【課題】溶射材料として、金属などの導電性ワイヤーと、セラミックなどの粉体とを使用できるようにする。
【解決手段】陰極２を有する陰極ノズル３の軸上に、放出口１１ａ，１５ａ，１９ａを有する複数の外套１１，１５，１９を、絶縁物４，１２，１６を介して直列に連設し、その先頭の外套１９を、金属などの導電性ワイヤーが供給される導電性ワイヤー溶射外套とし、その他の外套を粉体溶射用外套とし、前記粉体溶射用外套と前記導電性ワイヤー溶射用外套を着脱可能に連結するとともに、セラミックスなどの粉体を供給する粉体供給手段２８を設ける。 （もっと読む）

【課題】ＨＶＯＦ溶射で得られる皮膜と同等又はより優れた皮膜特性を有する溶射皮膜を形成することが可能な、ＨＶＡＦ溶射用途で使用される溶射用粉末、及びその溶射用粉末を用いた溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、ＨＶＡＦ溶射により溶射皮膜を形成する用途で使用される溶射用粉末であって、コバルト及びクロムの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンを含んだ造粒−焼結サーメット粒子からなり、造粒−焼結サーメット粒子の平均径は１〜３０μｍ以下、造粒−焼結サーメット粒子のセラミックスの含有量は６０〜９５質量％、造粒−焼結サーメット粒子を構成する一次粒子の平均粒子径が０．２〜６．０μｍ、造粒−焼結サーメット粒子を構成する金属一次粒子の個数平均径を同じ金属一次粒子の体積平均径で除することにより得られる値として定義する分散性の値は０．４０以下の溶射用粉末である。 （もっと読む）

【課題】大型化を招くことなく基材を適切に冷却可能な溶射装置を提供する。
【解決手段】
半導体モジュール２の被膜対象形成面２ａに溶射によって被膜を形成する際に、保持部材５によって、被膜対象形成面２ａを含む半導体モジュール２の一部が冷却水の液面よりも上方に位置付けられるように保持する。これにより、空気等の冷却用気体に対して比熱が大きい冷却水によって半導体モジュール２の冷却でき、空気にて冷却する場合に対して、冷却効率を高めることができるので、保持部材５によって半導体モジュール２を強固に保持固定する必要が生じなくなる。その結果、溶射装置全体としての大型化を招くことなく基材を適切に冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】遮熱性能と耐久性に優れた熱応力緩和遮熱コーティング被覆を施す溶射システムおよび溶射方法を提供する。
【解決手段】溶射システムは，基体が配置される回転テーブル５と，前記回転テーブル５に配置され，前記基体の第１の部位を加熱する第１の加熱手段と，前記第１の加熱手段によって加熱される基体が配置される回転テーブル５を回転させるモータ２と，前記回転の軸に沿った方向に走査され，かつ前記回転される回転テーブル５上の前記基体の第２の部位をプラズマまたは炎によって加熱する第２の加熱手段と，前記第２の加熱手段により加熱された前記第２の部位に部分安定化ジルコニア層を形成するプラズマ溶射ガン１と，を具備する。 （もっと読む）

【課題】鋳物や鋼で形成されたものと同等以上の表面強度を有し、軽量で熱伝導性の優れた伸線機用キャプスタンブロックを提供することである。
【解決手段】キャプスタンブロック２を形成する母材Ｍをジュラルミンとし、外周面の母材Ｍをプラズマアークで所定の深さまで溶融して、この外周面の母材Ｍの溶融部の下部に、母材Ｍよりも比重が大きいＷＣで形成された強化粒子４を重力によって沈降、堆積させ、この強化粒子４を堆積させた堆積層５の上側に、溶融した母材Ｍを浮揚させた浮揚層６を形成して、この母材Ｍの浮揚層６の表面を平滑化し、平滑化した浮揚層６の表面に溶射法による硬質皮膜７を形成した。 （もっと読む）

【課題】 金属基材とアモルファス金属皮膜との間の密着度が低い等の課題を解決し、実際の産業用機器・設備において安定して使用できる皮膜付き金属等を提供する。
【解決手段】 金属基材の表面に下地材を介してアモルファス金属皮膜を形成した金属材について、a)上記基材の上に、当該基材と上記下地材とが溶融し合ってできた層をはさんで下地材の層を形成し、b)当該下地材の層の上に、当該下地材と上記アモルファス金属の成分の金属（アモルファスでない一般金属）とが溶融し合ってできた第一中間層、および上記アモルファス金属の成分の金属（アモルファスでない一般金属）と上記アモルファス金属とが溶融し合ってできた第二中間層をはさんで、アモルファス金属皮膜の層を形成する。 （もっと読む）

