【課題】本発明は、特別な高温を必要とせず、かつ成膜速度の速い経済的な製造方法により、磁気特性に優れた表面処理金属材を提供する。
【解決手段】鉄鋼材料の少なくとも一部の表面に、けい素含有層を有し、その含有層中のけい素量が厚み方向に変化することを特徴とする表面処理鋼材であって、前記けい素含有層中のけい素含有量が最大3.5%超10%以下であることを特徴とする磁気特性に優れた表面処理鋼材である。 （もっと読む）

自己修復が可能な遮熱コーティング（ＴＢＣ）システム（４５０）は、基材（４２０）、基材の上に重ねられた金属ベースの改良ボンドコート（４３５）及びボンドコートの上に重ねられたセラミックトップコート（４４０）を有する。ボンドコート（４３５）は、熱調整酸化環境に曝露されたときに非アルミナセラミック酸化物組成物を形成することができるセラミック酸化物前駆材料を含有してなる。このようなボンドコート（４３５）の実施態様は、１〜２０重量パーセントの範囲の希土類元素と、約５〜３０重量パーセントの範囲のＨｆ又は約２〜２０重量パーセントの範囲のＺｒとを、含有してなる。このようなボンドコート（４３５）又はその改良ボンドコート化学製品を従来のボンドコート（４３３、４３７）又は従来のボンドコート化学製品と併せて使用して、自己修復ＴＢＣシステムの例（４００、４０２、４０４）が提供される。 （もっと読む）

【課題】金属間化合物を分散させたコンデンサ用電極シートにおいて、金属間化合物に対する結着力が強く、エッチング処理における電気量を増大させても金属間化合物を失うことなく確実に表面積を拡大させる。
【解決手段】芯材(3)の少なくとも片面に、ＡｌにＺｒおよびＳｉが固溶された固溶体相(8)中にＺｒとＡｌとからなる金属間化合物(7)が分散してなる合金層(4)が積層一体化されたコンデンサ用電極シート(1)であって、前記合金層(4)中のＡｌとＺｒの原子数比がＡｌ：Ｚｒ＝１：０．０５〜１：０．１５であり、前記合金(4)層中のＳｉ濃度（Ｃ_ｓｉ）が、ＡｌとＺｒの合計に対するＡｌの割合をＤ_Ａｌ質量％としたときに、Ｃ_ｓｉ（質量％）＝｛（Ｄ_Ａｌ−４７）／５３｝×Ｋ（Ｋ＝４〜１７）の範囲となされている。 （もっと読む）

【課題】希土類窒化物は、イットリア以上の耐蝕性を持つ半導体製造装置用部材を作製できると期待されるが、希土類窒化物単体では酸化しやすい性質であり、例えば大気中では希土類酸化物に変化してしまう問題があった。
【解決手段】希土類窒化物からなるプラズマ耐蝕性材料であって、金属元素としてＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎの中から少なくとも１種類の元素を金属元素の割合として０．１〜２０原子％含有することを特徴とするプラズマ耐蝕性材料は、プラズマに対する耐性が高く、このようなプラズマ耐蝕性材料は、希土類窒化物粉末に金属を混合した粉末を使用して溶射膜を形成することで製造することが出来る。 （もっと読む）

プラスチックガラスを修復する方法並びにプラスチックから過剰の又は不要のプラスチックを取り除いたことによって生じたエッジにプラズマ付着装置を用いてプラズマコーティングを局所的に適用するための方法が記載されている。
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【解決手段】希土類元素酸化物の溶射被膜表面を波長９μｍ以上のレーザーで溶融緻密化することを特徴とする溶射被膜の表面処理方法。
【効果】本発明によれば、希土類酸化物溶射被膜の表面をクラックを発生することなく、簡便な工程にて、緻密かつ平滑にすることができ、産業上の利用価値は極めて高い。 （もっと読む）

【課題】内部チャンバ構成材と基板の張り出し縁部上への処理堆積物の堆積を軽減させる処理キットを提供する。
【解決手段】処理キット２００は処理チャンバ内において基板支持体の周囲に位置されるシールド２０１とリングアセンブリ２０２を備え、シールド２０１はスパッタリングターゲットを取り囲む上壁部と、基板支持体、支持出っ張り部、傾斜段差部、ガスコンダクタンス穴部を有するＵ型チャネルを取り囲む底壁部とを有する円筒状バンド２１４を備える。リングアセンブリ１２０は堆積リング２０８とカバーリング２１２を備え、カバーリングはバルブ型突起部をリングの周縁に有する。 （もっと読む）

