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Fターム[4K030LA23]の内容

CVD (106,390) | 膜特性、用途 (8,967) | 用途 (7,779) | 摺動部材 (130)

Fターム[4K030LA23]に分類される特許

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本発明は、水素化非晶質炭素コーティングおよびその生成方法に関する。本発明はまた、そのようなコーティングを有するデバイスに関する。本発明の方法は、水素化非晶質炭素の少なくとも2つの層を備える水素化非晶質炭素コーティングを生成することであり、前記層のそれぞれは、同一の化学組成ならびに物理的および機械的特性と、同一または異なる厚さとを有する。本発明のコーティングは、多くの用途、特に機械分野において著しい磨耗および摩擦の問題を被りやすい部品への用途が見出される。また、特に、手術用インプラントの分野およびMEMS(マイクロエレクトロメカニカルシステム)分野に適用することができる。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性で低摩擦性の軸受表面を得る。
【解決手段】中心軸と同軸である固定部材34と、固定部材34に固定された固定子38と、中心軸の回りを固定部材34に対して回転可能な回転可能部材36と、回転可能部材36に支持され、固定子38に磁気的に結合された回転子70と、固定部材34と回転可能部材36とを相互接続する動圧流体ベアリング37であって、無定形炭素、ダイヤモンドライク・カーボン、水素化無定形炭素、窒素化無定形炭素、水素化ダイヤモンドライク・カーボン、窒素化ダイヤモンドライク・カーボンから成るグループのうちの1つから成るコーティングを含む少なくとも1つの動作表面44,46を有する動圧流体ベアリング37とを備え、グループのうちの1つが、クロム、珪素、チタン、ジルコニウムから成るグループのうちの1つの上に設けられている。 (もっと読む)


【課題】シンプルな工程で、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜の付着強度を向上させることができるダイヤモンドライクカーボン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)基板11の表面をプラズマ照射により改質し、この改質されたPTFE基板11の表面に、化学気相蒸着法によりダイヤモンドライクカーボン膜12を形成する。 (もっと読む)


【課題】人工股関節の耐久性を高める。
【解決手段】炭化水素ガス及び有機シリコンガスの混合ガスのプラズマを使用し、炭化水素ガスのガス種とイオン注入電圧とを変化させるイオン注入及びCVDの複合プロセスが、少なくとも摺動部が金属で形成された人工股関節の骨頭インプラント(1)と寛骨臼インプラント(2)に対して実施されることにより、各々の摺動部の表面にDLC膜(1a,2a)が成膜される。 (もっと読む)


【課題】大気中かつ無潤滑環境下でも耐摩耗性・低摩擦性能に優れた硬質炭素被膜を提供する。
【解決手段】Fe、Co、Ni等の高融点金属を含む基材12上に、各層間の密着性を高めるためCr中間層41、および組成傾斜層42を形成し、その上に2.7at%以上7.7at%以下のMo元素、及び1.3at%以上4.6at%以下のS元素、及び7.0at%以上9.5at%以下のO元素を含む硬質炭素被膜43を0.2μm以上0.3μm以下の厚さに形成する。 (もっと読む)


【課題】マイクロクラックやピンホールが形成されることなく、樹脂含有物成形品にDLC膜を形成できる方法及び製膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ4を減圧して原料ガスを導入した後、電極2,3間に高周波電圧を印加して目標膜厚より薄い膜厚のDLC膜10を形成する製膜工程と、高周波電圧の印加を停止して電極2,3に蓄積された熱を逃がす放熱工程を交互に行うことにより、目標膜厚に達するまで段階的にDLC膜を製膜する。 (もっと読む)


【課題】基材との密着性に優れたDLC層をもつ摺動部材を提供すること。
【解決手段】本発明の摺動部材は、基材と、ケイ素、タングステン、クロムおよびチタンより選ばれる少なくとも一種の元素と、炭素と、を有し、厚さ方向を表面から基材方向に進むにつれて炭素の含有割合が減少した状態で基材の表面に形成された傾斜層と、傾斜層の表面に形成されたダイヤモンドライクカーボン層と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】密着性の向上を図ることができる炭素薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】炭素薄膜付与体7の中間層6は、基材5に印加されるバイアス電圧を0V〜−30Vの範囲の一定値に設定して、成膜されている。このため、中間層6は、過度に硬質化するようなことが回避され、靭性に富んだものになっていることから、炭素薄膜付与体7の使用時において、中間層6の上層に成膜されたDLC被膜1から作用する応力及び外力を緩和する能力が高くなり、当該炭素薄膜付与体7の剥離の原因となる中間層6内でのクラック発生が生じにくくなり、優れた密着性を発揮できる。 (もっと読む)


