【課題】剥離耐性等に優れた保護膜を有する耐磨耗性部材を提供する。
【解決手段】支持体上の平坦面に被膜形成部材を保持して該部材の非保持面に保護膜を形成するプラズマCVD法において、前記平坦面による前記被膜形成部材の保持を、前記平坦面表面に形成された粘着層を用いて行うこととする。 （もっと読む）

【課題】密封式油圧ダンパのダイヤフラムゴム膜の放熱性を改良したガスバリヤ構造およびその作製方法を提供する。
【解決手段】密封式油圧ダンパのダイヤフラムを構成するゴム膜１０のガスバリヤ構造であって、上記ゴム膜１０の表面に形成されたアルミニウム薄膜１４と、該アルミニウム薄膜１４上に形成されたフレキシブルＤＬＣ膜１８とを備え、上記アルミニウム薄膜１４と上記フレキシブルＤＬＣ膜１８とが両者間に介在するアルミニウム・シリコン共晶層１６により相互に接合されていることを特徴とするガスバリヤ構造。 （もっと読む）

【課題】生産コストを低くできるプラズマ処理装置及び基材の表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマ処理装置は、チャンバー１と、前記チャンバー内に配置され、基材２を保持する基材ホルダー３と、前記チャンバー１に繋げられ、前記チャンバー内に処理ガスを導入するガス導入経路と、前記チャンバー内に５０〜５００ｋＨｚの高周波出力を供給する高周波電源４と、を具備し、前記高周波電源４から供給された高周波出力により前記チャンバー内に前記処理ガスのプラズマを発生させて前記基材２にプラズマ処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材の表面に、珪素を含有したダイヤモンドライクカーボン膜を形成するに際して、耐摩耗性等の摺動特性はもとより、耐食性をも好適に確保することができる摺動部材の表面処理方法、摺動部材、メカニカルキー及び携帯機を提供する。
【解決手段】摺動部材１０の表面には、次工程で積層されるＤＬＣ−Ｓｉ膜１３との密着性を確保するための窒化層１２ａを形成し、その後、当該窒化層１２ａの表面にＤＬＣ−Ｓｉ膜１３をプラズマＣＶＤにより形成するようにした。そして、そのときの処理温度を３５０℃〜４３０℃とした。このため、耐食性を確保する上で障害となる化合物であるクロム、窒素及び炭素の複合化合物の形成が抑制される。この複合化合物が形成されることにより、耐食性が著しく低下することが一般に知られている。したがって、低摩擦性及び耐摩耗性等の摺動特性はもとより、耐食性をも好適に確保することができる。 （もっと読む）

【課題】比較的低温度によりダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜を形成することで、基材強度の低下を抑制することができ、更に、基材へのＤＬＣ皮膜の成膜法を工夫することにより、疲労強度を高め、かつ皮膜密着性、摩擦摩耗特性を良好にする。
【解決手段】アルミニウム、マグネシウム又はチタンの各合金等から成る基材１の表面に中間層２と、中間層２の表面に積層３を成膜形成したＤＬＣ積層皮膜部材であって、積層３は、ＤＬＣ皮膜４と、金属を含有した金属含有ＤＬＣ皮膜５とを交互に重ねた構造にする。 （もっと読む）

既にコーティングされていてもよい金属表面に、多層耐摩耗性コーティングを適用する方法において、該コーティングは少なくとも２つの耐摩耗性層（５）及び各対の耐摩耗性層（５）の間に配置されている中間層（１０）を含む。該中間層（１０）は、耐摩耗性層（５）の材料及び追加材料を含有する材料組成物を含み、しかも該中間層（１０）の第１遷移領域（ａ）上で耐摩耗性層（５）の材料の減少していく含有量で、そして第２遷移領域（ｂ）上で耐摩耗性層（５）の材料の増大していく含有量で適用され、中間層（１０）においての耐摩耗性層（５）の材料の含有量はあらゆる点で少なくとも５重量％であるように選ばれる。
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本発明は、金属基板への気相における化学的蒸着による、炭化クロム、チッ化クロム、または炭チッ化クロムあるいは化学的特性がクロムの化学的特性に近い金属元素を基材とする非酸化物セラミックタイプの被覆の蒸着方法であって、主として、ａ） ビス（アレン）群に属し分解温度が３００℃から５５０℃の間に含まれる、蒸着すべき金属の前駆分子化合物であって酸素原子のない溶媒に溶解された化合物を含む溶液を用意するステップと、ｂ） エアロゾルの形態の前記前駆体溶液を、溶媒の沸騰温度と前駆体の分解温度との間に含まれる温度に熱せられた蒸発装置（３）内に投入するステップと、ｃ）蒸発装置（３）およびＣＶＤ反応装置（１０）に大気圧がかかっている状態で、蒸発装置（３）の中性ガス束により、前駆体および気化エアロゾルを、被覆すべき基板を支持し前駆体の分解温度より高い温度であって最高でも５５０℃までの温度に熱せされたサセプタ（１３）を備える冷壁ＣＶＤ反応装置（１０）側に移動させるステップとを含むことを特徴とする方法を対象とする。 （もっと読む）