【課題】２ストローク大型ディーゼルエンジンのピストンのピストンリング溝をコーティングする改良された溶射方法、およびそれによって改良されたピストンを提供すること。
【解決手段】本発明による２ストローク大型ディーゼルエンジンのピストン１のピストンリング溝２をコーティングする溶射方法は、ピストンリング溝２内にピストンリング３を受け入れ且つ案内するために、ピストンリング溝２が、燃焼空間に近い第１側部表面２１と、燃焼空間から遠い第２側部表面２２と、ピストン・ジャケット１００内の周方向に延びる後部表面２３とによって境界付けられており、少なくともピストンリング溝２の第１側部表面２１および／または第２側部表面２２が、ワイヤー溶射プロセスによる溶射層４を備えることを特徴とする。本発明はさらに、溶射ワイヤー５の使用、および本発明による方法に従ってコーティングされたピストン１にも関する。 （もっと読む）

【課題】
処理中の異常放電の発生を抑制して試料の異物あるいは汚染を低減できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
半導体デバイスの作成に、ハロゲン系のガスによるプラズマプロセスを用いたプラズマ処理装置において、処理室内の壁等のプラズマが接触する壁の表面に溶射膜を付け、この溶射膜の材料に導体を混入することにより、溶射膜を導体としたことを特徴とするプラズマエッチング装置。 （もっと読む）

【課題】粒径が小さく高表面積であり、かつ均一で付着性の良好な触媒の皮膜を有する基板を提供する。
【解決手段】金属水酸化物、炭酸塩、または硝酸塩などの組成物の、１０マクロメートルより大である大きな粒子を直接基板上に溶射し、それにより５マイクロメートルより小、より具体的には３μmより小の小さな粒子皮膜を基板上に形成することにより基板の表面を処理して得られた金属酸化物表面を有する基板。 （もっと読む）

【課題】ハースロール用途により適した溶射皮膜を形成可能な溶射用粉末を提供すること、並びにその溶射用粉末から得られる溶射皮膜及びその溶射皮膜を備えるハースロールを提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は３０〜５０質量％のクロム炭化物を含有し、残部がコバルト及びニッケルの少なくともいずれか一種、クロム、アルミニウム及びイットリウムを含む合金からなり、溶射用粉末の平均粒子径は２０〜６０μｍである。 （もっと読む）

【課題】アーク溶射時におけるボア面の未溶射部位への溶射ヒュームの付着を効果的に防止することのできる溶射装置を提供する。
【解決手段】シリンダボア内を移動する溶射ガン６を具備する溶射装置１０であり、溶射ガン６は、その一端において移動方向に直交する方向に臨む第１の吐出口（アトマイズノズル６２）を有し、該ノズル６２に直交する方向に臨む第２の吐出口（補助ノズル６３）を有し、該ノズル６２よりも溶射ガン６の移動方向側にある所定部位にノズル６２と同方向に臨む流体吐出用の第３の吐出口（ヒューム付着防止ノズル６５）を有しており、溶射ガン６の先端でアーク溶射用線材が溶融されてなる溶滴を補助エアＡ１にて引き伸ばし、該溶滴にアトマイズエアＡ２を吹き付けることによって溶射粒子を形成してボア面に噴射するとともに、溶射粒子の噴射に同期してシリンダボア面へヒューム付着防止エアＡ３を噴射する。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性と被削性の双方に優れたアーク溶射被膜およびその形成方法と、かかる被膜形成に使用されるアーク溶射用線材、該アーク溶射被膜がそのボア内面に形成されたシリンダブロックを提供する。
【解決手段】アーク溶射被膜は、主成分であるＦｅと、０．０１〜０．１５重量％のＣと、少なくとも０．１２重量％のＮと、を含有するものであり、アーク溶射用線材（ワイヤ）は、主成分であるＦｅと、０．０１〜０．２重量％のＣと、０．２５〜１．７重量％のＳｉと、を含有するものであり、他の実施の形態としては、少なくとも１１重量％のＣｒをさらに含有するものである。 （もっと読む）

【課題】被削性に優れ、かつ、ホーニング加工後の形状精度の高い溶射被膜を形成することのできる溶射被膜の加工方法を提供する。
【解決手段】ボアＣ１面に形成された溶射被膜Ｗ３を加工する溶射被膜の加工方法であり、この加工方法は、乾式加工であり、かつ、ＣＢＮ（立法晶窒化ホウ素）を６０〜８０重量％含有する切削チップを備えた切削工具を使用する場合は該切削工具を４００〜８００ｍ／分の回転速度で回転させ、ＣＢＮ（立法晶窒化ホウ素）を８０〜９０重量％含有する切削チップを備えた切削工具を使用する場合は該切削工具を４００〜９００ｍ／分の回転速度で回転させ、ボア内を所定の送り量で移動させながら溶射被膜Ｗ３の加工予定量の一部をボーリング加工する第１の工程と、砥石を備えた研削工具を使用し、溶射被膜Ｗ３の加工予定量の残部をホーニング加工する第２の工程と、からなる。 （もっと読む）

