【課題】高いガスバリア性と高い生産性の両立が求められていた。
【解決手段】真空チャンバー内に、３次元中空容器の開口部から内部に処理ガス導入管を挿入してなり、該３次元中空容器を保持してなる３次元中空容器搬送手段を具備し、かつ搬送手段の両側に３次元中空容器の移動区間の一部又は全部を覆うように電極対が配置されており、かつ該電極に交流電極が接続されていることを特徴とする３次元中空容器の内面処理装置および３次元中空容器の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】酸素及び水蒸気の透過防止性を有し、しかも透明性に優れたガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】ガスバリア性積層フィルムは、プラスチックフィルムからなる基材フィルム上に、透明な無機酸化物蒸着層を備え、この無機酸化物蒸着層上に、燐酸イオン含有溶液と金属イオン含有溶液を混合してなる、液中に含まれる金属対燐の原子比が１より小さいコーティング液を塗布し、空気中で乾燥固化してなる金属燐酸塩被覆層を備える。 （もっと読む）

プラズマ中でイオンさやを形成して、非導電性基材（１２）上にコーティングを堆積する装置。この装置は、第１の幅を有する第１の電極（６０）に螺旋状に巻き付ける外側表面を有する管状反応チャンバ（５６）を含む。第１の電極の螺旋状の巻き付けにより、管状反応チャンバの外側表面周囲に複数の第１のラップが与えられる。この装置は、第１の幅より大きい第２の幅を有する第２の電極（５８）をさらに含む。第２の電極の螺旋状の巻き付けにより、管状反応チャンバの外側表面周囲に第１のラップと交互の複数の第２のラップが与えられる。プラズマ中のイオンさやは、第１の電極が無線周波数電源に接続され、第２の電極が接地のための経路を提供するとき、管状反応チャンバの少なくとも長手軸に延在する厚さまで形成される。
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【課題】 ロール・ツー・ロール方式の堆積膜製造装置において、基体の接地電位を確保し、基体のゆがみを矯正しながらも、打痕や傷等が発生しない基体支持方法を提供する。
【解決手段】 基体１００の堆積膜が形成されない側の面を磁石１１２で吸引することにより、基体１００を減圧可能な外部容器内に設けられた内部容器の天板１１１₁に密着させて支持する。磁石１１２は、一方の磁石のＮ極と他方の磁石のＳ極とが互いに隣接するように配置された複数の磁石によって構成し、Ｎ極とＳ極との界面１１３の方向と基体の搬送方向とが垂直にならないように配置する。 （もっと読む）

【課題】放電空間内にガスの対流を作ることにより、均一かつ高安定な処理が行え、さらに多層の処理が行える簡素でかつ安価な大気圧プラズマ処理装置の提供にある。
【解決手段】大気圧近傍の圧力下で、処理基材４を挟んで一対の電極１、２を備え、該電極間に処理ガスを導入する処理ガス供給口８と、ガスを排気するための処理ガス排気口７とを備えてなり、電圧を印加することにより、前記処理基材４にプラズマ処理を施す大気圧プラズマ処理装置であって、少なくとも一方の電極１に処理ガス供給口８を２つ以上、及び処理ガス排気口７を２つ以上設けてなり、かつ該処理ガス供給口８及び処理ガス排気口７が交互に配設されている大気圧プラズマ処理装置とするものである。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜に代表される薄膜をガラス板上の一部に選択的に堆積させる新たな方法を提供する。
【解決手段】ガラス板１上の所定領域に形成された成長起点３のみから薄膜が成長を開始するように成分を調整した原料ガスを用いた化学蒸着（ＣＶＤ）法により、薄膜（例えば酸化錫膜等の透明導電膜）を上記所定領域に選択的に成長させる。成長起点３は微粒子であってもよい。 （もっと読む）

