【課題】電極への異物の付着に起因する不具合を抑制したプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】基板の表面に膜を形成するプラズマ処理装置のリアクタは、原料ガスを噴射する噴射体を兼ねる噴射体電極と、基板を支持する支持体を兼ねる支持体電極とをチャンバの内部に収容した構造を有する。リアクタには、支持体電極と噴射体電極との対に直流パルス電圧を印加するパルス電源と、噴射体電極に処理ガスを供給する処理ガス供給回路とが接続される。噴射体電極の内部には、処理ガスの噴射孔が形成された対向面から支持面へ向かう方向（下方向）とは反対の方向（上方向）へ延在する側面に沿う冷媒の流路が形成される。冷媒の流路を形成することに代えて側面に冷却機構を取りつけてもよい。対向面を含まない本体と対向面を含む着脱体とに噴射体電極を分離可能とし、チャンバの外部で着脱体を洗浄してもよい。 （もっと読む）

【課題】超純水のような比抵抗値が高い絶縁流体と接触する状態で使用される場合にも、相手部材との接触摩擦による静電気の発生，蓄積を効果的に防止することができる炭化珪素質摺動部材を提供する。
【解決手段】超純水と接触する状態で使用される炭化珪素質摺動部材Ｐ１において、少なくとも摺動面ＰＡに比抵抗値が１Ω・ｃｍ以下となるようにミラー指数表示における（２２０）面に強配向させた炭化珪素化学蒸着膜ｐａ１をコーティングする。炭化珪素化学蒸着膜ｐａ１は、その比抵抗値を１Ω・ｃｍ以下となるように、ミラー指数表示における（２２０）面に強配向させる。摺動部材Ｐ１の基体ｐｂ１は、密度が３．００ｇ／ｃｍ³ 以上であり且つ炭化珪素純度が８０％以上の炭化珪素焼結体である。炭化珪素学蒸着膜ｐａ１の厚みは１０μｍ〜２ｍｍであり且つ当該膜ｐａ１の炭化珪素純度は９９．９９％以上である。 （もっと読む）

【課題】 非晶質炭素被覆部材において、基材をArイオンでエッチングした後に非晶質炭素膜を基材上に被覆する方法ではエッチング効果が低く、中間層を基材と非晶質炭素膜の間に形成する方法でも、機械部品や、切削工具、金型に対して実用可能な密着性が得られないという問題を有していた。
【解決手段】 基材に負のバイアス電圧を印加することにより、基材表面に周期律表第IIIa、IVa、Va、VIa、IIIb、IVb族元素から選択される１種以上の元素イオン、あるいは、該元素イオンとKr、Xe、CH₄、C₂H₂、C₂H₄、C₆H₆、CF₄から選択される１種以上のガスを少なくとも含む雰囲気ガスによるガスイオンを複数組み合わせて照射した後、基材上に非晶質炭素膜を被覆する。 （もっと読む）

【課題】該非晶質炭素被膜の初期摩擦係数の低減を含む初期馴染み性を向上させることができる摺動部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に、水素を含有した非晶質炭素被膜を成膜する工程と、前記非晶質炭素被膜の表面に紫外線を照射する工程と、を含む。 （もっと読む）

本発明はナノ粒子が最初に製造され、その後前記コーティングプロセスに際に前記コーティング内に導入され、前記コーティングプロセスがＰＶＤ及び／又はＣＶＤ方法で実施される、コーティング方法に関する。摺動部材は、別に製造されるナノ粒子を含むＰＶＤ及び／又はＣＶＤ方法により形成されるコーティングを含む。 （もっと読む）

【課題】装置の大幅な改造をせず汎用的な真空チャンバを用いて、プラズマＣＶＤ法によりダイヤモンドライクカーボン膜の高速成膜を安定して行う方法を提供する。
【解決手段】プラズマＣＶＤ法で基材上にダイヤモンドライクカーボン膜を形成する方法であって、基材に印加する電圧をバイポーラＤＣパルス電圧とすると共に、チャンバ内に供給するガスとしてトルエン含有ガスを用い、かつ、チャンバ内のガスの全圧を４Ｐａ以上７Ｐａ以下にしてダイヤモンドライクカーボン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】低コストで耐摩耗性を確保しつつ摩擦係数の低減を図れ、且つ、洗浄による摩擦係数の増加を防止することが可能な表面処理部材を提供する。
【解決手段】表面処理部材は、基材１と、当該基材１の被処理面１ａ側に形成され表面に凹凸構造を有する硬質被膜３と、硬質被膜３の表面の凹部に埋め込まれた潤滑被膜５とを備えている。硬質被膜３は、プラズマＣＶＤ法により形成され基材１の上記被処理面１ａの法線方向に沿って成長された多数の針状ダイヤモンドライクカーボン３１の集合体からなるダイヤモンドライクカーボン膜により構成され、潤滑被膜５は、プラズマＣＶＤ法により形成されたポリマー状カーボン膜により構成されている。 （もっと読む）