【課題】 実機の摺動面の隙間で発生するプラズマを用いて、その場でプラズマコーティングし、摺動しつつプラズマコーティングを行うことにより、コーティングと同時になじみ運転も行うことができる技術を提供する。また、摩擦または摺動により、薄膜には絶えず接線力を加えた状態でコーティングし、接線力による膜中の組織の配向を発生させ、極めて高い耐摩耗性、良潤滑性の膜をコーティングできる技術を提供する。
【解決手段】 摺動体と回転体を摩擦又は摺動させることにより、これらの間にトライボマイクロプラズを発生させ、該摺動体と回転体の一方又は双方に、摺動体又は回転体を構成する物質の少なくとも一部からなる膜を形成することを特徴とするトライボマイクロプラズマコーティング方法。 (もっと読む)


【課題】 圧縮機摺動部材の大気圧近傍での非晶質硬質炭素皮膜の成膜方法及びその方法で成膜された圧縮機摺動部材及びその非晶質硬質炭素皮膜の成膜装置を提供することを解決すべき課題とする。
【解決手段】 保持電極に圧縮機の摺動部材を圧縮機の摺動部材の摺動面と保持電極の電極面とが略同一面状に収容させ、大気圧近傍で交流電圧を印可して保持電極とガス供給電極体との間にグロー放電プラズマを発生させ、摺動面に非晶質硬質炭素皮膜を成膜する。その際保持電極とガス供給電極体とを相対移動させ、原料ガスの混合比を不活性ガス/炭化水素系ガス=0/100〜99/1とし、放電ギャップ距離を0.5mm〜10mmとし、原料ガス流速を1mm/sec〜1000mm/secとする。 (もっと読む)


【課題】ピストンリング溝の上下面に対し、耐Al凝着性と耐摩耗性に優れたピストンリング、及び、ピストンリングの外周摺動面のシリンダライナに対する初期なじみ性、耐摩耗性及び耐スカッフ性に優れたピストンリングの提供。
【解決手段】少なくとも上面8及び下面9に硬質炭素膜2が形成されたピストンリングであって、その硬質炭素膜2は、酸素含有量が1原子%以上10原子%以下であり、水素含有量が10原子%以上40原子%以下であり、ケイ素含有量が0.1原子%以上20原子%以下であり、その硬質炭素膜2の組織形態が柱状組織2xである第1ピストンリング10で、外周摺動面6に形成された硬質炭素膜2の組織形態は、上記柱状組織2xとは異なる緻密組織2yになっている。また、外周摺動面に硬質炭素膜が形成された第2ピストンリングは、形成された硬質炭素膜の表面形態が粒状形態を有し、その粒状形態が平均粒径で700nm以下である。 (もっと読む)


【課題】弾性ヒステリシス損失を利用することにより、耐摩耗性を高めつつ高摩擦係数化を図ることができる高摩擦摺動膜を提供する。
【解決手段】高摩擦摺動膜10は、基材20の表面に形成され、基材20に対して垂直な方向と基材20に対して平行な方向との弾性率が異なり、荷重−変位特性においてヒステリシスを示す。 (もっと読む)


【課題】一対の上下型と、これらを収容する胴型とを備えた成形型において、プレス成形中にガラス素材が胴型内周面に接触しても、ガラス素材の離型が極めてよく、連続プレス成形を行っても成形体の取り出し不良、ワレや形状不良などの欠陥、胴型内面の損傷や破壊などの問題が生じない耐久性に優れたモールドプレス成形型、及びその製造方法、並びにそのようなモールドプレス成形型を用いたガラス光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】プラズマ発生源114,115を備えた反応容器110内に、筒状の胴型30を、その内周面側の中空部に棒状電極113を挿通した状態で配置し、反応容器110内の雰囲気ガスを排気した後、反応容器110内に炭素を含むガス状の成膜材料を導入してプラズマ化することにより炭素荷電粒子を生成するとともに、棒状電極113に負のバイアス電圧を印加して、炭素荷電粒子を胴型30の内周面に誘導して炭素含有膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】鋼球のような転動体の表面全体に略均一、均質なDLC膜を、簡易な構成で成膜することができるDLC成膜装置を提供する。
【解決手段】一端部が電動モータの出力軸と連結されている回転軸41の他端部が攪拌翼31と連結されている。また、導電性を有し、内部で回転軸41が回転する支持筒51の外部で、導電性を有する載置皿21が吊り下げ支持されている。炭素を含むプラズマ雰囲気中で、載置皿21に載置されている各鋼球Bが、回転軸41の回転に伴って回転する攪拌翼31によって攪拌されつつ転動し、この状態で、パルス電源72から支持筒51及び載置皿21を介して各鋼球Bにパルス状の負電圧が印加されることによって、各鋼球Bの表面全体にDLC膜が成膜される。 (もっと読む)


