説明

Fターム[4K031AB02]の内容

溶射又は鋳込みによる被覆 (8,522) | 溶射被膜 (1,526) | 層の数 (730) | 単一層 (414)

Fターム[4K031AB02]に分類される特許

121 - 140 / 414


【課題】アブレイダブル皮膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】皮膜を形成する本方法は、第1の皮膜層を基材の表面上に堆積させるステップを含み、皮膜は、セラミック又は金属、滑剤及び散逸性材料を含む。散逸性材料の少なくとも一部分は、局所熱源で第1の皮膜層を加熱することによって分解される、変質される又は揮発される。 (もっと読む)


本発明は、燃焼機関(10)のシリンダーヘッド(12)内部に配置されるシリンダー(14)の少なくとも1つの排気口(20)をコーティングする方法であって、該排気口(20)が、該シリンダー(14)と排気装置(40)とを接続する。少なくとも1つの排気口(20)を画定する前記リンダーヘッド(12)の1つ以上の表面部分(22a、22b、22c)は、前記シリンダー側及び前記排気装置側の両方から材料を噴霧することにより、少なくとも部分的にコーティングされる。本発明は、前記方法を実施する装置にも言及している。 (もっと読む)


【課題】プラズマ環境での使用により発生するパーティクルを低減する耐食性部材を提供する。
【解決手段】耐食性部材は、基材と、基材上に形成された純度99.9%以上の酸化ガドリニウム皮膜と、を備える。酸化イットリウム(Y)より高耐プラズマ材料の酸化ガドリニウム(Gd)で形成された皮膜を備えていることで、プラズマ環境で使用されても、パーティクルの発生を抑制することができ、長期間の使用が可能となる。また、純度99.9%以上の酸化ガドリニウム皮膜により基材が被覆されているため、プラズマ環境で使用されたときに発生するパーティクルがさらに低減される。 (もっと読む)


【課題】 ハロゲン系腐食ガスおよびハロゲン系ガスプラズマでの使用により発生するパーティクルを低減する耐食性部材を提供する。
【解決手段】 半導体製造装置内、フラットパネルディスプレイ製造装置内または太陽電池製造装置内の様なハロゲン系腐食ガスまたはハロゲン系ガスプラズマ等に曝される面が、ゾルゲル法によって形成された酸化ガドリニウムゾルゲル膜と、酸化ガドリニウムゾルゲル膜上に溶射法によって形成された溶射皮膜で形成された耐食性部材とする。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン系腐食ガスおよびハロゲン系ガスプラズマでの使用により発生するパーティクルを低減する耐食性部材を提供すること
【解決手段】半導体製造装置内、フラットパネルディスプレイ製造装置内または太陽電池製造装置内の様なハロゲン系腐食ガスまたはハロゲン系ガスプラズマ等に曝される面が、溶射法によって形成された溶射皮膜と、溶射皮膜上にゾルゲル法によって形成された酸化ガドリニウムゾルゲル膜で形成された耐食性部材とする。 (もっと読む)


【課題】新たな問題を引き起こすことなく、ショットブラスト処理、溶射処理に際して用いられるマスキング部材の設置、取り外しの煩雑さを改善できる溶射被膜形成方法を提供する。
【解決手段】サイドハウジングWに溶射を行うに際して、ショットブラスト用マスキング部材2上に溶射用マスキング部材3を設置することとして、溶射工程前に、ショットブラスト用マスキング部材2独自の取り外し作業を不要とする。その一方、溶射処理に伴って付与される溶射熱に関しては、ショットブラスト用マスキング部材2と溶射用マスキング部材3との間に断熱材21を介在させて、その断熱材21により溶射熱がショットブラスト用マスキング部材2に移動することを抑え、ショットブラスト用マスキング部材2が溶射熱により劣化することを抑制する。 (もっと読む)