【課題】焼入れ及び焼戻しを含む鉄含有金属材料の表面改質方法において、炭素質被膜を強固に且つ効率よく密着させる。
【解決手段】鉄含有金属材料に、焼入れ工程前に、焼入れ温度±２００℃の範囲において、炭化水素含有ガスを用いる化学蒸着法により炭素質被膜を形成し、その後に焼入れ・焼戻しを施し、必要により、焼戻し前、中、又は後に、（焼戻し温度−３００℃）〜（焼戻し温度＋１００℃）の範囲において、炭化水素含有ガスを用いる化学蒸着法によりさらに第２段の炭素質被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ廉価なプロセスで設けられる中間層により、基材との密着性に優れると共に耐剥離性、耐摩耗性および低摩擦性に優れた炭素膜を工業的に有利に製造できる方法を提供する。
【解決手段】金属基材側ほど金属成分濃度が高く、炭素膜側ほど非金属成分濃度が高くなるような濃度勾配を有する中間層を介して、金属基材上に設けられた炭素膜の製造方法において、該中間層を物理的気相成長法と化学的気相成長法との組み合わせにより調製する。 （もっと読む）

【課題】低摩擦特性を持ち耐摩耗性や耐剥離性に優れる硬質膜の被覆方法とこのような硬質膜の被覆部材を提供する。
【解決手段】基材１の表面に粗面化処理を行い、該粗面にＤＬＣ膜２のコーティングを施し、該ＤＬＣ膜２を研磨する。基材１の表面を粗くすることで、ＤＬＣ膜２と基材１との接触面積が増大して耐剥離性が増し、更にＤＬＣ膜２を研磨することで、低摩擦特性を持つ硬質膜が得られる。また、基材１の表面にダイヤモンド膜をコーティングした後、該ダイヤモンド膜の表面を研磨してからダイヤモンド膜の表面にＤＬＣ膜２をコーティングし、該ＤＬＣ膜２の表面を研磨しても、高強度で耐剥離性と低摩擦特性を持つ硬質膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】例えばカムに代表される内燃機関に用いられる部品の耐磨耗特性を向上させる。
【解決手段】表面保護膜としてDCL薄膜を含んだ膜を用い、該DLC薄膜を部品の表面側に形成される第一DLC層と、該第一のDLC層の表面上に形成されて前記他の部品との当接面を構成する第二のDLC層からなるものとし、第一のDLC層の厚さが前記第二のDLC層の厚さよりも厚いこととする。 （もっと読む）

オーブン、炉等（CVI/CVDオーブン等）へ、更に具体的には、オーブン内側の反応室（１６）へ、ガスを供給するためのパイプ（１２）であって、パイプの外側で半径方向に伸長しかつパイプに沿った実質的気密な通路を形成する気密管状封止装置を有する。前記管状封止装置は、好適には、軸方向かつ／または横切る方向において少なくとも一部が可撓性であって、反応室内の場所とオーブンへガス供給パイプが侵入する場所間の位置決めの欠陥（例えば非対称の熱膨張／収縮による欠陥）に対応する。 （もっと読む）

【課題】 表面保護膜として各種用途に有用な表面エネルギーが低く、離型性、摺動性に優れ、かつ硬度の高いダイヤモンドライクカーボン薄膜を大面積に均一な膜厚で効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 フッ素化炭化水素化合物を含むガスを、イオン化電流によりプラズマ化し、それにより生じた各イオンを、被成膜部材上に吸引衝突、付着させて、フッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜を形成させることを特徴とするフッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、一つの反復単位が、炭素、ケイ素および水素を主成分とする２〜１００層（Ａ、Ｂ）からなる１〜１０００の反復単位と、任意に機能性表面層（ＦＳＬ）を含む、低摩耗率かつ低摩擦係数の耐食性薄膜多層構造体に係わる。本発明は、そのような薄膜多層構造体を含む構成要素、およびそのような薄膜多層構造体を堆積する方法にも係わる。
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【課題】 不安定な陽極グローの発生によって、真空槽内の構成要素が損傷したり、被膜の品質が不安定になったりするのを、防止する。
【解決手段】 この発明に係るプラズマＣＶＤ装置１０によれば、真空槽１０内に適宜のガスが導入された状態で、被処理物であるパイプ２０，２０，…に接地電位を基準とする非対称パルス電力Ｗｐが供給されると、真空槽１０内にプラズマが発生する。このとき、接地電位に接続された真空槽１０が陽極として作用するため、当該真空槽１０内に陽極グローが発生する。ただし、真空槽１０内には、当該真空槽１０よりも高電位とされた高融点金属製の補助アノード４０が設けられているので、陽極グローはこの補助アノード４０に集中する。つまり、陽極グローの発生位置が、補助アノード４０に固定される。これによって、陽極グローが安定化され、当該陽極グローによる影響が排除される。 （もっと読む）