【課題】高い熱サイクル耐久性及び高い遮熱性を有する遮熱コーティングの施工方法を提供する。
【解決手段】耐熱合金基材１上にボンドコート層２を形成する工程と、前記ボンドコート層２上にトップコート層３を形成する工程とを備え、前記トップコート層３を形成する工程が、複数のセラミックス膜３ａを溶射によって形成する工程と、前記トップコート層３の表面温度が４５０℃以下となるよう温度制御する工程とを備える遮熱コーティングの施工方法である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのモリブデン系化合物を含む公称厚さのターゲットであって、ラメラ微細構造、１０００ｐｐｍ未満、好ましくは６００ｐｐｍ未満、特に好ましくは４５０ｐｐｍ未満の酸素量、及び前記化合物の理論電気抵抗率の５倍未満、好ましくは３倍未満、特に好ましくは２倍未満の電気抵抗率を有することを特徴とするターゲットに関する。 （もっと読む）

【課題】溶射層を薄く形成するとともに、密着性を向上できる非金属部材からなるシート材を提供するとともに、その溶射方法を提供する。
【解決手段】シート材１０に、プラズマ溶射機で加熱・溶融した粉末状の銅の粒子１３を吹き付ける。シート材１０が、布材の場合、銅の粒子１３の大きさを約０．０５Φｍｍ程度にするとともに、プラズマ溶射ガン２の先端からシート材１０との距離を、２００〜５００ｍｍの範囲に設定し、プラズマ溶射ガン２のトラバーススピードを毎秒５００〜９００ｍｍとする。一方、シート材１０の溶射面には冷却空気２９を吹き付けて、銅の粒子１３がシート材１０に付着する際のシート材１０の温度を、シート材１０が布材や紙材の場合に１５０℃以下、シート材１０が樹脂材の場合に、１００℃以下となるようにする。 （もっと読む）

【課題】 高融点で過冷却温度領域がせまい金属を含む多種類の金属についてアモルファス皮膜の形成ができることに加え、設備的にコンパクトで酸化物の生成が少ないといった利点を有する、アモルファス皮膜の形成装置および形成方法を提供する。
【解決手段】 アモルファス皮膜形成装置１は、材料粒子を含む火炎Ｆを母材Ｍに向けて溶射ガン１０より噴射させ、当該材料粒子を火炎Ｆによって溶融させたうえ、材料粒子および火炎Ｆを母材Ｍに達する前から冷却ガスＧにて冷却する。装置１において、溶射ガン１０による火炎Ｆの噴射経路のうち材料粒子を溶融させる領域に、火炎Ｆと外気とを隔てる筒状体２０を設け、その筒状体２０と一体的に上記冷却ガスの流路を形成した。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、６００〜８００℃の高温下において、飛来粒子による厳しい摩耗環境で使用される部材（タービン動・静翼，シュラウドセグメントなどのガスタービン高温部材）に適した耐摩耗コーティング部材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
母材表面に高速フレーム溶射（以下、ＨＶＯＦ）によってクロムカーバイドコーティングを施した後、皮膜密着性を高めるため、ＭＣｒＡｌＹコーティング（Ｍ：ＮｉＣｏあるいはＣｏＮｉ）を施し、その上に気孔率８％以下となるように緻密化したイットリア部分安定化ジルコニアコーティングを施し、更にその上に気孔率５％以下となるように緻密化したアルミナコーティングを直接施工する。 （もっと読む）

【課題】内周面以外の領域に対して溶射を実施するに際し、被覆材のコストの上昇を抑制しつつ、マスキング部材等で覆われた内周面の温度上昇を抑えることが可能な環状部材の冷却装置を提供する。
【解決手段】冷却装置１は、環状部材としての外輪９０の内周面９２に囲まれる領域である非溶射領域を覆う一対のマスキング部材１０と、一方のマスキング部材１０Ａに接続され、非溶射領域に供給される冷却媒体が通過する冷却媒体供給路２１と、他方のマスキング部材１０Ｂに接続され、非溶射領域から排出される冷却媒体が通過する冷却媒体排出路２２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】希土類窒化物は、イットリア以上の耐蝕性を持つ半導体製造装置用部材を作製できると期待されるが、希土類窒化物単体では酸化しやすい性質であり、例えば大気中では希土類酸化物に変化してしまう問題があった。
【解決手段】希土類窒化物からなるプラズマ耐蝕性材料であって、金属元素としてＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎの中から少なくとも１種類の元素を金属元素の割合として０．１〜２０原子％含有することを特徴とするプラズマ耐蝕性材料は、プラズマに対する耐性が高く、このようなプラズマ耐蝕性材料は、希土類窒化物粉末に金属を混合した粉末を使用して溶射膜を形成することで製造することが出来る。 （もっと読む）

