【課題】基板に製膜される膜の厚さを効果的かつ効率的に均一にすることができる製膜装置の膜厚調整方法を提供することを目的とする。
【解決手段】コンベア７によって搬送される基板３に製膜される膜の原料ガスを吹き付けるノズル３９を有するインジェクタ３５と、外側に形成される前窒素ガスカーテン４５および後窒素ガスカーテン４７に案内されて吹き付けられた原料ガスを基板３とインジェクタ３５との間から排気する前後一対の排気流路３７と、前後一対の排気流路３７を流れる流体間のバランスを測定する圧力差測定部５３と、圧力差測定部５３が測定したバランスが所定の範囲に収まるように前窒素ガスカーテン４５および後窒素ガスカーテン４７の流量を調整する制御部４９と、が備えられている。 （もっと読む）

【課題】ハイドロキシアパタイトを膜形成成分として含む蒸着膜がプラスチック基材の表面に形成されており、ハイドロキシアパタイトの特性が活かされ、プラスチック基材のガスバリア性が著しく高められたガスバリア材を提供する。
【解決手段】プラスチック基材１と、その表面に、リン酸カルシウム化合物が層状に分布している領域３ａを含む蒸着膜３が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低抵抗で且つ高密度なルテニウム含有薄膜を提供する。
【解決手段】 化学気相蒸着法により形成したルテニウム含有薄膜を加熱処理して、膜密度が１０．５〜１２．２ｇ／ｃｍ^３で、且つ比抵抗値が８〜１００μΩｃｍであるルテニウム含有薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】有機層と無機層とを交互に積層してなるバリアフィルムにおいて、無機層と、その上に形成される有機層との間での剥離を防止する。
【解決手段】基板側から有機層と無機層との数を計数した際に、基板からｎ層目の無機層と、基板からｎ＋１層目の有機層との間に、有機珪素層を有し、かつ、前記ｎ層目の無機層とｎ＋１層目の有機層において、この無機層が珪素化合物からなる層であり、この有機層が紫外線硬化型樹脂もしくは電子線硬化型樹脂からなる層であることを特徴とする積層型バリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】極性分子ガス透過性、無極性分子ガスバリア性を有する選択ガス透過性フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム１０に、有機珪素化合物、金属または金属酸化物を供給してなる厚さ５〜５０ｎｍの蒸着膜層２０を設けたガスバリア性フィルムを伸長させてなる。水蒸気透過度を維持したまま酸素透過度が向上した、選択ガス透過性フィルムである。 （もっと読む）