【課題】付着性が良好で、かつ優れた皮膜特性(耐食性・耐摩耗性・密着性)が得られる溶射用粉末の製造方法、およびこの溶射粉末を成膜することで耐食・耐摩耗性を付与したボイラ用部材を提供すること。
【解決手段】単一の相からなる一次粉末を適当な温度域で加熱することによって得られる複合溶射粉末の製造方法および、この粉末を溶射して得られるボイラ用耐食・耐摩耗部材であり、前記溶射粉末の原料は、Feをベースに重量比で18%から22%までのSiを含み、粒子が主としてFe2Si化合物のみによって構成されていることが望ましい。この粉末粒子の内部にFe−Si系化合物であるFe3Si化合物、FeSi化合物、Fe5Si3化合物およびFe2Si化合物の少なくとも一以上が微細に析出した組織を設けた溶射用粉末とその作製方法である。 (もっと読む)


【課題】生体内のような暗所においても十分な抗菌性を発揮することの可能な酸化チタンを用いた抗菌製品及びその製造方法並びに生体インプラントを提供すること。
【解決手段】本発明の抗菌製品は、金属、セラミックス又はプラスチックからなる基体上の少なくとも一部に、ブルッカイト型酸化チタンを主成分とする粉末を高速フレーム溶射してなる溶射被膜を有する。また、本発明の抗菌製品の製造方法は、金属、セラミックス又はプラスチックからなる基体上の少なくとも一部に、ブルッカイト型酸化チタンを主成分とする粉末を高速フレーム溶射する。また、本発明の生体インプラントは、金属、セラミックス又はプラスチックからなる基体上の少なくとも一部に、ブルッカイト型酸化チタンを主成分とする粉末を高速フレーム溶射してなる溶射被膜を有する。 (もっと読む)


【課題】
付加工程の負担を低減した耐磨耗性内周面を有する部材の製造方法を提供する。
【解決手段】
耐磨耗性内周面を有する部材の製造方法は、円柱状外周面を有する犠牲部材の外周面上に耐磨耗性硬化層を形成し、耐磨耗性硬化層の外径に対応する内径の円筒状基材の内径部に耐磨耗性硬化層を形成した犠牲部材を嵌め込んで、複合部材を形成し、複合部材を加熱し、耐磨耗性硬化層中に少なくとも部分的液相を生じさせ、基材の内径部と耐磨耗性硬化層の間で構成元素の拡散を生じさせ、犠牲部材を除去する。 (もっと読む)


【課題】半導体等のプラズマ処理装置や成膜装置に用いられる真空装置用の部品では、その使用中に部品自体の剥離、部品表面に付着する膜状物質の剥離が発生し、部品の短寿命化及び頻繁な部品交換による生産性の低下という問題があった。
【解決手段】 実質的にTiおよびTiの窒化物(TiN)から構成される溶射膜を形成した真空装置用部品であって、該溶射膜のTi(101)とTiN(112)(X=0.61)のX線回折強度の比(I=ITiN/ITi)が0.05〜0.3の範囲にあることを特徴とする真空装置用部品においては、堆積する膜状物質の付着性が従来よりも更に優れ膜状物質の付着性が高く、しかも異常粒成長による粒子の脱落がないため、長時間の連続使用が可能である。 (もっと読む)


本発明は、Ti、Co、Cr、Zr又はBeから成る群から選択される少なくとも1つの添加物を含む銅系合金から形成された運転面コーティングを特徴とする、少なくとも1つの運転面を含む、燃焼エンジンのための滑り部品に関する。 (もっと読む)


【課題】ラジアルラインスロットアンテナを用いたマイクロ波の伝送路を適正化し、異常放電の発生を抑止する。
【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置10は、マイクロ波を、矩形導波管305、同軸変換機310、内部導体315、外部導体340、テーパーコネクタ320、ラジアルラインスロットアンテナ205により画定される空間を使って伝送させる。アンテナ内では、溶射により金属膜205bが被覆された遅波板205aの内部をマイクロ波が伝搬する際に金属膜205bの界面にマイクロ波の電流が流れる。矩形導波管305と同軸変換機310とのギャップGは、嵌め合い構造Fにより所定の基準間隔kmm(k≧0.3)に対して(k±n)mm(n≦0.1)の範囲内の間隔となるように管理される。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、被膜硬度を緩和する被膜構造とその製造方法並びにそれに用いる飛翔粒子を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明1のコーティング部材は、無機繊維が無配向状態で相互に交差してなるコンポジット組織が被膜中に存在することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ハロゲンガスに対する耐食性に優れ、かつ体積抵抗率が制御された半導体製造装置等の部材として好適なセラミックス溶射膜を提供する。
【解決手段】主成分がMgOとAlから成るスピネル質のセラミックス溶射膜であって、MgOとAlの質量比(MgO/Al)が0.25〜1.5であり、体積抵抗率が1×10〜1×1014Ωcm、スピネル結晶の格子定数がa=8.084Å以上であることを特徴とするセラミックス溶射膜。 (もっと読む)


