【課題】 電気抵抗溶接して用いられる無研削ティンフリースチールの溶接性を、精度よく評価する方法を提案する。
【解決手段】 電圧降下法により接触抵抗を測定してティンフリースチールの電気抵抗溶接性を評価する方法において、前記接触抵抗の測定点数を異なる位置で20点以上行い、上記測定点中における電圧降下が0.05Ｖ超えの発生率に基づいて、溶接性の評価を行うことを特徴とするティンフリースチールの溶接性評価方法。 （もっと読む）

（ａ）金属グラファイト複合材料の少なくとも１つの表面からグラファイトを除去し、（ｂ）金属グラファイト複合材料の表面を化学的清浄化またはプラズマエッチングし、（ｃ）化学的に清浄にしたまたはプラズマエッチングした金属グラファイト複合材料の表面に金属含有材料を塗装し、これにより中間層を形成し、（ｄ）中間層に金属被膜を塗装し、これにより複合材料を形成することからなる方法に関する。本発明は更に、（ａ）実質的にグラファイトを含まない少なくとも１つの表面を有する金属グラファイト複合体基板、（ｂ）前記基板の表面に配置された金属含有中間層および（ｃ）前記中間層上の金属被膜からなる複合材料に関する。 （もっと読む）

【課題】 潤滑油を介在させなくても円滑な作動を維持できるスクリュネジ機構を提供する。
【解決手段】 互いに螺合するスクリュロッド１１とスクリュナット１５を備えるスクリュネジ機構１０において、スクリュロッド１１の雄ネジ１２の表面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜２０を形成した。 （もっと読む）

【課題】 従来技術のプレコート金属板の耐汚染性をさらに向上させ、同時に良好な加工性も有するプレコート金属板を提供する。
【解決手段】 金属板の上に、最表層と前記最表層の下に配置された下層とを配置し、前記最表層がアミノブラスト樹脂を含み、該最表層内の表面部分のアミノブラスト樹脂の濃度が前記下層との界面部分における濃度よりも高く、前記下層がアミノブラスト樹脂を含み、前記下層内の前記最表層側の界面部分のアミノブラスト樹脂の濃度が、前記下層内の前記金属板側の界面部分における濃度よりも高いプレコート金属板。 （もっと読む）

高い静電容量と高い強度をともに確保することが可能なコンデンサ陰極用箔とその製造方法を提供する。コンデンサ陰極用箔は、アルミニウム箔と、このアルミニウム箔の表面上に形成された炭素含有層とを備える。アルミニウム箔と炭素含有層との間には、アルミニウムと炭素を含む介在層が形成されている。コンデンサ陰極用箔の製造方法は、炭化水素含有物質を含む空間にアルミニウム箔を配置する工程と、このアルミニウム箔を加熱する工程とを備える。
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【課題】 潤滑油を介在させなくても円滑な作動を維持できるボールトランスファを提供する。
【解決手段】 軸受面１２を有するケース１１と、この軸受面１２上に配置される複数の小ボール１５と、軸受面１２に対してこの小ボール１５を介して回転可能に支持される大ボール１６とを備え、大ボール１６が回転することにより大ボール１６に載せられた搬送物が移動する構成としたボールトランスファ１０において、ケース１１の軸受面１２の表面に炭素を主成分としたアモルファス構造体からなるＤＬＣコーティング膜２０を形成した。 （もっと読む）

【課題】初期摺動特性等の諸特性が改善された無電解ニッケルめっき膜を提供すること。
【解決手段】表面にリン酸塩被膜を有する無電解ニッケルめっき膜の形成方法。硫黄含有化合物を含む無電解ニッケルめっき浴に被めっき物を所定時間浸漬して無電解ニッケルめっき膜を形成し、次いで、前記無電解ニッケルめっき膜をリン酸塩溶液と接触させることにより前記無電解ニッケルめっき膜上にリン酸塩被膜を形成する。表面にリン酸塩被膜を有することを特徴とするニッケル合金めっき膜。 （もっと読む）

【課題】変形性が改善された機械部品の提供。
【解決手段】本発明は、機械抵抗を改善するための、基材と、厚さがナノオーダーの表面コーティング層１層とを含む構造を有する機械部品であって、基材と表面コーティング層との間に、本質的にセラミックではなく非多孔性でナノオーダーサイズの粘着層を有し、上記表面コーティング層は、本質的に化学量論的な窒化チタン層から本質的になる本質的に非多孔性のバリア層である
ことを特徴とする機械部品に関する。 （もっと読む）

