本発明は、腐食性材料部材を腐食から保護し且つ摩耗および摩擦からは一定程度まで保護することを意図する薄膜を含む被覆であって、該被覆は、本質的に、ケイ素、炭素、水素および窒素を含有し、これらの成分は、ERDA技術により測定された水素の原子濃度が20±5原子％であり、ラザーフォード後方散乱（RBS）技術により測定されたケイ素の原子濃度が15〜28原子％であり、窒素および炭素の原子含有量の比率（N/C）が0.9より大きく、前記材料の硬度は2100daN/mm²以下であるように配合される被覆に関する。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢ−ＣＶＤを用い、簡便に任意形状の３次元的な微小立体構造操作具を作製する微小立体構造物操作具の作製方法及びそれによって作製される微小立体構造操作具を提供する。
【解決手段】微小立体構造操作具の作製方法において、３次元ＣＡＤを利用して設計した微小立体構造操作具を三次元モデルから算出した描画データに基づいて、原料ガスへの集束イオンビームの照射によるＦＩＢ−ＣＶＤ法を用い、集束イオンビームの照射位置、ビームの強度、照射時間、照射間隔を制御することで任意形状のＤＬＣブレードナイフ１２，１３及びニードル１４を有する微小立体構造物操作具としてのナノカッターを作製する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１のＴｉ_1-xＡｌ_xＮ硬質皮膜を有する単層または多層の層構造を有する硬質膜被覆された物体およびその製造方法に関する。本発明は、このような硬質膜被覆された物体において、実質的に改善された耐摩耗性および耐酸化性を達成するという課題に基づいている。本発明による硬質膜被覆された物体は、プラズマ励起を行わずにＣＶＤにより生じる、ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍの格子定数ａ_fccを有する立方晶ＮａＣｌ構造の単層として存在するか、またはその主要な層が、ｘ＞０．７５〜ｘ＝０．９３の化学量論係数および０．４１２ｎｍ〜０．４０５ｎｍの格子定数ａ_fccを有する立方晶ＮａＣｌ構造を有するＴｉ_1-xＡｌ_xＮからなり、その際、別の層としてＴｉ_1-xＡｌ_xＮをウルツ鉱構造として、および／またはＮａＣｌ構造のＴｉＮ_xとして含有している多相の層である、少なくとも１のＴｉ_1-xＡｌ_xＮ硬質皮膜で物体が被覆されていることを特徴とする。この硬質皮膜のもう１つの特徴は、塩素含有率が、わずか０．０５〜０．９原子％の範囲内であることである。物体を製造するために本発明は、物体を反応器中、７００℃〜９００℃の範囲の温度でプラズマ励起を行わないＣＶＤにより被覆し、その際、前駆体として、チタンハロゲン化物、アルミニウムハロゲン化物、および反応性窒素化合物を使用し、これらの高温で混合することを特徴とする方法を含む。本発明による被覆は特に、中ぐりバイト、フライスおよびスローアウェイチップのような鋼、超硬合金、サーメットおよびセラミックからなる工具において使用することができる。
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様々な半導体加工用部品とこうした半導体加工用部品を形成する方法とが開示される。一実施形態では、半導体加工用部品はＳｉＣで形成され、および、この半導体加工用部品の外側表面部分が、内部不純物レベルの１０倍以下である表面不純物レベルを有する。別の実施形態では、半導体加工用部品を処理する方法は、この半導体加工用部品を高温度においてハロゲン気体に曝露することと、酸化物層を形成するために半導体加工用部品を酸化させることと、この酸化物層を除去することとを含む。 （もっと読む）

