【課題】溶射の進行に合わせて送給されるワイヤに対するコンタクトチップの安定した接触状態を維持して通電状態を安定化すると共に電極寿命を延ばす。
【解決手段】旋回する溶射ガン２の中央にワイヤ３を溶射の進行に合わせて送給し、一対の電極間にプラズマを発生させ、そのプラズマによりガス噴出孔から噴射されるガスを燃焼させて前記ワイヤ３を溶融し、溶融した溶融金属を被溶射物に向けて噴射して溶射皮膜を形成する溶射皮膜形成装置。この溶射皮膜形成装置では、溶射ガン２の旋回による遠心力Ｆを受けてワイヤ３と接触する接触状態を維持し且つ導電性を有したコンタクトチップである金属ローラ１５を一方の電極とし、前記ガス噴出孔近傍に設けた電極１３を他方の電極とした。 （もっと読む）

【課題】溶射の進行に合わせて送給されるワイヤに対するコンタクトチップの安定した接触状態を維持して通電状態を安定化すると共に電極寿命を延ばす。
【解決手段】溶射ガン２の中央にワイヤ３を溶射の進行に合わせて送給し、一対の電極間にプラズマを発生させ、そのプラズマによりガス噴出孔１４から噴射されるガスを燃焼させて前記ワイヤ３を溶融し、ガス噴出孔１４の周りに形成したエアー噴出孔１８から噴射されるアトマイズエアーで溶融金属を溶射フレームとして被溶射物に向けて噴射して溶射皮膜を形成する溶射皮膜形成装置。この溶射皮膜形成装置では、エアー供給路１９から分岐してワイヤ３の送給方向と直交する方向に形成された分岐流路２０の中にコンタクトチップ１５をスライド自在に設け、この分岐流路２０へと吹き込まれるアトマイズエアーの圧力でコンタクトチップ１５をワイヤ３に押圧付勢させる。 （もっと読む）

【課題】溶射の進行に合わせて送給されるワイヤに対するコンタクトチップの安定した接触状態を維持して通電状態を安定化する。
【解決手段】コンタクトチップ１５を、本体部２０と、その本体部２０の軸方向に貫通するワイヤ送給孔２１とを備えた構造にする。また、ワイヤ送給孔２１は、入口部２１Ａ及び出口部２１Ｂではストレート孔形状とし、これら入口部２１Ａと出口部２１Ｂの中間部２１Ｃをワイヤ３が接触する凹凸形状とした。凹凸形状は、ワイヤ３を屈曲させて送る凸部２２と凹部２３からなる波形形状にする。 （もっと読む）

【課題】溶射生産性、沈積効率、コーティング品質、保守時間、陰極材料による汚染等の改善を図ったプラズマトーチの提供をおこなう。
【解決手段】チャンバー（２６）中で、電気アークを発生しうるように軸Ｘに沿って延在する陰極および陽極、並びに注入軸（Ｉ_ｉ）に沿って注入孔（７４）を介してチャンバー内にプラズマ形成ガスを注入する注入導管（７２）開口を有するデバイス（３０）を備えるプラズマ発生器、および溶射されるべき物質をプラズマ発生器によって発生されたプラズマ流束中に注入する手段を備えたプラズマトーチであって、軸Ｘと注入孔中心との最小距離である注入孔の径方向距離（ｙ_ｉ）と、陽極と陰極間の最小径方向距離の軸方向位置ｐ_ＡＣの下流のチャンバー領域内の陰極の最大横断寸法（Ｄ_Ｃ）との比Ｒ”が２．５未満であり、且つ注入孔中心を通る横断面への注入軸（Ｉ_ｉ）の射影は、軸Ｘと注入孔中心を貫通し横断面中に在る半径と、４５°未満の角度βを成す。 （もっと読む）

