【課題】支持台の上に基板を置き、基板を支持台から加熱するのでなく高温のガスを吹き付けることにより基板上の膜を高温アニールして膜を形成する、または熱ＣＶＤ膜を基板表面に形成するときに基板と支持台の密着がゴミや空気、基板ゆがみのために不完全であった。このために、大面積基板の均一な再現性のある熱処理が可能でなかった。
【解決手段】支持台と基板の間に粘性材を挿入する。均一な再現性のある熱接触が可能となった。屈曲可能なシート状の樹脂基板でも高温ガスを吹き付ける熱処理が可能となった。 （もっと読む）

【課題】種々の成膜法が利用可能な連続成膜装置を提供する。
【解決手段】真空中で搬送される基材Ｓの表面に成膜粒子を供給して皮膜を形成する連続成膜装置であって、真空チャンバ−１と、真空チャンバー１内に回転自在に支持され、基材Ｓを巻き掛けて搬送する成膜ロール４と、前記基材Ｓを成膜域に供給する巻出ロール５および成膜後の基材を巻き取る巻取ロール６と、前記成膜ロール４に対向して配置されたスパッタ蒸発源７１，７２，７３を備える。さらに前記成膜ロール４の下部に一対の回転円筒状電極１１，１２をそれぞれ成膜ロール４と平行に備える。前記一対の回転円筒状電極の少なくとも一方は円筒状ターゲット１３を備える。 （もっと読む）

【課題】低圧力下においても、高い成膜レートを引き出し、高いガスバリア性を有する高分子フィルム積層体を製造するための真空成膜装置ならびに最適な高分子フィルム積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】高分子フィルム基材６にプラズマＣＶＤ法により薄膜を形成させる成膜室３と、成膜室に薄膜の原料を導入する原料噴出手段と、マイクロ波発生手段１２と、マイクロ波を受信するアンテナ機構の先端よりプラズマ噴出源のガスを噴出するガス噴射手段１３とを具備する真空成膜装置１を用いる。 （もっと読む）

【課題】電圧印加電極をシールドする金属製支持枠と枠体との間のインダクタンス成分を低減する。
【解決手段】電圧印加電極８の背面に金属製支持枠２１を配置するとともに、電圧印加電極８の前方に突き出すようにして電圧印加電極８の周囲に枠体２２を配置し、枠体２２の外周面を覆うように配置された金属板２７にて金属製支持枠２１と枠体２２とを電気的に接続する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、加工時や使用時に生じる熱による寸法変化が起こりにくく、且つ変質しにくく、したがって、長期にわたり高く安定したガスバリア性を保持することができる透明ガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させることを特徴とする透明ガスバリア性フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】合成皮革との剥離性の向上が可能であるとともにエンボス加工の賦型率を向上可能なエンボス付き離型紙の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸を有するエンボス付き離型基材１と離型基材１の表面上にＣＶＤ法により形成された剥離層２とを備えるエンボス付き離型紙の製造方法において、凹凸を、所定の温度に冷却したエンボスロール５０を熱溶融樹脂１３と接触させ、熱溶融樹脂１３を冷却固化するチルロールエンボス法により形成する。 （もっと読む）

