【課題】ステッピングロール方式またはロールツーロール方式において、可撓性基板上に製膜後、巻き取りローラに巻き取られるまでの間に発生するシワを抑制する製膜装置を提供する。
【解決手段】可撓性基板１０１を巻き出す巻き出しローラと、巻き出しローラから巻き出された可撓性基板１０１上に製膜を行う製膜室と、製膜後の可撓性基板１０１を巻き取る巻き取りローラからなる製膜装置であって、前記製膜室にて製膜された可撓性基板１０１を冷却する冷却ローラ１０３を備え、前記冷却ローラは、前記可撓性基板１０１の幅方向に対し傾斜して配置されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空装置等の複雑な装置を必要としない、稼働開始時から均一な品質の薄膜を形成可能な薄膜形成装置及び、薄膜形成方法の提供。
【解決手段】大気圧または大気圧近傍でプラズマを発生させ薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置において、
放電ガスを供給する放電ガス供給手段と、原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
１対の電極と、１対の電極間に高周波電界を発生させる高周波電源と、
前記放電ガス供給手段による放電ガスの供給開始と、前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給開始と、前記高周波電源による電極への高周波電圧の印加開始とを、同時に行なわせる制御手段とを、有することを特徴とする薄膜形成装置。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送するパスローラに付着したパーティクルを容易に取り除くことができる成膜装置のクリーニング方法およびこの成膜装置での成膜およびクリーニングに用いられるフィルムロールを提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置のクリーニング方法は、基板を長手方向にパスローラを用いて搬送しながら、真空雰囲気で基板の表面に所定の膜を形成する成膜装置について、表面に膜が形成される製品フィルム部と、製品フィルム部の成膜面と同じ側の面に除塵機能を備えたクリーニングフィルム部とを有する基板が、製品フィルム部の端部を基端としてロール状に巻き回されて構成されているフィルムロールを用い、このフィルムロールの基板のクリーニングフィルム部をパスローラにより搬送して、パスローラをクリーニングする。 （もっと読む）

【課題】基板上に各種薄膜を高速で連続的に形成することのできる連続薄膜の形成方法、形成装置、成膜ガラス基板及び半導体素子を提供する。
【解決手段】核形成ゾーン１１５には、第１の反応ガス１１を供給するための第１供給口１３１と排気するための第１排気口１３５が設けられており、結晶成長ゾーン１１６には、第２の反応ガス１２を供給するための第２供給口１３２と排気するための第２排気口１３６が設けられている。核形成に用いる第１の反応ガス１１と結晶成長に用いる第２の反応ガスとして、それぞれで好適な別種類の反応ガスを用いることができる。 （もっと読む）

静止する基板上または連続する基板上に薄膜材料を高速蒸着するための方法および装置を提供する。この方法は、あらかじめ選択された前駆体中間生成物を蒸着チャンバへと供給することと、中間生成物から薄膜材料を形成することと、を含む。中間生成物は、蒸着チャンバの外部で形成され、自由ラジカル等の準安定化学種を含む。中間生成物は、低い欠陥濃度を有する薄膜材料の形成に貢献する準安定化学種を含むよう、あらかじめ選択される。低欠陥濃度の材料を形成することにより、蒸着速度と材料品質の関係は分断され、先例のない蒸着速度が達成される。１つの実施形態において、好適な前駆体中間生成物はＳｉＨ３である。この方法は、あらかじめ選択された中間生成物とキャリアガスとを、好ましくは不活性化状態において、混合することを含む。キャリアガスは、薄膜材料を蒸着するために、好適な中間生成物の基板への送給を導く。 （もっと読む）

【課題】原料ガスとしてシランガス、アンモニアガス、水素ガスおよび／または窒素ガスを用い、容量結合型のプラズマＣＶＤによって、良好なガスバリア性を長期に渡って発現するガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】シランガス流量Ｑ、プラズマ生成ＰとしたＰ／Ｑが１０〜３０［Ｗ／ｓｃｃｍ］、成膜圧力が２０〜２００Ｐａで、基板温度を７０℃以下として、前記基板に−１００Ｖ以下のバイアス電位を印加しつつ窒化珪素膜を成膜する。 （もっと読む）

本発明は、コーティングチャンバであって、コーティング源と、コーティング源に対して少なくとも１つのコーティング位置へコーティングされる基板を運ぶことができるように適合された基板キャリアを移動させるための搬送装置とを含み、これによって基板はコーティングされ、コーティングチャンバは、基板のコーティング位置とコーティング源の間の領域内に配置される少なくとも１つの第１シールドを更に含み、これによってコーティングされる基板の表面以外の領域のコーティングを防ぎ、第１シールドは、移動装置と、第１シールドと前記基板キャリアを結合する結合装置とを含み、これによって第１シールド及び基板キャリアは共に移動可能となるコーティングチャンバ、及びコーティングチャンバを運転する方法について言及する。
（もっと読む）