本発明は特に、物品（３）の金属表面（５）を被覆するためのエナメル被覆物（７）に関する。さらなる被覆物層（８）を適切に結合するために必要とされる機械的結合相互作用のために適した表面粗さを得るために、エナメル被覆物（７）は、触媒エナメルと、通常のエナメルおよび熱分解エナメルの少なくとも１つとの混合物を含む。
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【課題】適切な防錆力を付与しつつ、設置にあたっての作業コストを低減することが可能な支承装置を提供する。
【解決手段】上面側に上部取付板６が連結されるとともに、下面側に下部取付板７が連結された積層ゴム体２と、上部取付板６と上部構造物８との間に設置されるソールプレート３と、下部取付板７と下部構造物１１との間に設置されるベースプレート４とを備え、上部構造物８の荷重を支持しながら、下部取付板７をベースプレート４との間で水平方向に摺動させて積層ゴム体２の据え付け位置を調整する支承装置１であって、下部取付板７及びベースプレート４の各々の摺動面側において、プレート本体４１、７１から摺動面に向けて、金属溶射防錆層４２、７２、防錆潤滑剤焼付皮膜４３、７３及びコート層４４、７４が順に積層される。 （もっと読む）

本発明は、排気することができ、基材３を配置することができる加工室２を含み、且つプロセス・ガスを加熱することによってプラズマ・ビーム５を生成するためのプラズマ・バーナ４を含む、基材３を表面被覆又は表面処理するためのプラズマ被覆システムに関する。プラズマ・バーナ４は、プラズマ・ビーム５がプラズマ・バーナ４から出て行くことができ、加工室２の長手方向軸線Ａに沿って延びるノズル４１を有している。ノズル４１の下流には、機械的制限装置１２が、加工室２内に備えられ、長手方向軸線Ａに沿って延在して、好ましくない粒子の側方浸入からプラズマ・ビーム５を保護している。本発明は、さらに、これに対応する方法に関する。
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【課題】溶射層を薄く形成するとともに、密着性を向上できる非金属部材からなるシート材を提供するとともに、その溶射方法を提供する。
【解決手段】シート材１０に、プラズマ溶射機で加熱・溶融した粉末状の銅の粒子１３を吹き付ける。シート材１０が、布材の場合、銅の粒子１３の大きさを約０．０５Φｍｍ程度にするとともに、プラズマ溶射ガン２の先端からシート材１０との距離を、２００〜５００ｍｍの範囲に設定し、プラズマ溶射ガン２のトラバーススピードを毎秒５００〜９００ｍｍとする。一方、シート材１０の溶射面には冷却空気２９を吹き付けて、銅の粒子１３がシート材１０に付着する際のシート材１０の温度を、シート材１０が布材や紙材の場合に１５０℃以下、シート材１０が樹脂材の場合に、１００℃以下となるようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造装置やフラットパネルディスプレイデバイス製造装置などのプラズマエロージョンを防止する目的において有用な溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は酸化イットリウム粒子からなる。酸化イットリウム粒子のＢＥＴ比表面積は１〜２５ｍ^２／ｇである。溶射用粉末の５０％粒子径に対する溶射用粉末の９０％粒子径の比率であるＤ_９０／Ｄ_５０の値は４以下である。溶射用粉末の安息角は５５度以下である。溶射用粉末の分散度は４％以上である。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造装置やフラットパネルディスプレイデバイス製造装置などのプラズマエロージョンを防止する目的において有用な溶射皮膜の形成に適した溶射用スラリーを提供する。
【解決手段】本発明の溶射用スラリーは、酸化イットリウム粒子及び分散媒を含有する。酸化イットリウム粒子の純度は９５質量％以上であり、酸化イットリウム粒子の平均粒子径は６μｍ以下であり、溶射用スラリー中の酸化イットリウム粒子の含有量は１．５〜３０体積％である。酸化イットリウム粒子のＢＥＴ比表面積は、好ましくは１〜２５ｍ^２／ｇである。また、液圧測定法による溶射用スラリーの相対堆積割合は、好ましくは３０％以下である。 （もっと読む）