【課題】加工時や使用時に生じる熱による寸法変化が起こりにくく、且つ変質しにくく、したがって、長期にわたり高く安定したガスバリア性を保持することができる透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させ、該収縮させた蒸着フィルムの蒸着膜が設けられた面に、ガスバリア性塗布膜を設けることを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】層間の密着力が高く、ガスバリア性能が優れたガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガスバリアフィルムは、基板上に、有機層と無機層とが順に形成されてなる積層体が、少なくとも２層以上積層されたものである。有機層のうち基板上に直接形成される第１の有機層はガラス転移温度が２００℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが３００ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である。有機層のうち、第１の有機層以外の第２の有機層は、ガラス転移温度が１０５℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが５０ｎｍ以上３００ｎｍ未満である。また、無機層はプラズマを用いた成膜方法により形成されている。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性のみならず耐久性にも優れる、無機／有機のガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】気相成膜法で無機化合物層を形成した後、逆スパッタリング等で粗面化処理を行い、粗面化処理を行なった無機化合物層の上に、フラッシュ蒸着によって有機化合物層を形成することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】成膜処理時の成膜状況に応じてシート状基材を温度制御して、薄膜部材の品質をより向上させた薄膜部材の製造装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】成膜ロール６の胴部６０の外周表面６０ａにシート状基材２を密着させた状態で回転搬送させながら、シート状基材２の表面に薄膜を形成してシート状の薄膜部材を製造する薄膜部材の製造装置において、成膜ロール６は、シート状基材２の表面に成膜処理を行う成膜処理部４の対向位置に配設され、胴部６０の表面内側の軸心方向に沿って、かつ胴部６０の円周方向に配設された複数の媒体路６４・６４・・・と、成膜処理部４に対して近い回転位相部分と遠い回転位相部分とで、胴部６０の単位回転位相あたりの媒体路６４・６４・・・への温調媒体の供給量を変更して、前記胴部の外周表面の温度を所定の回転位相ごとに温調する温調機構と、を具備してなる。 （もっと読む）

【課題】基板フィルムの両面及び片面への蒸着を行なうことができ、装置の大型化及び複雑化を回避できる蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板フィルムに蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、基板フィルムを送り出すように回転駆動する第１の駆動部と、搬送された基板フィルムを巻き取るように回転駆動する第２の駆動部と、第１駆動部と第２駆動部との間で搬送される基板フィルムの搬送経路に設けられ、基板フィルムの一方の面を周面に支持する複数の成膜ローラと、基板フィルムの成膜ローラに支持された面の反対側の面に蒸着膜を成膜する複数の蒸着部と、第１の駆動部及び第２の駆動部の一方と切り換えられて駆動する第３の駆動部とを備え、第３の駆動部への切り換えの有無によって基板フィルムの両面又は片面に蒸着が行われるように搬送経路が変更される。 （もっと読む）

【課題】 真空成膜装置によりコーティング膜上に無機膜を成膜する際に、無機膜の割れ／抜け等の欠陥を引き起こすコーティング膜の平滑性悪化を防止し、生産性の高い機能性フィルムの製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】
フィルムロール４０から連続的に支持体Ｂを送り出し、支持体Ｂ上にコーティング膜を成膜し、支持体Ｂをフィルムロール４２に巻き取る。次いで、フィルムロール４２を真空成膜装置２２の供給室５０にセットし、常圧から１００Ｐａまでの減圧時間が７分以上となる減圧速度で減圧し、さらに所定の真空度まで減圧する。フィルムロール４２から支持体Ｂを、供給室５０の減圧速度より速い減圧速度で所定の真空度まで減圧された真空成膜装置２２の成膜室５２に供給し、コーティング膜上に無機膜を成膜し、無機膜が成膜された支持体Ｂを、真空成膜装置２２の巻取り室５４でフィルムロール４８に巻き取る。 （もっと読む）

【課題】
基材との密着性の高い皮膜を形成することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】
大気圧及びその近傍の圧力下でプラズマＰを生成する。このプラズマＰを基材Ｆの表面に供給してその表面に成膜するための成膜部１を備えた成膜装置に関する。成膜部１でプラズマＰを供給する前の基材Ｆの表面にプライマー層を形成するためのプライマー層形成部２を備える。プライマー層形成部２で基材Ｆの表面にプライマー層を形成した後、成膜部１でプライマー層の表面に皮膜をプラズマＰにより成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】真空成膜法によりコーティング膜上に無機膜を形成するときに、無機膜の割れ／抜け等の欠陥が発生するのを抑制でき、さらに生産性の高い機能性フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コーティング膜１２を塗布・乾燥し硬膜した後に、コーティング膜層表面にラミネートフィルム８２を挟みながら巻き取りフィルムロール４２とし、このフィルムロール４２を真空成膜装置２２にセットして、無機膜の製膜前にラミネートフィルム８２を剥離する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性のみならず、耐酸化性にも優れるガスバリア膜の製造方法、および、これを利用する太陽電池用ガスバリアフィルム、および、ディスプレイ用ガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】ガスバリア膜の成膜のためのプラズマ放電を開始した後に、所定の時間が経過する前のプラズマを、前記ガスバリア膜の製造に用いないことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基板を流れる電流の局所集中を抑制し、基板端部の電流密度の上昇を緩和するとともに、基板に発生する熱による焼損などの不具合を防ぎ、安定した特性を有する薄膜を成膜することが可能なプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】原料ガスが導入される反応容器１内に２つの電極を対向して配置し、２つの電極の一方に高周波電力を供給することによってプラズマを生成し、原料ガスを分解して２つの電極の間に搬送されてくる導電性を有する基板の表面に薄膜を形成するようにしたプラズマＣＶＤ装置において、２つの電極の外側に位置する基板搬送方向の両側には、基板と接触して基板に流れる電流を反応容器１に流すための経路を兼ねる搬送ロール６が設置されているとともに、搬送ロール６は、基板の幅方向に３つに分割されて配置されている。 （もっと読む）