【課題】高速で製糸しても、ロール上を走行する糸条にダメージを与えず、毛羽の発生を抑制することができ、長期間の生産においても毛羽品位が低下しないポリエステルの製造方法を提供する。
【解決手段】直接紡糸延伸によって産業資材用ポリエステルを製造するに際して使用するロールに関して、該ロールの母材１の一部または全面にブラスト処理を施した後、硬質クロムメッキ２を施工し球面上の梨地表面に仕上げたロール表面に、さらに硬質クロムメッキとの密着性に優れた、プラズマベースイオン注入・成膜法により形成されたダイヤモンドライク・カーボン・コーティング膜３を施したものを使用する。 （もっと読む）

【課題】潤滑油を使わない、いわゆる無潤滑摺動のみならず、極圧剤を含まない潤滑油中での摺動においても、従来の硬質炭素膜を凌ぐ優れた摺動特性や高耐久性を有する硬質炭素膜とその形成方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線散乱スペクトルにおいてグラファイト結晶ピークを持つ炭素層を膜内に有する硬質炭素膜。結晶径が１５〜１００ｎｍであるグラファイト結晶が含有され、重量密度ｄ（ｇ／ｃｍ^３）が１．８１≦ｄ＜２．００であり、炭素原子対密度が式１を満足する硬質炭素膜。
（５．０１×ｄ）×１０^２２＜Ｐ＜（９．６０×ｄ−３．９０）×１０^２２・・式１
但し、Ｐ：第１近接近傍における炭素原子対密度（ｐａｉｒｓ／ｃｍ^３）
ｄ：重量密度（ｇ／ｃｍ^３） （もっと読む）

【課題】健全で均一な厚さを有すると共に、表面に微細な凹凸形状を備え、大幅な摩擦低減が可能なＤＬＣ膜と、このようなＤＬＣ膜を備えたＤＬＣコーティング部材、さらにこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】望ましくはＨｖ１００〜８００の硬さを有し、中心線平均粗さＲａが０．０１μｍ未満の平滑面を備えた基材の表面上にＤＬＣ膜をコーティングしたのち、このＤＬＣ膜の表面に、好ましくはセラミックス材料から成る粒径１００μｍ以下の微細粒子を高速投射して衝突させ、その表面に中心線平均粗さＲａが０．０１〜０．２μｍの微細凹凸を形成する。 （もっと読む）

【課題】大幅な低フリクション化を図ることができるのはもちろんのこと、量産化が可能となるとともに、製造コストを低減することができる摺動部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】部材１，２間への高面圧の印加によって、局所的固体接触が摺動界面で起こり、摺動部材の摺動面で微視的摩耗が生じる。摺動部材１の潤滑膜１１には、炭素系分子１２が、単体あるいはその単体の集合体として含有されている。炭素系分子１２が、上記微視的摩耗によって、潤滑膜１１から露出し、その一部がそこから遊離し、摺動界面に供給される。そのような炭素系分子１２は、転動可能な中空構造を有するから、摺動界面で分子レベルのボールベアリングとして作用する。この場合、炭素系分子が少なくとも一つ存在すると、存在しない場合と比較して、局所的フリクションを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】従来に比べ、離型性、耐久性に優れた皮膜を提供すること。離型性、耐久性に優れた型を提供すること。
【解決手段】膜表面１０ａでＦ濃度が最大であり、膜裏面１０ｂでＦ濃度が最小であるＳｉ含有炭素膜１０とする。Ｆ濃度は、膜表面から膜裏面にかけて傾斜していることが好ましい。膜表面は、接着材料および／または粘着材料と接触させて好適に使用することができる。また、型表面にＳｉ含有炭素膜１０が積層された型とする。 （もっと読む）

【課題】工具、金型、摺動部品などに好適に用いられ、環境にも配慮した潤滑油を用いても耐久性を向上させることができる被覆部材を提供する。また、その被覆部材を工具あるいは金型として用いて行う金属材料の加工方法を提供する。
【解決手段】被覆部材１０は、潤滑油基油に、アミノ基、カルボキシル基、水酸基およびカルボン酸エステル基のうちの少なくとも一種が結合した炭素原子を１以上有する炭化水素系添加剤２１を配合してなる潤滑油２０の存在下で使用され、基材１１と、珪素を含み基材１１の表面に形成され相手材と摺接する硬質非晶質炭素膜１２と、を備えることを特徴とする。被覆部材１０が工具または金型であれば、金属材料と、工具または金型と、の摺接面間に炭化水素系添加剤２１を配合してなる潤滑油２０を供給して金属材料の加工を行う。 （もっと読む）