【課題】Ｃｕ配線中のＭｎの残留量を減らすことができる、半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｕ層２０の形成後、Ｃｕ層２０上に、高純度Ｃｕからなる犠牲層３１が積層される。そして、犠牲層３１の形成後、熱処理により、Ｃｕ層２０と第２絶縁層６との間に、ＭｎＳｉＯからなる第２バリア膜１３が形成される。このとき、第２バリア膜１３の形成に寄与しない余剰のＭｎは、Ｃｕ層２０中に拡散する。Ｃｕ層２０上に高純度Ｃｕからなる犠牲層３１が積層されているので、Ｃｕ層２０に拡散したＭｎの一部は、Ｃｕ層２０中を犠牲層３１に引き寄せられるように移動し、犠牲層３１に拡散する。この犠牲層３１へのＭｎの拡散により、Ｃｕ層２０に含まれるＭｎの量が減少する。よって、Ｃｕ層２０からなる第２Ｃｕ配線中のＭｎの残留量を減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】有機材料の表面にプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を形成する際に、目的とするガスバリア性を有するガスバリア膜を、安定して形成することを可能にする。
【解決手段】第１のプラズマ放電圧力でガスバリア膜を形成し、その後、前記第１のプラズマ放電圧力よりも低圧力の第２のプラズマ放電圧力でガスバリア膜を形成することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】原料ガスとしてシランガス、アンモニアガス、水素ガスおよび／または窒素ガスを用い、容量結合型のプラズマＣＶＤによって、良好なガスバリア性を長期に渡って発現するガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】シランガス流量Ｑ、プラズマ生成ＰとしたＰ／Ｑが１０〜３０［Ｗ／ｓｃｃｍ］、成膜圧力が２０〜２００Ｐａで、基板温度を７０℃以下として、前記基板に−１００Ｖ以下のバイアス電位を印加しつつ窒化珪素膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】良好な膜厚分布、組成分布、成膜レートを再現しつつ、パーティクル数が少なく、長期にわたって連続成膜を安定して行えることが可能な生産性、量産性に優れた薄膜製造装置及び製造方法の提供。
【解決手段】反応空間である反応室上部からシャワーヘッドを介して反応室内に成膜ガスを導入し、加熱基板上で成膜するＣＶＤ装置である薄膜製造装置において、上部の反応空間が回転又は昇降しない基板ステージとシャワーヘッドと防着板とで構成され、防着板と基板ステージとで構成される同心円の隙間をガス排気経路として設け、このガス排気経路の上方から防着板に沿って不活性ガスが流れるように構成し、そしてガス排気経路の２次側に下部空間を設ける。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛透明導電酸化物層上に低屈折率のカーボン膜を形成することで、光線透過率は向上するが、水分や空気に対する耐久性は向上しない。また、有機珪素化合物層を酸化亜鉛透明導電酸化物層上に直接形成しようとしても、大面積では均一に形成することが困難であったが，それを解決する透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１上に透明導電酸化物層２／カーボン層３のさらにその上に、有機珪素化合物層４を形成することで、水分や空気に対する耐久性の向上が可能となり、さらに大面積にした場合も均一に作製することができる。 （もっと読む）

【課題】有機材料の表面にプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を形成する際に、目的とするガスバリア性を有するガスバリア膜を、安定して形成することを可能にする。
【解決手段】第１のプラズマ励起電力でガスバリア膜を形成し、その後、プラズマ励起電力を、前記第１のプラズマ励起電力よりも高い第２のプラズマ励起電力に変更することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ロール・ツー・ロールの製造装置を用いてプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を成膜するガスバリアフィルムの製造において、目的とするガスバリア性を有するガスバリアフィルムを安定して製造することを可能にする。
【解決手段】成膜前に、基板表面に５０Ｎ／ｍ²以上の面圧を与える部材が配置され、かつプラズマＣＶＤによる成膜圧を６０Ｐａ以上とすることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＣＶＤ装置に適した化合物を原料として窒化炭素膜を形成し、窒素含有量が高く、ガスバリア及び半導体用の絶縁膜として使用できる膜を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２，Ｒ^３，Ｒ^４，Ｒ^５，Ｒ^６は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、互いに結合していても良い。ｍ、ｎは、０〜２０の整数を表す。）で示される化合物を原料として用い、プラズマ励起化学気相成長法により窒化炭素含有膜を製造し、それを用いてガスバリア膜や半導体デバイスを製造する。 （もっと読む）

【課題】バリア層上に膜質のよい高誘電率材料の絶縁体が形成され得る、絶縁体の成膜方法を提供すること。
【解決手段】半導体基板の面上に、第１の比誘電率を有する材料を本質的な成分とする第１の絶縁膜を形成する第１の工程と、第１の絶縁膜上に、第１の比誘電率より大きな第２の比誘電率を有する材料を本質的な成分とする第２の絶縁膜を第１の絶縁膜の膜厚より厚く形成する第２の工程と、を具備し、第２の工程が、処理室内に第１の原料ガスを流す工程と、第１の原料ガスをパージする工程と、処理室内に第１の酸化剤を流す工程と、第１の酸化剤をパージする工程と、処理室内に第２の原料ガスを流す工程と、第２の原料ガスをパージする工程と、処理室内に第２の酸化剤を流す工程と、第２の酸化剤をパージする工程とを順次繰り返してなされる。 （もっと読む）

