チップを提供することにある。
【解決手段】本発明の刃先交換型切削チップは、基材と、該基材上の少なくとも一部に形成された被覆層とを有するものであって、この基材は、刃先稜線と逃げ面とすくい面とを有し、この被覆層は、α型の結晶構造を有するアルミナを主体として含む第１層とα型の結晶構造を有するアルミナ以外のアルミナを主体として含む第２層とを含み、該第１層または該第２層のいずれか一方の層は、逃げ面から刃先稜線を挟んですくい面へと繋がる領域において連続した状態で形成されており、該第１層は、逃げ面の少なくとも一部において最上層となり、該第２層は、すくい面の少なくとも一部において最上層となることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】安価で製造でき、優れた耐食性及び密着性を有する硬質の膜を表面に有する送液ポンプ用用部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】インペラー１は、略釣り鐘状の筒部と、その周囲に形成された羽根部とを備えている。そして、インペラー１の表面付近の一部拡大断面部分１１は、金属製の基材１２と、この基材１２の表面に高周波プラズマＣＶＤ法によって形成されたアモルファス状膜１３とを備えている。アモルファス状膜の厚さは１μｍ〜５０μｍであることが好ましい。その硬さは、ＨＶ７００〜２８００であることが好ましい。前記アモルファス状膜の表面の算術平均粗さＲａは０．５μｍ以下、且つ、十点平均粗さＲｚは２．０μｍ以下であることが好ましい。また、アモルファス状膜１３における水素原子の割合が１０原子％〜５０原子％の範囲、残りが炭素原子で組成されているものであることが好ましい。 （もっと読む）