【課題】溶融粒子の飛行速度を高め、皮膜性能の向上を図ることができる粒子加速ノズル付きプラズマ溶射装置およびプラズマ溶射方法を提供する。
【解決手段】プラズマ溶射装置において、プラズマジェットFを噴射するプラズマガン3のノズル部2と接続される加速ノズル5を有し、加速ノズル5は、その先端に向けて内径が連続的または段階的に拡大するノズル孔を有し、ノズル孔における周方向内壁に、加速ノズル先端側に向けて略筒状のシールドガスを噴射するための噴射口T₀〜T₄が形成され、上記噴射口は、ノズル孔の中心軸C方向に複数段設けられ、各段の噴射口にガスを供給するガス供給路5n，5j〜5mが個別に設けられ、プラズマジェットの噴射方向において少なくとも最上流側の噴射口に通じるガス供給路5nに、不活性ガスまたは不活性ガスを主成分とするガスが供給されるように構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

坩堝引き上げ法において使用するための公知の溶融坩堝の場合には、坩堝内部空間に対向した、坩堝壁の内側は、少なくとも部分的に貴金属からなる保護層で被覆されている。公知の溶融坩堝は、実際に石英ガラス溶融液と比較して良好な耐蝕性を有するが、しかし、材料費は、高価な被覆材料のために高い。僅かな材料費で良好な耐蝕性を示す、石英ガラスのための坩堝引き上げ法において使用する溶融坩堝を提供するために、本発明によれば、保護層（２）が２０℃〜１８００℃の温度範囲内で相数変換を全く受けない、気密な酸化物材料からなり、坩堝内部空間（１７）が収容すべき石英ガラス材料（２７）の上方でガス空間（１７）を有し、および保護層（２）が専らガス空間（１７）との境に接する、溶融坩堝の内側の表面上に設けられていることが提案されている。
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【課題】溶融亜鉛合金液や溶融アルミニウム合金液に対する耐腐食性をさらに改善した金属部品の表面処理方法を得る。
【解決手段】金属母材３５の表面に、コバルト基合金材料からなる粉末にＷ，Ｍｏを加えた金属粉末を、プラズマ粉体溶接にて肉盛りし、ライニング層３６を形成する金属部品の表面処理方法。コバルト基合金材料としては、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ合金材料、Ｃｏ−Ｃｒを主成分とする合金材料を好適に使用することができる。ライニング層３６の表面をスケーリング処理して金属酸化膜を形成すればより効果的である。 （もっと読む）

【課題】厳しい熱環境での使用を意図した、超合金基板上の遮熱コーティングとして有用な組成物を提供する。
【解決手段】このコーティングは、主に正方晶相の状態において安定化したジルコニアを含む。組成物は、基本的にジルコニア（ＺｒＯ₂）又はジルコニアとハフニア（ＨｆＯ₂）との組合せから成るセラミック成分と、ＹｂＯ_1.5、ＨｏＯ_1.5、ＥｒＯ_1.5、ＴｍＯ_1.5、ＬｕＯ_1.5、及びそれらの組合せより選択される第１の補助安定剤、並びにＴｉＯ₂、ＰｄＯ₂、ＶＯ₂、ＧｅＯ₂、及びそれらの組合せより選択される第２の補助安定剤を組み合わせて含む安定剤成分とを含む。任意で、この安定剤成分はＹ₂Ｏ₃を含む。この安定剤成分は、コーティング中で主に正方晶相の状態を実現するのに有効な量だけ存在する。
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厳しい熱環境で使用することが意図された超合金基材上の耐衝撃性コーティングなど、コーティングとして使用するのに適した組成物を提供する。このコーティング材料は、ＹＯ_1.5、ＹｂＯ_1.5、ＨｏＯ_1.5、ＥｒＯ_1.5、ＴｍＯ_1.5、ＬｕＯ_1.5、ＮｄＯ_1.5、ＳｍＯ_1.5、ＥｕＯ_1.5、ＧｄＯ_1.5、ＤｙＯ_1.5、およびそれらの組み合わせから選択される、約３ｍｏｌ％から約６ｍｏｌ％の第１の補助安定化剤と、ＴｉＯ₂、ＰｄＯ₂、ＶＯ₂、ＧｅＯ₂、およびそれらの組み合わせから選択される、１０ｍｏｌ％から約２０ｍｏｌ％の第２の補助安定化剤とを含むことによって、主に正方相に安定化されたジルコンを含む。このコーティングは、任意でハフニア（ＨｆＯ₂）を含む。第１および第２の補助安定化剤の量は、正方相を維持する、すなわち熱サイクル中に単斜相を避けるように調整され、かつ耐衝撃性を改善するための高い正方晶性をもたらすように調整される。 （もっと読む）