【課題】有機ポリマーに対する接着力を増大させ、得られた多層被膜に対する柔軟性や延伸性を改善し、さらに、化学的耐性を改善し、ガス透過性を減少させ、屈折率を変え、そして硬度、靭性及び摩擦抵抗を高めることができるプラズマ強化化学蒸着法を提供する。
【解決手段】第一工程においてテトラアルキルオルトシリケート化合物（ＴＡＯＳ）及び所望によりオキシダントからなる気相混合物の大気圧プラズマ蒸着によって、有機ポリマー基材表面上に、プラズマ重合した有機ケイ素化合物の第一層を析出させそしてその後、第二工程においてオキシダント及びＴＡＯＳからなる気相混合物の大気圧プラズマ蒸着によって、露出した該第一層表面上に、実質上均一な酸化ケイ素化合物の第二層を析出させると共に、気相混合物中で使用されるオキシダント／ＴＡＯＳの比を第一工程よりも第二工程で大きくするプラズマ蒸着による有機ポリマー基材表面上への多層被膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】 基板処理において基板に皺が発生するのを防止又は抑制でき、それにより基板処理の不均一性を抑えることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 本発明の基板処理装置では、各処理室に設置されるヒータの可撓性基板との接触部の表面に所定の波形状を有する溝部を形成した。このため、表面処理時における可撓性基板の熱膨張分が吸収される。その結果、可撓性基板の熱膨張による皺の発生およびそれに伴う表面処理の不均一性を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 薄手の基材に対するヤラレを防止して、薄手の基材であっても安定した薄膜形成を可能とする。
【解決手段】 この薄膜形成装置には、互いの放電面が対向されて放電空間を形成するように配置された一対の電極と、基材を支持する支持体とが備えられている。また、薄膜形成装置には、基材が放電空間内で一対の電極のうち、少なくとも一方の電極に沿うように、支持体を電極に密着させて保持する保持機構と、薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように前記放電空間に前記ガスを供給し、活性化された前記ガスで前記基材を晒すことで基材の表面上に薄膜を形成するためのガス供給部とが備えられている。そして、基材及び支持体は、再剥離性を有する粘着剤によって密着している。 （もっと読む）

チタニアもしくはチタニア含有物の薄膜を主たる反応源として常圧グロー放電プラズマを使用してＣＶＤによって堆積させ、通常の場合に非常に高い基板温度でのみ達成可能（常圧ＣＶＤによる）であった薄膜特性及び薄膜成長速度を導く方法が記載される。 （もっと読む）

プラズマ強化プロセス、特にプラズマ強化化学気相成長プロセスを実行するための装置は、真空チャンバ内に、極性が反対の周辺磁極および中央磁極を有する平坦なマグネトロン面（２０）を有して交流電圧の電源（３４）に接続されているアンバランス型マグネトロンを構成する、少なくとも１つのマグネトロン電極（３２）を含む。この装置はさらに、処理される表面がマグネトロン面（２０）に面するように基板（２５）を位置付けるための手段と、プロセスガスまたはプロセスガス混合物を、マグネトロン面（２０）と処理される表面との間の空間に供給するためのガス供給手段とを含む。最適な堆積速度を達成するために、マグネトロン面（２０）と処理される表面との間の距離は、マグネトロン面（２０）の周辺磁極と中央磁極との間に延びる磁力線によって形成されるより暗いトンネルと処理される表面との間に走る可視プラズマ帯があるように、マグネトロン電極（３２）によって作り出される磁界に適合され、プラズマ帯は最小限の幅を有するものの、コーティングされる表面に向かって均質な明るさを有している。処理される表面とマグネトロン面との間の距離は、好ましくは、トンネルの高さよりも２〜２０％長い。この装置は、たとえば、ポリマーフィルム材料でできたウェブを酸化シリコンでコーティングしてそのバリア特性を向上させるために適用可能である。
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連続したプラズマ強化プロセスにおいてウェブ材料を処理するための装置を提供する。当該装置は真空チャンバ（１）を含み、真空チャンバ（１）は、チャンバ（１）内に配置されチャンバ（１）内で一定の減圧を維持するための手段（２）を備え、当該装置はさらに、ウェブ（４）を支持しかつ搬送するための回転ドラム（３）と、ドラム（３）によって支持および搬送されるウェブ（４）に面するマグネトロン手段と、ドラムとマグネトロン手段との間におけるプラズマが維持される空間（１０）にプロセスガスまたはプロセスガス混合物を供給するためのガス供給手段とを含む。マグネトロン手段は、互いに平行に並んで配置される長方形のマグネトロン面を備えた複数の独立したマグネトロン電極（６）を含む。各マグネトロン電極（６）は、それ自体の電源手段（７）によって交流電圧が個々に供給される。ドラム（３）は電気的に接地されるか、浮遊するかまたは負にバイアスがかけられる。当該装置は、プラズマ強化化学気相成長プロセスで可撓性のあるウェブ（４）をコーティングするのに特に好適であり、たとえばそのバリア特性を向上させるために酸化珪素でポリマー膜のウェブをコーティングするのに好適である。当該装置は極めて一定の品質を有する信頼性の高いコーティングで作られ、単純な態様で実行可能なメンテナンスを少ししか必要としない。
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活性材料含有コーティングを基材上で形成させる方法であって、本方法は：
ｉ）プラズマ環境内で化学結合形成反応する１種以上のガス状もしくは噴霧状液体および／または固体のコーティング形成材料、ならびに、プラズマ環境内で実質的に化学結合形成反応しない１種以上の活性材料を、大気圧〜低圧非熱平衡プラズマ放電および／またはこれから結果得られてくる励起ガス流中に導入するステップ
ｉｉ）該基材を、該基材表面上に沈着される噴霧状コーティング形成材料および少なくとも１種の活性材料の、結果的に得られてくる混合物に晒し、コーティングを形成させるステップ
を含み、ここで該基材が、ワイプ、家庭ケア用もしくは脱毛ケア用布もしくはスポンジ、または水溶性家庭クリーニング用単位用量製品でない。
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【課題】 本発明は、有機材料で形成された基材上に真空製膜法で形成された蒸着層を形成された場合でも、高度な密着性を有する積層体を提供することを主目的とする。
【解決手段】 本発明は、有機材料で形成された基材と、上記基材の片面または両面に真空製膜法で形成された中間層と、上記中間層上に無機酸化物を真空製膜法で製膜した蒸着層とを有し、上記中間層が有機成分と無機成分とを有する蒸着膜であることを特徴とする積層体を提供することにより上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