【課題】気体と直接接触する環境下における耐ドレンエロージョン性及び耐ファウリング性に優れた回転機械用の部品を提供する。
【解決手段】金属基材１の表面１ａ上に、耐エロージョン性に優れたＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＣｒＮ、ＴｉＣ、ＴｉＣＮ、ＺｒＮの内の少なくとも１種以上からなる硬質皮膜２と、耐摩耗性に優れたふっ素含有ダイヤモンドライクカーボンからなるファウリング防止皮膜３とが積層されてなる。ファウリング防止皮膜３は、硬質皮膜２側からファウリング防止皮膜３の表面に向かうに従ってふっ素濃度が高くなるように、膜厚方向で濃度勾配が設けられ、表面におけるふっ素濃度が１０〜４０質量％の範囲である傾斜組成膜である。 （もっと読む）

【課題】初期摩耗に要する時間を短くすることができる摺動部材を提供する。
【解決手段】表面にナノレベルの凹凸構造を有するダイヤモンド状炭素皮膜Ｂによって、基材Ａの表面を被覆して摺動材を形成する。ナノレベルの凹凸構造によって、摺動の際の相手材との接触面積を小さくすることができ、面圧を大きくして摩耗を促進させ初期摩耗に要する時間を短くすることができる。 （もっと読む）

断面寸法（たとえば直径）が相対的に小さい被加工物（６０）を、断面寸法が相対的に大きい被加工物（１０）内の中心に置く。これらの被加工物は電気的に接続される（６２）。ある実施例では、これら２つの被加工物の表面を同一のコーティング材料または異なるコーティング材料で同時にコーティングできる。別の実施例では、穴は、ガス分配インジェクタおよびアノードホルダとして機能する内側の金属管の長さに沿って位置する。セラミックライナを内側の金属管の中に設けてもよく、このセラミックライナ内に導電性ワイヤがある。内側の金属管（１０）をカソードとしてバイアスしてもよく、上記内側のワイヤはアノードとしてバイアスされる。ホローカソード効果が、コーティングされている１つまたは複数の表面に隣接するすべての空間に与えられる。いくつかの応用例では、コーティング中の異なる表面が異なる電圧でバイアスされる（２０）。
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ＤＬＣコーティングを有するピストンリングは、基板上の内側から外側に、接着層、非晶質金属性炭化水素層及び非晶質非金属性炭化水素層を有し、最初に、ｓｐ^２結合が非晶質金属炭化水素層内で優勢で、非晶質非金属性炭化水素層はｓｐ^２結合およびｓｐ^３結合を有し、ＤＬＣコーティングに電気抵抗が生じるように金属性炭化水素層内のｓｐ^３結合割合がより高くなるようにし、該抵抗は５０００オームより大きく、特に、５０００キロオームより大きくなる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも潤滑油中で摩擦特性が優れること、または無潤滑および潤滑油中の両方の環境下で摩擦特性が優れた非晶質炭素膜およびその成膜方法を提供する。
【解決手段】原料ガスはトルエンガスおよびＨＭＤＳで、周波数は５０ｋＨｚ以上５００ｋＨｚ以下で、圧力は０．５Ｐａ以上２０Ｐａ以下で、成膜中の温度は１５０〜４００℃の条件のプラズマＣＶＤ法を用いて基材上に形成された炭素と水素または炭素と珪素と水素を含有する非晶質炭素膜であって、組成がＣ_{１−ａ−ｂ}Ｓｉ_ａＨ_ｂで、かつ、０≦ａ≦０．２、０．７５≦ｂ＜０．２５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面粗さが小さく、自己スパッタによる成膜レートの低下が少ない方法で、摩擦係数を低下させ、且つ硬度を上昇させたダイヤモンド状炭素被膜を形成することができるダイヤモンド状炭素被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】炭化水素からダイヤモンド状炭素被膜を合成するにあたって、炭化水素とともに、シリコン及び炭素を含む物質を導入し、イオンプロセス主体での合成を可能にする高電圧を印加するプラズマ化学気相成長法により、炭化水素とシリコン及び炭素を含む物質とからダイヤモンド状炭素被膜を合成する。 （もっと読む）

【課題】プレス金型のコーティング皮膜の耐焼付き性，耐摩耗性を向上し、かつその摩耗を目視で簡便に判定する技術を提供する。
【解決手段】プレス金型の表面に第１コーティング皮膜を形成し、第１コーティング皮膜の上面にその第１コーティング皮膜と異なる色調を有する第２コーティング皮膜を形成し、第２コーティング皮膜が摩耗して第１コーティング皮膜が露出するまでプレス金型を使用する。 （もっと読む）