【課題】基材に施された複数の処理面での界面の密着性が高く、複合ドライ表面改質処理が高効率で実施できる処理方法、装置および表面改質処理物を提供する。
【解決手段】 本発明装置は、装置本体に対し高圧導入端子に切換手段を介して、第１改質装置と第２改質装置を接続し、チャンバーの壁に第３改質装置を接続したものである。装置本体はチャンバーと、ガス導入装置と、真空引きする真空装置と、基材取付台と、該それを台展延面に垂直な軸回りで、チャンバー壁に対し絶縁材を介して回転自在に支持する台支持部と、前記基材取付台に対し摺動ブラシを介して接続され、チャンバー壁に絶縁貫通して取り付けられた高圧導入端子とを含む。基材の加熱を前記第２装置を使用して電子ビーム注入で行って加熱保持し、次に、前記第３装置を使用してアトム窒化および窒化イオン注入併用で窒化し、次に第１装置を使用してＤＬＣ成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】 高密度なダイヤモンドライクカーボン膜、シリコン膜、ゲルマニウム膜等の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 １４族元素を含む化合物、及び超臨界状態とした物質の混合系でプラズマ放電を行うことにより基材上に膜を形成する膜の製造方法である。ここで、１４族元素が炭素であり、形成される膜がダイヤモンドライクカーボン膜であることが好ましい。また、１４族元素がケイ素であり、形成される膜がシリコン膜であることが好ましい。さらに、１４族元素がゲルマニウム原子であり、形成される膜がゲルマニウム膜であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 鋼からなる基材にＤＬＣ膜を形成しても、基材の強度が低下せず、高強度の被覆部材を得ることができる被覆部材の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくともＭｏを含有する鋼からなる基材に焼入れする焼入れ工程と、該基材の表面にプラズマＣＶＤ法により非晶質炭素膜（ＤＬＣ膜）を形成して該基材を焼戻しする焼戻し工程と、からなることを特徴とする。
上記の焼戻し工程において、プラズマＣＶＤ法によるＤＬＣ膜の成膜温度が上記基材の焼戻し温度に達するため、焼戻し処理とプラズマＣＶＤ処理とを同時に行うことができる。すなわち、本発明の被覆部材の製造方法を用いれば、強度低下を引き起こすことなく、鋼材へのＤＬＣ膜の形成が可能となる。その上、基材に対するＤＬＣの成膜と焼戻しとを一工程にできるため、製造工程が簡略化される。 （もっと読む）

【課題】 材料ガスによるプラズマガン内の汚染を防止する。
【解決手段】 プラズマガン１８内で発生されたプラズマ３４は、アパーチャ２４を介して真空槽１２内に供給される。この状態で、真空槽１２内に材料ガスとしてのＴＭＳガスおよびアセチレンガスが導入されると、これらのガスはプラズマ化され、プラズマ化されたガスは、被処理物５４，５４，…の表面において化学反応を起こす。これによって、被処理物５４，５４，…の表面に、シリコンを含有するＤＬＣ膜が形成される。
なお、ＴＭＳガスおよびアセチレンガスは、アパーチャ２４を介してプラズマガン１８内にも流入する。そして、特にアセチレンガスに含まれる炭素によって、プラズマガン１８内が汚染される。しかし、この炭素は、エッチングガスとしての酸素ガスと反応して、二酸化炭素となり、真空ポンプ１６によって真空槽１２の外部に排出される。 （もっと読む）

【課題】窒化金属膜及び該窒化金属膜を作製する窒化金属膜作製装置及び作製方法を提供する。
【解決手段】基板３を支持台２に載置して収容したチャンバ１の内部において、ヘリウムで希釈した塩素ガスプラズマ１６により、タンタルで形成した被エッチング部材１４をエッチングして塩化タンタルガスからなる前駆体１７を生成し、基板３の温度を被エッチング部材１４の温度よりも低くして前駆体１７を基板３に吸着させ、塩素ガスプラズマにより吸着した前駆体１７を還元してタンタル成分を基板３に成膜する際に、窒素ガスをプラズマ化して得られる窒素ガスプラズマによりタンタル成分を窒化して、基板３に窒化金属膜１８を成膜する窒化金属膜作製方法において、窒素ガスの供給量を制御して窒素ガス／ハロゲンガス流量比を０より大きく０．１以下とし、窒化金属膜１８の窒素原子と金属原子の原子組成比であるＮ／Ｍ比を０より大きく１以下となるようする。 （もっと読む）