【課題】厳しい熱環境での使用を意図した、超合金基板上の遮熱コーティングとして有用な組成物を提供する。
【解決手段】このコーティングは、主に正方晶相の状態において安定化したジルコニアを含む。組成物は、基本的にジルコニア（ＺｒＯ₂）又はジルコニアとハフニア（ＨｆＯ₂）との組合せから成るセラミック成分と、ＹｂＯ_1.5、ＨｏＯ_1.5、ＥｒＯ_1.5、ＴｍＯ_1.5、ＬｕＯ_1.5、それらの組合せ、及び任意でＹＯ_1.5より選択される第１の補助安定剤、並びにＴｉＯ₂、ＰｄＯ₂、ＶＯ₂、ＧｅＯ₂、及びそれらの組合せより選択される第２の補助安定剤、並びにＴａＯ_2.5から成る第３の補助安定剤を組み合わせて含む安定剤成分とを含む。この安定剤成分は、コーティング中で主に正方晶相の状態を実現するのに有効な量だけ存在する。
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【課題】溶射中に酸化されず、しかも簡便で安価に製造可能な溶射用金属粒子を提供する。
【解決手段】金属からなる母粒子表面に、表面処理剤によって形成された被覆層を有する溶射用粒子。被覆層は、金属粒子表面全体を被覆していることが好適であり、また、ターゲットである基材表面に衝突する直前まで、被覆層の少なくとも一部が金属粒子表面に残存した状態で維持されて金属粒子の酸化を防止することが好適である。 （もっと読む）

【課題】金属ボンディングコート（２２）及びセラミックトップコート（２４）を備えた断熱皮膜システムを含む金属タービン構成部品を補修する方法を提供する。
【解決手段】本方法は、（ａ）機械的プロセスを使用してトップコート（２４）を除去するステップと、（ｂ）構成部品の材料が実質的に全く除去されないように、該構成部品から金属ボンディングコート（２２）を部分的に剥取るステップと、（ｃ）タービン構成部品内の少なくとも１つの欠陥を補修するステップと、（ｄ）タービン構成部品に新しい金属ボンディングコート（２６’、２８’）を施工するステップと、（ｅ）金属ボンディングコート（２６’、２８’）を覆って新しいセラミックトップコート（２４’）を施工するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】耐食性に優れ、プラズマ環境で使用したときに発生するパーティクルを低減できる耐食性部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】耐食性部材は、基材と、基材上に溶射により形成され、５％以上２０％以下の気孔率を有する酸化ガドリニウム皮膜とを備える。耐食性部材の皮膜は、低気孔率の酸化ガドリニウムにより形成されているため、耐食性に優れ、プラズマ環境で使用したときに発生するパーティクルを低減できる。また、酸化ガドリニウム皮膜の気孔率が２０％以下であるため、皮膜の強度が向上し、カケや剥離等が発生しにくく、プラズマが皮膜を透過して基材を損傷する可能性も低い。一方、酸化ガドリニウム皮膜の気孔率は５％以上であり、皮膜が緻密すぎないため、クラックが発生しにくい。 （もっと読む）

【課題】アブレイダブル皮膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】皮膜を形成する本方法は、第１の皮膜層を基材の表面上に堆積させるステップを含み、皮膜は、セラミック又は金属、滑剤及び散逸性材料を含む。散逸性材料の少なくとも一部分は、局所熱源で第１の皮膜層を加熱することによって分解される、変質される又は揮発される。 （もっと読む）