【課題】連続して広幅基材の表面の均質な改質処理が出来るプラズマ放電処理装置の提供。
【解決手段】対向して設けられた第１の電極と第２の電極を有し、前記第１の電極と第２の電極の間に形成される放電部に、基材を通過させて、前記基材表面を処理するプラズマ放電処理装置において、前記第１の電極に対して非接触で設けられた給電部材と、前記第２の電極に対して非接触で設けられたアース部材とを有し、前記第１の電極は前記給電部材に対して、且つ、前記第２の電極は前記アース部材に対して移動可能に構成されていることを特徴とするプラズマ放電処理装置。 （もっと読む）

【課題】製作が簡単であると共に、容易に大面積化が可能であり、取付作業及び取外作業が容易で、かつメンテナンス性に優れ、低コスト化が図れる非一体型カソード電極及びプラズマＣＶＤ装置を提供することにある。
【解決手段】本発明は、プラズマＣＶＤ法によって基板の表面上に薄膜を成膜する際に用いられる非一体型カソード電極１であって、原料ガスＧが導かれるガス分散空間形成部２に取外し可能に取付けられ、ガス分散空間形成部２の原料ガスＧを表面から流出させるシャワーヘッド型平板電極３と、外周を外枠部５ａとするような形状で複数のガス流通孔４が形成された外枠付き仕切り板５とを備え、シャワーヘッド型平板電極３に外枠付き仕切り板５を取外し可能に固定することにより構成している。 （もっと読む）

【課題】放電空間中で凝集し発生した微粒子、真空室内壁面または放電電極上に成膜された後、剥離して発生した破片状粒子等の粒子が被成膜基板上へ付着することを防止し、特性歩留まりの良好な太陽電池等電子デバイスを提供する。
【解決手段】成膜室内において、導入するガスの流れを被成膜基板の成膜面から遠ざかる方向に整流することにより、放電空間で発生した微粒子、及び真空室内壁面や放電電極上から剥離して発生した破片状粒子をガスの流れに乗せて排出し、被成膜基板の成膜面に付着することを防止する。また前記微粒子や破片状粒子は、放電電極表面全体に設けた複数の開口部から吸引し排出し、放電電極上に堆積する膜の量と剥離し排出する膜の量が釣り合った定常状態にすることにより、放電電極のクリーニングを長時間行わずに連続成膜が可能となる。 （もっと読む）

【課題】成膜速度を増大し、大面積のフィルムに成膜することができ、かつ、緻密な成膜を得ることができる成膜装置を提供すること。
【解決手段】本発明の成膜装置は、プラズマリニアソース７を有するプラズマ化学気相成長手段と、プラズマリニアソース７と所定間隔をおいて配置されているイオンエッチングローラー５を有するイオンエッチング処理手段と、プラズマリニアソース７とイオンエッチングローラー５との間においてフィルム３を通過させるフィルム搬送手段と、を具備する。前記プラズマ化学気相成長手段は、プラズマリニアソース７により発生する誘導結合プラズマによってフィルム３に成膜を行い、この成膜と同時に前記イオンエッチング処理手段はイオンエッチングローラー５からのイオンによってフィルム３にイオンエッチング処理を行う。 （もっと読む）

【課題】従って本発明の目的は、水分の封止性が高い樹脂フィルムの製造法の提供、及び該方法によって製造された樹脂フィルムを用いた長寿命で耐久性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することである。
【解決手段】樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、大気圧若しくはその近傍の圧力下で放電プラズマ処理を行うことで金属酸化物膜または金属窒化物からなる膜を形成し、前記形成した金属酸化物膜または金属窒化物からなる膜上に、不活性ガス及びフッ素化炭化水素ガスからなる混合ガスに、大気圧若しくはその近傍の圧力下放電プラズマ処理を行うことで膜を形成することを特徴とする樹脂フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】安定してストリーマ放電を生成して均一なプラズマを生成することができ、しかも装置の大型化や高コスト化を抑制することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】対向する一対の電極１、１間に形成される対向領域２にプラズマ生成ガスＧを供給する。大気圧又はその近傍の圧力下で上記電極１、１間に電圧を印加することにより対向領域２にストリーマ放電Ｓを形成すると共にこのストリーマ放電Ｓにより対向領域２でプラズマＰを生成する。このプラズマＰを被処理物Ｈに供給するプラズマ処理装置に関する。不均一な電界強度分布を対向領域２に発生させることにより上記ストリーマ放電Ｓを形成するためのストリーマ放電形成手段と、このストリーマ放電Ｓを対向領域２で分散させるためのストリーマ放電分散手段と、被処理物Ｈを上記対向領域２で搬送するための搬送手段とを備える。 （もっと読む）