【課題】 広い面積にわたって均一に炭素含有固体膜を形成することのできる薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 チャンバー内で炭化水素誘導体からなる原料流体と二酸化炭素からなるキャリア流体を混合して超臨界状態を形成し、白金、タングステン、コバルト、ニッケル、鉄またはその合金から選ばれたすくなくとも１種の金属触媒での触媒反応により超臨界流体中の原料流体に活性種を発生させ、その流体を基板に吹き付けることにより、基板上に炭素含有固体膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ＣＶＤ法などにより基材上にダイヤモンド膜が被覆されたダイヤモンド膜被覆部材で、耐摩耗性に加え耐溶着性に優れたダイヤモンド膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材の表面にダイヤモンド膜が被覆されたダイヤモンド膜被覆部材であって、前記ダイヤモンド膜の表面を構成するダイヤモンド結晶粒子の平均粒径が２μｍ以下、表面粗さＲａが０．４μｍ以下で、前記ダイヤモンド結晶粒子が研磨されて曲面になっていることを特徴とする。また、ダイヤモンド膜被覆部材を製造する方法は、ダイヤモンド膜の断面において微細ダイヤモンドが前記ダイヤモンド膜の成長方向に細長く配列し、かつその短径が０．００１μｍ以上０．０８μｍ以下の構造を有するダイヤモンド膜の表面を、粘弾性流動研磨法または弾性を有する砥粒複合体および／または角のない微細砥粒を用いた投射式研磨法により研磨することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い強度を有する硬質被覆層を表面に被覆することにより優れた耐欠損性および耐摩耗性を有する長寿命の切削工具を提供する。
【解決手段】 基体２の表面に炭窒化チタン層４を１層以上含む硬質被覆層３を有する表面被覆切削工具１において、表面被覆切削工具１の表面に硬質球８を接触させた状態で硬質球８がころがりながら自転するように表面被覆切削工具１を局所的に摩耗させた摩耗痕７の中心に基体２が露出するように硬質被覆層３を球曲面に摩耗させるカロテストの摩耗痕７を観察した際に、摩耗痕７の中心に存在する露出した基体２の周囲に観察される炭窒化チタン層４にクラックが存在しないものである。
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【課題】耐欠損性と耐摩耗性優れかつ安定しばらつきの少ないに単結晶ダイヤモンド工具を提供する。
【解決手段】単結晶ダイヤモンド素材の引張り応力が生ずる面に、気相法により、不純物を含まない高品質なダイヤモンド膜をコーティングする。 （もっと読む）

【課題】 光学素子成形用型材の耐久性向上。
【解決手段】 離型層として硬質炭素膜、中間層として非晶質炭化けい素膜を用いる光学素子成形用型材の製造方法において、硬質炭素膜及び非晶質炭化けい素膜の形成時に、型材に直流パルスバイアスを印加して形成する。 （もっと読む）

基板上の積層複合材料であって、前記積層複合材料の少なくとも１つの単一層が立方晶窒化ホウ素を含有し、かつ堆積を通じて製造されている。課題は、改善された接着強さを有するそのような積層複合材料を提案することである。前記課題は、立方晶窒化ホウ素が堆積の間に添加される酸素を含有することにより解決される。
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【課題】 本発明は、耐酸化性および耐拡散性、高機械強度を有し、且つ、離型がし易い金型を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、ガラス成形品を製造するための金型であって、成形面を有するベースと、該成形面に被覆される超硬被膜を有する金型を提供する。該超硬被膜は、非晶質窒化炭素基材、及び該非晶窒化炭素基材中に分散される立方格子窒化炭素粒子を有する。金型は、非晶質窒化炭素の良好な潤滑性によって光学ガラス成形品と接着せずに離型し易くなり、立方格子窒化炭素粒子の極めて高い硬度によって成形面の機械強度を増加し、また、該超硬被膜は金型ベースの金属元素の拡散を防止することができる。 （もっと読む）

基体（２２）および前記基体上のコーティングスキーム（３２）を含むコーティング体。基体（２２）上のコーティングスキーム（３２）は、その表面で小板粒子形態を示すアルファ−アルミナコーティング層（４０）またはその表面でレンズ形粒子形態または多角−レンズ形粒子形態のいずれかを示すカッパアルミナコーティング層（４０）またはその表面で大多面粒子形態または多角−多面粒子形態のいずれかを示すアルファ−カッパ−アルミナコーティング層（４０）を含む。
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