【課題】表層におけるニッケルの濃度分布のばらつきを低減して、銅を含有する鋼鋳片の表層を確実に改質し、熱間加工時のわれの発生を防止できる鋼鋳片の表層改質方法、改質鋳片及び加工製品を提供する。
【解決手段】銅を含有する鋼鋳片１の表層をプラズマジェット４により加熱溶融させ、その溶融プール８に、ニッケル又はニッケル合金からなるワイヤー６を供給して鋼鋳片１の表層を改質する際に、鋼鋳片１の溶融処理速度Ｖｔ、プラズマ加熱により形成される溶融プール８の長さＬｐに対し、ワイヤー６から供給される溶滴がＬｐ／Ｖｔ間隔となる供給速度をＶｗ_０、処理長さ２０ｍｍあたりに溶滴が１個落下する供給速度をＶｗ_２、溶滴が連続的に溶融プール８に添加される供給速度をＶｗ_１としたとき、供給速度Ｖｗを、Ｖｗ_０＜Ｖｗ_２の場合はＶｗ_２＜Ｖｗ＜１．２×Ｖｗ_１とし、Ｖｗ_０≧Ｖｗ_２の場合はＶｗ_０＜Ｖｗ＜１．２×Ｖｗ_１とする。 （もっと読む）

【課題】 金属ガラス等には限定されない一般のアモルファス皮膜を溶射によって形成するための方法を提供する。
【解決手段】 材料粒子を含む火炎Ｆを母材Ｍに向けてノズル５より噴射し、当該材料粒子を火炎Ｆによって溶融させたうえ、当該材料粒子および火炎Ｆを、母材Ｍに達する前から冷却する。その冷却のためには、火炎Ｆに接する部分または火炎Ｆを離れた外側周辺部から、火炎Ｆの中心線に近づくようにガスＨを吹き付ける。火炎Ｆ中の材料粒子の粒径は１０〜１００μｍとするのがよい。 （もっと読む）

【目的】装置を大型化，複雑化することなくガス噴射位置を視覚的に正確に把握することができ、所望する箇所にピンポイントで正確にガス噴射させることができるガス噴射ノズル装置を提供する。
【構成】ガス噴射ノズル装置は、ノズル１に、その噴射口３からのガス噴射路の中心線上を通過して有色可視レーザ光１１を照射するレーザ発信器２を内蔵して、当該レーザ光１１の照射個所にガス１０が噴射されるように構成してある。レーザ発信器２としては、赤色レーザ又は緑色レーザを使用するレーザポインタが使用される。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、サーメット皮膜形成における高速フレーム（ＨＶＯＦ）溶射法による欠点と、コールドスプレー法による欠点の双方をウォームスプレー法にて解消して、従来には望むべくもなかった高密度で高い耐摩耗性を有するサーメット皮膜形成を容易におこなえるようにすることを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するため、前記サーメット粒子の温度をその結合相を構成する金属成分の再結晶温度以上かつ融点未満に保持し、マッハ１以上にて基材へ衝突させ成膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ホットプレスと焼結操作が不用で、そして高電力レベルでも複雑な形状を有する大型のターゲットとして使用可能となるように高い導電性を有するターゲットの製造に適用可能な、半化学量論的ＴｉＯ_２からなるスパッタリングターゲットの改良された製造方法を提供する。
【解決手段】電気抵抗が０．５Ω・ｃｍ以下で、ｘが２より小さい半化学量論的な二酸化チタンからなり、必要により酸化ニオブを含むスパッタリングターゲットの製造方法であって、酸素を含まず、かつ酸素含有化合物を含まない雰囲気で回転可能なターゲット基材上に、二酸化チタンＴｉＯ_２、そして必要により酸化ニオブも一緒にプラズマ溶射する工程と、半化学量論的二酸化チタンが酸素と結合しない条件で冷却され凝固してなるＴｉＯ_ｘで上記の回転可能なターゲット基材を被覆する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】均質で磁石特性に優れた永久磁石を提供する。
【解決手段】本発明による永久磁石の製造方法は、Ｒ−Ｔ−Ｂ系合金を用意し、９００℃以上１１００℃以下の温度で１時間以上の間、保持する工程と、前記Ｒ−Ｔ−Ｂ系合金に水素を吸蔵させることにより、脆化させる水素処理工程と、脆化されたＲ−Ｔ−Ｂ系合金を粉砕し、平均粒径１０μｍ以上１００μｍ以下の粉末を形成する微粉砕工程と、前記粉末を溶射することによってＮｄ₂Ｆｅ₁₄Ｂ化合物を主相とする膜状永久磁石を形成するプラズマ溶射工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】従来の亜鉛めっき塗布層等と比較して少なくとも同様に優れた少なくとも耐腐食性を有する溶射表面を形成する溶射法を用いること。
【解決手段】本発明は、溶射法によって被処理品の表面を被覆するための、亜鉛を含む溶射材料（５）に関するものである。また、本発明は、溶射法、および、溶射材料（５）が溶射された溶射被覆に関するものである。 （もっと読む）