【課題】クロムを含まない無機物を主成分とする絶縁被膜であって、３００℃以下の塗布焼付けで製造された場合においても製品板（歪み取り焼鈍前）の耐食性および耐粉吹き性、ならびに外観、歪取り焼鈍板の耐キズ性に優れる絶縁被膜付き電磁鋼板の提供。
【解決手段】Ｚｒ化合物とＡｌ化合物とＳｉ化合物とを主成分として含有する絶縁被膜を有する電磁鋼板において、該絶縁被膜の全固形分質量に対するＺｒ化合物の含有率は、ＺｒＯ_２換算で４５〜９０質量％であり、該Ａｌ化合物と該Ｓｉ化合物との含有量の比は、Ａｌ_２Ｏ_３換算およびＳｉＯ_２換算で、２０：８０〜８０：２０であることを特徴とする絶縁被膜付き電磁鋼板。 （もっと読む）

【課題】 目的の生理活性物質を高効率に固定化可能で、かつ固定化された目的の生理活性物質を高効率に回収可能な機能性粒子を提供することである。
【解決手段】 芯材粒子と、当該芯材粒子の表面に形成されたニッケル膜またはニッケル合金膜と、当該ニッケル膜またはニッケル合金膜の表面に形成された貴金属膜とを有し、磁性を帯びていることを特徴とする機能性粒子。貴金属膜は金膜、金合金膜、白金膜又は白金合金膜である。 （もっと読む）

【課題】クロムを含まない無機物を主成分とする絶縁被膜であって、３００℃以下の塗布焼付けで製造された場合においても製品板（歪み取り焼鈍前）の耐食性および耐粉吹き性、ならびに外観、歪取り焼鈍板の耐キズ性に優れる絶縁被膜付き電磁鋼板の提供。
【解決手段】Ｚｒ化合物ならびにリン酸および／またはリン酸塩を含有する絶縁被膜を有する電磁鋼板において、該絶縁被膜の全固形分質量に対する、Ｚｒ化合物のＺｒＯ_２換算した含有率と、リン酸および／またはリン酸塩のＰＯ_４換算した含有率との合計が４５〜９０質量％であり、該含有率の比がＰＯ_４／ＺｒＯ_２で０．０１〜０．４０であることを特徴とする絶縁被膜付き電磁鋼板。 （もっと読む）

【課題】本発明は、伝導性、耐食性、耐アルカリ性及び耐高温耐湿性に優れ、かつクロム成分を含有しないコーティング層を有するクロムを含有しない金属表面処理組成物及び表面処理鋼板に関する。
【解決手段】上記表面処理組成物は、ｉ）耐食性無機物が複合化されたビニル系バインダー樹脂と、ｉｉ）耐食性無機物が複合化されたアクリル系バインダー樹脂と、ｉｉｉ）溶媒とを含み、上記ビニル系バインダー樹脂の量は全体固形分の１０乃至７０重量％で、上記アクリル系バインダー樹脂の量は全体固形分の１５乃至７５重量％で、上記耐食性無機物は全体固形分の３乃至２５重量％で存在する。 （もっと読む）

【課題】量産性に優れた安価な金属基体を用いて、腐食環境でも長期間耐食性に優れ、かつ高い導電性を保持しうる導電用高耐食材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】安価な金属材料を基体として、基体表層にある酸化皮膜層を取り除いた後に、導電性を有する中間層を設け、その表面の上層にπ共役導電性高分子膜を形成する。前記中間層が、Ｃ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｎｉ基合金、Ｆｅ基合金、Ｃｏ基合金、Ｚｒ基合金、Ｓｎ基合金、Ｐｔ基合金、Ａｕ基合金、Ａｇ基合金、Ｐｄ基合金、Ｉｒ基合金、Ｒｕ基合金、Ｒｕ酸化物、Ｚｎ酸化物、Ｉｒ酸化物、Ｉｎ酸化物、Ｓｎ酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一種である。該中間層を形成した基体の上層に形成されるπ共役系導電性高分子が、電解重合法、または、化学重合後に電解重合法よって形成される。 （もっと読む）