【課題】炭素含有量の少ない鋼の表面硬度を高める。
【解決手段】炭素含有量が少ない鋼からなる母材Wの表面に黒鉛粉5を撒き散らし、その表面をプレス機6でプレスして黒鉛粉5を母材Wに貫入させ、母材表面に黒鉛貫入層4を形成する。その後、黒鉛貫入層4が形成された母材Wの表面をレーザ焼き入れ装置で急加熱、急冷して焼き入れする。これにより母材Wの表面に炭素濃度が高い白色マルテンサイトの層1が形成され、表面硬度が高まる。 (もっと読む)


【課題】耐食性に優れた高耐食性部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ステンレス鋼製の基材と、基材の表面の少なくとも一部に被覆された中間層と、中間層の表面の少なくとも一部に被覆された非晶質炭素膜と、を備える高耐食性部材は、少なくとも基材の表面の温度が450℃以下の低温で、中間層および非晶質炭素膜が形成されてなる。
表層部が窒化処理されたステンレス鋼製の基材と、基材の表層部の表面の少なくとも一部に被覆された非晶質炭素膜と、を備える高耐食性部材は、少なくとも基材の表面の温度が450℃以下の低温で、窒化処理および非晶質炭素膜の形成が行われてなる。
上記の高耐食性部材は、製造工程において、ステンレス鋼製の基材の表面が、高温(>450℃)に曝されない。そのため、基材の耐食性は、元のステンレス鋼の耐食性と同等に保たれる。 (もっと読む)


【課題】使用の当初の摩擦係数を低下させることにより、安定した摺動特性を長時間有する硬質炭素被膜を形成する製造方法を提供する。
【解決手段】炭化水素系ガスを用いたプラズマ気相合成法によって、アモルファス状の炭素膜又は水素化炭素膜からなり、その表面にC−Hx結合(x=1,2,3)を有する硬質炭素被膜を形成した基材に、真空中又は所定のガス雰囲気中で、100〜400℃で熱処理することにより、硬質炭素被膜表面のC−Hx結合(x=1,2,3)を減少させる表面処理を行う。 (もっと読む)


【課題】圧力の繰り返し負荷や加熱−冷却サイクルによるたわみや、膨張・収縮などによる変形が発生しても、割れや欠けの生じにくい鋳造用や樹脂成形用の金型を提供する。
【解決手段】被成形材料との接触面、例えばキャビティCを形成する金型部材11,21,22の表面に、ナノカーボン類、すなわちカーボンナノコイル、カーボンナノチューブ及びカーボンナノフィラメントから成る群から選ばれる少なくとも1種を含む炭素膜を被覆する。 (もっと読む)


【課題】使用の当初の摩擦係数を低下させることにより、安定した摺動特性を長時間有する硬質炭素被膜を形成しようとするものである。
【解決手段】炭化水素系ガスを用いたプラズマ気相合成法によって硬質炭素被膜を形成した基材に、ガスプラズマによるボンバード処理によって表面処理を行う。 (もっと読む)


【課題】 宇宙や真空装置内で用いられるような真空中および大気中あるいはそれらの両方で低摩擦で耐久性の高い摺動部材を提供。
【解決手段】 第一の摺動部材のダイヤモンドまたはダイヤモンド膜の表面粗さを算術平均粗さRaで0.5μm以下に研磨し、その摺動の相手材である第二の摺動部材の最表面をNiを4重量%以上、96重量%以下を含有する合金又はめっき、あるいはNiを5重量%以上、65重量%以下、かつCrを15重量%以上、55重量%以下を含む合金又はめっきし、第一及び第二の摺動部材とで真空用摺動部材とする。 (もっと読む)


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