【課題】従来の蒸着方法では不十分であった無機酸化物蒸着層の密着強度を改善し、かつ高いガスバリア性能が得られるガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムを高い生産効率で製造可能な製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】基材となる高分子フィルム１の片面もしくは両面に、前記高分子フィルム１と同等もしくはそれ以上に平滑である下地層２、第一無機酸化物蒸着層３、前記高分子フィルム１と同等もしくはそれ以上に平滑である中間層４および第二無機酸化物蒸着層５をこの順で有するガスバリアフィルム、その製造方法および製造装置。 （もっと読む）

ウェブ基板原子層堆積システムは、複数の処理チャンバを通して、ウェブ基板の表面を搬送する、少なくとも１つのローラを含む。複数の処理チャンバは、ウェブ基板の表面を第１の前駆体ガスの所望の部分圧力に曝露し、それによって、ウェブ基板の表面上に第１の層を形成する、第１の前駆体反応チャンバを含む。パージチャンバは、パージガスによって、ウェブ基板の表面をパージする。真空チャンバは、基板の表面からガスを除去する。第２の前駆体反応チャンバは、ウェブ基板の表面を第２の前駆体ガスの所望の部分圧力に曝露し、それによって、ウェブ基板の表面上に第２の層を形成する。
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【課題】可撓性基板とアース電位の枠体との間に生じる異常放電を確実に抑制することができる薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】成膜用真空室１３に可撓性基板１を搬送し、搬送された可撓性基板１を挟んで一対の挟持部材３３，５４を相対移動可能に配設し、前記一対の挟持部材３３，５４の何れか一方に接地電極２２を配設し、他方に高電圧電極２１を配設し、前記成膜用真空室１３内に成膜室５を形成する挟持機構と、前記一対の挟持部材３３，５４を相対移動可能に駆動するアクチュエータ２４とを備え、前記挟持機構の前記一対の挟持部材３３，５４に、前記可撓性基板１の挟持状態で、当該可撓性基板の成膜面を囲むシール部材５２，３３１が配設されると共に、前記シール部材の外側で前記可撓性基板１に接触して当該可撓性基板をアース電位とするアース電位接触子５６を設けた構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板に対する悪影響を抑制でき、かつ、十分にプラズマを閉じ込めることができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】高周波電圧が印加される一対の電極５４、５６間にプラズマ化されるガスが供給されると共に、一方の電極５４の表面に沿って基板２が配置される。電極５４、５６間から排出されるガスの流路にプラズマ閉込部６５を備え、プラズマ閉込部６５は、表面にＳ極５８Ｓ及びＮ極５８Ｎがガスの流れＡと交差する方向に一列に交互に配置された磁石部６０を一対有し、一対の磁石部６０はＳ極５８ＳとＮ極５８Ｎとが互いに対向し、かつ、一対の磁石部６０間にガスが流れるように対向配置されている。プラズマ閉込部６５は、さらに、一方の磁石部６０のＳ極５８Ｓ及びＮ極５８Ｎの境界部と、他方の磁石部６０のＳ極５８Ｓ及びＮ極５８Ｎの境界部との間に、ガスの流通を妨げるブロック５９を有する。 （もっと読む）