本発明は、基材表面（１６）をプラズマ処理するための装置（１０）を提供する。本装置は、プラズマを発生させるためのプラズマ源（１２）及びプラズマ制御電極（１４）とを含んで構成される。本装置は更に、プラズマ制御電極（１４）とプラズマ源（１２）との相対的運動、又はプラズマ制御電極（１４）とプラズマ源（１２）の基材（１６）に対する相対的運動を行わせるための駆動手段を含んで構成される。プラズマ制御電極（１４）は、基材（１６）に隣接して配置され、基材表面（１６）の制御された処理を容易にするものである。
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原子層堆積を用いて基板上にバリア層を形成する方法及び装置が記載されている。被覆基板は、酸素及び水蒸気に対する透過性が減少する。
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本発明のプラズマ発生装置は、柱形状の電源極、電源極の周りを覆う誘電体膜、電源極に隣接して配置される補助プラズマ接地極、反応ガスを提供するためのガス流入部、及び電源極に印加されるＲＦ電源を制御する電源コントローラを含み、プラズマ発生装置が作動する間には、電源コントローラは、電源極と補助プラズマ接地極との間に補助プラズマを維持することを特徴とする。本発明のプラズマ発生装置は、大気圧下で低温プラズマを生成することができ、補助プラズマを利用することによって、安定したプラズマを提供することができる。特に、電源の供給が不安定である高周波電源を使用する場合にも、補助プラズマが安定的なプラズマソースとして機能するので、均一で且つ大面積に適用可能なグロープラズマを生成することができる。 （もっと読む）

大気圧または大気圧近傍の圧力下、対向する電極間にフッ素化合物と有機マグネシウム化合物を含有する反応性ガスを供給し、高周波電圧をかけて、前記反応性ガスを励起状態とし、励起状態の反応性ガスに基材を晒すフッ化マグネシウム薄膜の製造方法。および、前記フッ化マグネシウム薄膜が第１のフッ化マグネシウム薄膜上に、第２のフッ化マグネシウム薄膜を有し、前記第１のフッ化マグネシウム薄膜は炭素と酸素の混入比の少なくともいずれかが１０原子％以上であり、前記第２のフッ化マグネシウム薄膜の炭素と酸素の混入比の少なくともいずれかが１０原子％以下であることを特徴とするフッ化マグネシウム積層膜。 （もっと読む）

コーティングされるべき基板(１１６)上に照射するイオン源(１３２)或いは(２１８)が、ＭＯＣＶＤ、ＰＶＤ或いは超伝導体素材の調整のためのその他の処理を強化するのに用いられる。
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