【課題】 所望の光学特性を容易に得ることができ且つ耐久性を向上させることができる光学膜を提供する。
【解決手段】 反射型液晶基板２０は、ガラス基板１２と、ガラス基板１２の内側主面上に形成された光学膜３０とを有する。光学膜３０は、ガラス基板１２の内側主面上に分散して形成された複数の島状構造体３１と、ガラス基板１２の内側主面上又は島状構造体３１上に形成された金属膜３２と、金属膜３２の内側主面上に分散して形成された複数の島状構造体３３とを有する。金属膜３２は、標準電極電位が正の値である銀である。島状構造体３１及び島状構造体３３の各々は、標準電極電位が負の値であるＩＴＯから成る。島状構造体３１，３３は、その平均ピッチが４００〜９００ｎｍであり、その平均高さが２．０〜７．０ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】 耐面圧性を含め密着性の高い硬質炭素膜を実現する。
【解決手段】 基材１０上に、当該基材１０と相性の良い中間層としての金属膜１２が、スパッタリング処理によって形成される。そして、この中間層１２上に、シリコンを含有する高濃度シリコン含有硬質炭素膜（高濃度層）１４が、プラズマＣＶＤ処理によって形成される。さらに、この高濃度層１４上に、当該高濃度層１４よりも少なめのシリコンを含有する低濃度シリコン含有硬質炭素膜（低濃度層と言う）１６が、同プラズマＣＶＤ処理により形成される。そして、高濃度層１４および低濃度層１６が、一連の硬質炭素膜１８を成す。このように硬質炭素膜１８に含まれるシリコンの量が基材１０から遠くなるに連れて減少することで、当該硬質炭素膜１８の耐面圧性を含めた密着性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、耐エッジクリープ性に優れた有機被覆鋼板を提供する。
【解決手段】 少なくともAlとMgを含有するZn系めっき層を有する鋼板に有機被覆層を有する有機被覆鋼板であって、該有機被覆鋼板に、JIS Z 2371に準拠した塩水噴霧試験を行った場合、該有機被覆鋼板の切断端面部又は有機被覆表面の一方又は両方に、Mg、Al、Znを少なくとも含有する腐食生成物を生じ、かつ、該腐食生成物中のZnとAl及びZnとMgの質量比がそれぞれ、
3≦Zn/Al≦15；
10≦Zn/Mg≦30
であることを特徴とする耐エッジクリープ性に優れた有機被覆鋼板である。 （もっと読む）

【課題】 スズ皮膜での異常粒子やフリルの発生を有効に防止するとともに、簡便な方式でソルダレジストのえぐれを確実に防止する。
【解決手段】 微細パターン上にソルダレジストを形成した形態のフィルムキャリア、プリント回路基板、フレキシブルプリント基板などにおいて、(ａ)微細パターン上に下地スズ皮膜を形成し、(ｂ)下地皮膜を加熱処理した後、(ｃ)下地スズ皮膜の全面上に上層スズ皮膜を形成し、(ｄ)上層スズ皮膜の上にソルダレジストを被覆するフィルムキャリアなどの製造方法である。２層スズ皮膜の形成と下地皮膜の加熱を組み合わせるため、上層スズ皮膜での異常粒子などを良好に防止できる。２層スズ皮膜を形成した後にソルダレジストを被覆するため、ソルダレジストのえぐれの問題を確実且つ簡便に解消できる。 （もっと読む）

色のついたかみそりブレードが提供される。そのようなブレードを製造する方法も提供され、ブレード材料を焼入れプロセスに曝す工程、及び焼入れプロセス中にブレード材料を酸化して酸化層をブレード材料上に形成する工程を伴う方法が含まれる。その方法には、酸化工程の後でブレード材料を急冷してブレード材料のマルテンサイト変態を開始する工程、及び焼入れしたブレード材料をかみそりブレードに形成する工程も含み、酸化層により、色のついた表面を有するかみそりブレードが提供される。
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【課題】従来技術では困難であった環境に有害な成分を含まない処理液で鉄系金属材料等の金属材料表面に、塗装後の耐食性に優れる表面処理皮膜を析出させる表面処理用組成物の提供。
【解決手段】次の成分（Ａ）、成分（Ｂ）、及び成分（Ｃ）：
（Ａ）Ti、Zr、Hf、及びSiからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を含む化合物
（Ｂ）Y及び／又はランタノイド元素を含む化合物
（Ｃ）硝酸及び／又は硝酸化合物
を含有し、前記成分（Ａ）中の前記元素の合計質量濃度Ａに対する前記成分（Ｂ）中の前記Y及び／又はランタノイド元素の合計質量濃度Ｂの比であるＫ１＝Ｂ／Ａが０．０５≦Ｋ１≦５０であり、前記合計質量濃度Ａに対する前記成分（Ｃ）中の窒素原子のＮＯ_３換算した合計質量濃度Ｃの比であるＫ２＝Ｃ／Ａが０．０１≦Ｋ２≦２００である鉄及び／又は亜鉛を含む金属の表面処理用組成物。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも低温で焼成して緻密化できるセラミック膜形成方法を提供する。
【解決手段】 助剤層２０中の焼結助剤は、第１セラミック材料層１８および第２セラミック材料層２２内に拡散する。そのため、それらの焼結がその焼結助剤によって促進される。助剤層２０は、その全体が第２セラミック材料層２２に覆われており、表層部に位置しないことから、焼結助剤の揮散が好適に抑制され、延いては焼結が一層促進される。第１セラミック材料層１８および第２セラミック材料層２２は、何れも膜厚が薄いことから、この助剤層２０からの拡散だけで十分に焼結が促進される。しかも、第１セラミック材料層１８および第２セラミック材料層２２内には、焼結助剤が含まれていないことから、焼結助剤の揮散に起因する気孔は生じない。 （もっと読む）