【課題】
表面に硼素化合物が微細に析出した表面層を備えた部材、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】
表面層を備えた部材の製造方法は、NiまたはCoにBを溶かして、NiまたはCo、Bの融点より低い低融点2元合金素材を形成し、低融点2元合金素材をアトマイズ法で2元合金粉末にし、2元合金粉末に、硼素化合物を形成できる高融点元素の粉末を混合し、混合粉末を形成し、対象とする基礎部材表面に混合粉末を溶射し、溶射層を形成し、低融点2元合金素材の融点以上の温度に溶射層を加熱し、硼素化合物を生成、析出させた表面層とする。 (もっと読む)


【課題】鋼構造物のミルコーティングが不可能な複雑部位の防食を安価にかつ十分に実施する方法を提供する。
【解決手段】鋼構造物に2種ケレン相当以上の清浄度となる下地処理を施した後に、純度99.5mass%以上のAl、または1〜5mass%のMgを含有するAl合金、もしくは、1〜1.5mass%のMnを含有するAl合金のうち、いずれかを用いて、大気プラズマ溶射により、100μm以上の膜厚になるように被覆し、次いで、金属アルコキシドを主成分とする封孔処理を施すことを特徴とする鋼構造物の防食方法。 (もっと読む)


【課題】優れたバリア性能を有するEBC膜を形成することができるアルミナ薄膜形成用材料、及びこの材料を用いてなる環境バリアコーティング膜を備える耐熱部材、並びにバリア性能の簡便な評価方法及びそれに用いる簡易な構造の評価装置を提供する。
【解決手段】本発明のアルミナ薄膜形成用材料は、アルミナ粉末と、希土類化合物粉末とを含有し、環境バリアコーティング膜の形成に用いられる。また、本発明の耐熱部材は、耐熱基材と、その表面に、本発明のアルミナ薄膜形成用材料を用いて設けられた環境バリアコーティング膜と、を備える。更に、本発明のバリア性能評価方法及びバリア性能評価装置は、本発明のアルミナ基焼結材料を用いてなるEBC膜のバリア性能を、容易に、且つ効率よく、評価することができる方法及び装置である。 (もっと読む)


【課題】製造コストの上昇を抑制しつつ、摺動面が高い耐摩耗性を有する滑り軸受を提供する。
【解決手段】球面滑り軸受1は、外輪滑り面11Aを有する外輪11と外輪滑り面11Aに対向し、外輪滑り面11Aに接触する内輪滑り面12Aを有する内輪12とを備えている。そして、外輪滑り面11Aには、βサイアロンを主成分とし、残部不純物からなるβサイアロン皮膜11Bが形成されている。さらに、内輪滑り面12Aにも、βサイアロンを主成分とし、残部不純物からなるβサイアロン皮膜12Bが形成されている。 (もっと読む)


【課題】セラミックス粉末を使用して衝撃焼結被覆によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で衝撃焼結被覆をすることにより要求を満足する機能性を有する優れた皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】 従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、衝撃焼結被覆をし、要求機能特性と密着性を有する皮膜を形成したことを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、特性を低下させる添加剤なしで高いコランダム含有量を有する熱溶射されたAl23層及びこの層の製造方法に関する。本発明は、特に、電気絶縁体の分野で、誘電体として及び摩耗保護のために使用することができる。本発明の場合に、熱溶射されたAl23層は、最大で19%の多孔性及び少なくとも72体積%のα−Al23の高い含有量(コランダムの含有量)を有することを特徴とする。この層は、>1×1012オーム・cmの比電気抵抗及び純度>97%を有する。この層の本発明による製造は、>100nmの粒度を有する純粋なα−Al23からなる水性又はアルコール性懸濁液を使用して、熱溶射のグループからなる方法を用いて行われる。 (もっと読む)


121 - 140 / 414