【課題】表層におけるニッケルの濃度分布のばらつきを低減して、銅を含有する鋼鋳片の表層を確実に改質し、熱間加工時のわれの発生を防止できる鋼鋳片の表層改質方法、改質鋳片及び加工製品を提供する。
【解決手段】銅を含有する鋼鋳片１の表層をプラズマジェット４により加熱溶融させ、その溶融プール８に、ニッケル又はニッケル合金からなるワイヤー６を供給して鋼鋳片１の表層を改質する際に、鋼鋳片１の溶融処理速度Ｖｔ、プラズマ加熱により形成される溶融プール８の長さＬｐに対し、ワイヤー６から供給される溶滴がＬｐ／Ｖｔ間隔となる供給速度をＶｗ_０、処理長さ２０ｍｍあたりに溶滴が１個落下する供給速度をＶｗ_２、溶滴が連続的に溶融プール８に添加される供給速度をＶｗ_１としたとき、供給速度Ｖｗを、Ｖｗ_０＜Ｖｗ_２の場合はＶｗ_２＜Ｖｗ＜１．２×Ｖｗ_１とし、Ｖｗ_０≧Ｖｗ_２の場合はＶｗ_０＜Ｖｗ＜１．２×Ｖｗ_１とする。 （もっと読む）

【課題】ポンプケーシングとインペラ入口の間にかじりが発生することなく、製作が容易で且つ安価にできるシール部を備えた遠心式ポンプを提供すること。
【解決手段】ポンプケーシング１０とインペラ１３を備え、該ポンプケーシング１０と該インペラ入口１３ａとの間にシール部１７を具備する遠心式ポンプにおいて、 前記シール部１７のインペラリング３１又はケーシングリング３２のいずれかの対向面に相手面材質より軟質のＣｒ，Ｍｏを含む高耐食Ｎｉ合金を肉盛し、相対面との高度差をＨＢ（ブリネル硬さ）を５０以上とした。これによりシール部にかじりが発生することない、シール特性の優れたシール部を有する遠心式ポンプが実現できる。 （もっと読む）

【課題】 金属基質に触媒材料の被膜を取り付ける方法の提供。
【解決手段】 Ｒａが３またはそれ以上の表面粗さを有するアンダーコートが達成されるように、耐火性酸化物の粒子を該基質に熱噴霧で直接付着させることを伴う。次に、このアンダーコートを取り付けた基質に触媒材料を取り付けるが、この取り付けは如何なる通常様式で行われてもよい。特別な態様では、主にアルミナを含有するアンダーコートを取り付けるに先立って、上記金属基質をグリット−ブラスティングで処理する。この被覆基質は、排気ガス処理用触媒部材の組み立てで使用可能である。 （もっと読む）

【課題】気孔（間隙）に対する浸透性および充填性に優れ、溶射被膜材の間隙が実質的に全て充填されている状態まで封孔処理を施すことができる封孔処理剤および溶射被膜被覆部材を提供する。
【解決手段】エポキシ基含有成分と、該エポキシ基含有成分の硬化剤と、水酸基含有ビニルエーテル化合物とを含み、上記水酸基含有ビニルエーテル化合物以外の重合性ビニル基含有溶剤を含まない、溶射被膜の封孔処理剤であって、上記水酸基含有ビニルエーテル化合物は、上記エポキシ基含有成分全体に対して、 10〜30 重量％配合されている。 （もっと読む）

本システムは光学素子、溶射されて光学素子の上に配置された材料、および光学素子に結合された太陽電池を含んでいる。いくつかの態様は、光学素子の上に第１の材料を熱溶射して、光学素子に太陽電池を結合するステップを提供する。第１の材料の熱溶射は、光学素子の上に溶融金属粉を溶射するステップを含んでいる。
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【課題】アルミニウムから成る表面を有し、軽量且つ安価で、しかも複雑な形状をなす部品においても容易に金属調の外観と触感を付与することができ、耐傷付き性にも優れた樹脂部品と、このような樹脂部品の製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂基材１の上に、例えば溶射、望ましくは、１００〜１５０℃の低温溶射によって、純アルミニウム材を用いて、アルミニウム層２を形成し、得られたアルミニウム層の表面に、好ましくはバフ研磨した後、陽極酸化処理を施し、陽極酸化皮膜層３を形成する。 （もっと読む）