基材上に無機又はハイブリッド有機／無機バリア層を形成するための方法。この方法は、蒸発させた金属アルコキシドを基材上に凝縮させて基材の上に層を形成する工程と、この凝縮した金属アルコキシド層を水と接触させてこの層を硬化させる工程とを含む。
（もっと読む）

【課題】ロール・ツー・ロールの製造装置を用いてプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を成膜するガスバリアフィルムの製造において、目的とするガスバリア性を有するガスバリアフィルムを安定して製造することを可能にする。
【解決手段】成膜前に、基板表面に５０Ｎ／ｍ²以上の面圧を与える部材が配置され、かつプラズマＣＶＤによる成膜圧を６０Ｐａ以上とすることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 連続成膜時間を長くできる、シャワーヘッド電極からガスを供給するプラズマＣＶＤ法による成膜方法を提供する。
【解決手段】基板６０を支持する保持電極３０とシャワーヘッド電極１４間に高周波電源１６から高周波を印加し、シャワーヘッド電極１４から第１のガスを基板６０に供給し、ガス供給管５０から基板６０の表面に第２のガスを供給し、基板６０の表面にプラズマＣＶＤ法により膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】膜質が良好な有機層および無機層を、高い生産効率で成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、長尺の基板を長手方向に所定の搬送経路で搬送しながら、基板の表面に有機層を形成し、有機層上に無機層を形成するものである。この成膜装置は、基板を長手方向に所定の搬送経路で搬送する搬送手段と、有機層を基板の表面に形成する第１の成膜手段が設けられた第１の成膜室と、第１の成膜室の搬送経路の下流側に配置されるとともに有機層上に無機層を形成する第２の成膜手段が設けられた第２の成膜室と、第１の成膜室内および第２の成膜室内を所定の圧力に減圧する真空排気手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】２つの平行平板電極を配置したプラズマＣＶＤ室において基板に薄膜を形成するに当たり、平行平板電極の距離を一定にして基板にうねり等の不具合が発生するのを抑制し、薄膜の均一性を向上させることが可能な薄膜製造装置を提供することにある。
【解決手段】原料ガスが導入されるプラズマＣＶＤ室３に２つの平行平板電極７，８を設置し、平行平板電極７，８に高周波電力を供給することにより、原料ガスを分解して平行平板電極７，８の間に置かれた基板１０上に薄膜を形成するプラズマＣＶＤ法を用いた薄膜製造装置において、２つの平行平板電極７，８の少なくとも一方に複数本の絶縁性材料からなるスペーサ１３を設け、スペーサ１３を、平行平板電極７，８間距離が一定となるように平行平板電極７，８間に配設している。 （もっと読む）

【課題】１ｋＰａより高い圧力下でシリコン系薄膜を成膜する際に電極間隔を広げることと膜厚を面内で均一にすることとを両立する。
【解決手段】シリコン系薄膜成膜装置１０では、複数の対向電極１６の各々に隙間をもって対向するように各透明電極６２を配置する。続いて、ガス噴射口１４ａから原料ガスを支持電極１８に向かって噴射すると共にガス噴射口１５ａから同方向にバリアガスを噴射しつつガス排出口１３から排気してチャンバ１２内の圧力を１ｋＰａを超える圧力に調節する。次いで、各対向電極１６に直流パルス電圧を印加し、シリコン系薄膜を成膜する。このように直流パルス電圧を印加して放電させる方式であるため、電極間隔を広げた状態においてもプラズマを効率よく生成できると共に膜厚の面内分布も改善できる。また、原料ガスの外側にバリアガスを噴射することにより、原料ガスにキャリアガスを混合する場合にはキャリアガスの流量を低減できる。 （もっと読む）

【課題】面内膜厚分布が生じにくく装置の小型化が可能なシリコン系薄膜量産装置を提供する。
【解決手段】シリコン系薄膜量産装置１０では、複数の対向電極１６の各々に隙間をもって平行に対向するように各透明電極６２を配置し、チャンバ１２にシリコン系薄膜の原料ガスを導入すると共に各対向電極１６に順次又は一斉に直流パルス電圧を印加することにより、プラズマを発生させて各透明電極６２にシリコン系薄膜を生成する。このように直流パルス電圧を印加して放電させる方式であるため、高周波を断続的に印加して放電させる方式のように高周波プラズマ密度分布が生じることがなく、面内膜厚分布が生じにくい。また、直流パルス電圧は急峻に立ち上がることからオン期間を短くすることができ、その結果、シースは定常状態に至る前の過渡状態で止まり厚みが薄くなるため、対向電極１６と透明電極６２との間隔を狭くすることができ、装置の小型化が可能となる。 （もっと読む）