【課題】ＨＦ系溶液に対するエッチングレートが小さいシリコン窒化膜を、成膜温度を上げることなく形成する基板処理方法を提供する。
【解決手段】処理室内に収容された基板上に薄膜を形成する基板処理方法であって、Ｃｌ元素を含有する第１の処理ガスを処理室内に供給する第１の工程と、不活性ガスを処理室内に供給して処理室内から第１の処理ガスを排出させる第２の工程と、第２の処理ガスを処理室内に供給して基板上に薄膜を生成する第３の工程と、不活性ガスを処理室内に供給して処理室内から第２の処理ガスを排出させる第４の工程と、を１サイクルとしてこのサイクルを所定回数繰り返し、第２の工程では、処理室内から第１の処理ガスを排出させた後も不活性ガスを処理室内に引き続き供給する。 （もっと読む）

【課題】２個以上の光学材料が接着剤を用いることなく接合された接合光学部品とその製造方法を提供すること。
【解決手段】２個以上の光学材料（Ｎｄ：ＹＡＧ結晶とＹＡＧ結晶）１とこれ等光学材料間に設けられ材料間の反射を防止する誘電体多層膜２とを具備した特定波長域を透過させる接合光学部品であって、光学材料とその両面に原子層堆積（ＡＬＤ）法により成膜された両面対称構造を有する一対の誘電体多層膜とで構成される２個以上の誘電体多層膜構造体10がその誘電体多層膜を介し直接接合されて成ることを特徴とする。また、接合光学部品の製造方法は、光学材料の両面にＡＬＤ法により両面対称構造を有する一対の誘電体多層膜を同時に成膜して誘電体多層膜構造体を製造し、得られた２個以上の誘電体多層膜構造体をその誘電体多層膜を介し直接接合して接合光学部品を製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜応力がバランスして反りの発生を低減できかつ１枚の基板に対する膜層数も大幅に低減された誘電体多層膜ミラーを提供すること。
【解決手段】特定波長域を反射させる誘電体多層膜ミラーであって、基板１の両面に両面対称構造を有する一対の誘電体多層膜２が原子層堆積（ＡＬＤ）法により成膜された誘電体多層膜構造体10を２枚以上接合して成ることを特徴とする。また、このミラーの製造方法は、原子層堆積（ＡＬＤ）法により基板１の両面に両面対称構造を有する一対の誘電体多層膜２を同時に成膜して誘電体多層膜構造体10を製造し、得られた２枚以上の誘電体多層膜構造体を接合して誘電体多層膜ミラーを製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸素ガス及び水蒸気に対して高いバリア性を示し、且つ危険な原料を使用せずに効率よく大量生産することができるガスバリア性積層フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチックフィルムからなる基材の一方の面に、ケイ素化合物蒸着膜を積層したガスバリア性積層フィルムであって、ケイ素化合物蒸着膜の上にさらにガスバリア性塗布膜を設け、且つ、ケイ素化合物蒸着膜が特定の組成を有することを特徴とするガスバリア性積層フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸素ガス及び水蒸気に対して高いバリア性を示し、且つ危険な原料を使用せずに効率よく大量生産することができるガスバリア性積層フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチックフィルムからなる基材の一方の面に、ケイ素化合物蒸着膜を積層したガスバリア性積層フィルムであって、ケイ素化合物蒸着膜が特定の組成を有することを特徴とするガスバリア性積層フィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光電変換層への入射光量を多くするために、光閉じ込め効果を発揮するための最適な凹凸形状を備え、かつ、可視光短波長域の吸収が少ない透明導電膜を備える基板を提供する。さらには、その基板を用いた光電変換装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板は、アルカリ成分を含むガラス板と、ガラス板上に形成され、（i）３５〜１００ｎｍの範囲の膜厚を有し、主成分としての酸化スズを含む第１下地層と、（ii）第１下地層上に形成され、５〜５０ｎｍの範囲かつ第１下地層よりも薄い膜厚を有する非晶質の第２下地層とを含む、凹凸を有する下地膜と、下地膜上に形成され、１０〜２５０ｎｍの範囲の膜厚を有し、主成分として酸化スズを含むノンドープのバッファ層と、バッファ層上に形成され、主成分として酸化スズを含むドープされた透明導電膜と、を備えたものである。 （もっと読む）