【課題】シリンダ内周面との摺動において初期に焼付の発生がなく、長時間にわたってシリンダ内周面との間で低フリクションを実現できるピストンリングを提供する。
【解決手段】ピストンリング１は外周摺動面にダイヤモンドライクカーボン皮膜２を有し、更にその皮膜上にＳｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｗ及びＢの群から選ばれた１種又は２種以上の元素の窒化物からなる皮膜３を有する。窒化物皮膜３は窒化物形成元素単体を含む場合や酸素又は炭素が固溶されている場合もある。ダイヤモンドライクカーボン皮膜２と窒化物皮膜３との間に、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｗ、Ｂ及びＮｂの群から選ばれた元素からなる単体皮膜を形成することもある。 （もっと読む）

【課題】耐アルミ凝着性や耐スカッフ性、耐摩耗性を向上することができ、その効果が長期にわたり保持することが可能なピストンリングを提供する。
【解決手段】Ｓｉ，Ｃｒ，Ｔｉの群から選ばれた１種又は２種以上の元素を０.５原子％以上５.０原子％未満含有し、且つ、前記硬質炭素皮膜中に分散された前記元素の金属又はその炭化物の最大粒径が１０ｎｍ以下の硬質炭素皮膜をピストンリング上下側面の少なくとも一方の側面に形成することで、優れた耐アルミ凝着性を備え、さらに硬質炭素皮膜の機械的強度が向上して耐摩耗性やカケ等の皮膜欠陥の発生を防止し、摺動中に欠落した粒子によるアルミ合金製ピストン溝のアブレッシブ摩耗を防止し、長期間にわたり耐アルミ凝着性を維持する。 （もっと読む）

【課題】コストと複雑性を最小限に押さえた上で急速に且つ均一に多孔質構造物を緻密化するＣＶＩ／ＣＶＤ法およびその方法を実行するための装置を提案する。
【解決手段】多孔質構造物２２の第１部分が多孔質構造物の第２部分よりも大きな圧力に掛けられ、さらにその第１部分が第２部分よりも大きな嵩密度増量を有する圧力勾配ＣＶＩ／ＣＶＤ法を用いて、多孔質構造物の内部に第１マトリックスを析出させることによってＣＶＩ／ＣＶＤ加熱炉の内部において多孔質構造物を部分的に緻密化すること、そして、その第２部分が第１部分よりも大きな嵩密度増量を有する少なくとも１つの付加的緻密化工程を用いることによって、多孔質構造物の内部に第２マトリックスを析出することによって多孔質構造物を引き続いて緻密化する、という工程を有するＣＶＩ／ＣＶＤ法。 （もっと読む）

【課題】 水分の存在下でも劣化しない高温酸化耐性を示すＢＮ／Ｓｉ₃Ｎ₄多層コーティングの形成方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 炭化ケイ素繊維が織り込まれた織物の複数の層から形成されたプリフォームなどの基材１７が反応室１５内に配置され、窒素雰囲気中で加熱される。窒素はチューブ１０２を経て反応室１５に入り、続いてハロゲン化ホウ素前駆体が通流される。その後ハロゲン化ホウ素前駆体の流れが停止され、アンモニアおよび窒素がチューブ１０２，１０６を経て供給される。所定の時間が経過した後、ハロゲン化ケイ素前駆体が反応室１５へと通流されて基材１７上に所望の厚さのＢＮ／Ｓｉ₃Ｎ₄コーティングが形成される。この工程を複数回繰り返すことにより、基材１７上に改良された機械的特性や化学的特性をもつＢＮ／Ｓｉ₃Ｎ₄の多層コーティングが形成される。 （もっと読む）

【課題】高面圧に耐えると共に、耐摩耗性に優れ、摩擦係数が小さく、優れた摺動特性を長期に亘って発揮することができる摺動部材を安価に提供する。
【解決手段】摺動部材を構成する基材表面における少なくとも相手部材との摺接面に、望ましくは窒化層、浸硫層を介して、カーボンナノコイル、カーボンナノチューブ及びカーボンナノフィラメントから成る群から選ばれる少なくとも１種のナノカーボン類を含む炭素膜を被覆する。 （もっと読む）