【課題】装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置を提供する。
【解決手段】帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)を備え基板(1)を搬送しつつその上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う。基板搬送部(51)は、基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第１〜第３のローラ組(R3〜R5)として長手方向(AR1)に沿ってその順に有する。上ローラと下ローラとによって基板(1)を挟む挟持位置について、第２のローラ組(R4)の挟持位置(KP4)が第１及び第３のローラ組の挟持位置(KP3,KP5)よりも低い位置にある。 （もっと読む）

【課題】フラットな物品、例えばシリコン基板の、発生する反応ガスを吸引しながら行う片面の湿式化学的な処理を可能にし、その際、気泡の破裂に基づく上面の所望されない濡れの上述の問題を、この面の保護を必要とすることなく回避する装置及び方法を提供する。
【解決手段】捕集チャンバ（１０）が、出口（９）の領域に流入開口（１１）を備えるとともに、入口（８）の領域に流出開口（１２）を備えて、排気通路（１３）を形成し、搬送ガス（Ｇ）が、排気通路（１３）を搬送方向（７）とは逆向きに、かつ搬送平面（６）及び搬送方向（７）に対して略平行に通流可能であるようにした。 （もっと読む）

【課題】 小型で簡便でありつつ、均一な研磨を行えるステント研磨装置を提供する。
【解決手段】 ステント研磨装置１０は、研磨液ＰＬを上流から下流に流す傾斜槽１１と、研磨液ＰＬの中にステント６９を浸し、下流から上流に、ステント６９を回転させつつ搬送させる搬送ユニット２９と、を含む。 （もっと読む）

【課題】エッチング液がケース外に漏れるのを減らし、エッチング品質を高める垂直搬送式エッチング装置を提供する。
【解決手段】二列の搬送ローラー柱１０，１１，１２，２０，２１，２２と、動力入力ギアセット３０と、ローラー柱台座４０，４１と、エッチング液ノズル５０，５１と、ケース６０とによって構成する。動力入力ギアセットは、二列の搬送ローラー柱の頂部に設けられ、外部の動力で作動する上層ギアセット３１と、下に動力を伝える下層ギアセット３２とで構成する。また、下層ギアセットの両側の反対方向に回転する最終動力伝達ギアは、対応する搬送ローラー柱の頂部に差し込まれ、各搬送ローラー柱の底部は、対応するローラー柱台座を挿入してケース内の底面に固定され、一列の搬送ローラー柱の底部のローラー柱台座は、二列の搬送ローラー柱の底部の中間に向かって延伸し、回路基板の底縁を転がす搬送ローラーを形成する。 （もっと読む）

【課題】被処理面のエッチング液が供給されている領域内でのエッチングレートを均一化し、被処理物に対して所望のエッチングを行うことができる表面加工装置を提供すること。
【解決手段】表面加工装置１は、ワーク１０を支持するチャッキングプレート２１と、チャッキングプレート２１に対して移動可能に設けられ、チャキングプレート２１に支持されたワーク１０の被処理面１０１に対してエッチング液を送出する送出口４ａおよび送出口４ａから送出されたエッチング液を吸引する吸引口４ｂを有するノズル４とを有する。また、ノズル４は、送出口４ａから送出され被処理面１０１に供給されたエッチング液を、吸引口４ｂから偏りなく均一に吸引することにより、エッチング液が供給された被処理面１０１内の領域のエッチングレートを均一化する。 （もっと読む）

【課題】被処理膜（特に、被処理膜における除去すべき部分）を、残存させることなく除去する。
【解決手段】ウェットエッチングにより、基板の上に形成された被処理膜における第１の部分を除去し、被処理膜における第２の部分を除去せずに残存させる。次に、ウェットエッチングにより、被処理膜における第２の部分を除去する。被処理膜における第２の部分の面積は、６０ｍｍ²以上である。 （もっと読む）

【課題】Ｓｎメッキ付き銅材料から効率良く、かつ、確実にＳｎを除去することが可能なＳｎメッキ除去方法およびＳｎメッキ除去装置を提供する。
【解決手段】銅または銅合金からなる銅基材の表面の少なくとも一部にＳｎメッキ層が形成されたＳｎメッキ付き銅材料からＳｎを除去するＳｎメッキ除去方法であって、少なくとも硝酸と硫酸とを含有するエッチング液を用いて、前記銅基材の表面に形成された前記Ｓｎメッキ層と、前記Ｓｎメッキ層と前記銅基材との間に生成したＣｕ−Ｓｎ合金層とを溶解する溶解工程Ｓ２を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スプレー法によるプリント基板等の大型被エッチング基板のエッチングにおいて、断面のアスペクト比の高い配線パターンを基板面内でのばらつきや斑が少なく均一性良く形成することができるエッチング処理方法およびエッチング処理装置を提供することを目的としている。
【解決手段】スプレーノズルによりスリット状に形成されるエッチング液を被エッチング基板の搬送方向に対して、所定の角度γを成すように噴霧させ、且つ、エッチング液を被エッチング基板の搬送方向に対して直角方向に周期的に揺動、噴霧させ、スプレーノズルの揺動周期Ｔ（ｓｅｃ）を前記被エッチング基板の搬送速度Ｖ（ｃｍ／ｓｅｃ）に対して、Ｔ＝Ｋ・２・Ｓ／Ｖを満足するように揺動動作させるものである。Ｓは揺動距離（ｃｍ）、Ｋは定数で０．２４≦Ｋ≦０．３３をそれぞれ表す。 （もっと読む）

【課題】基板表面における薬液の古液の排出性、液交換性が向上した表面処理装置、表面処理方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の表面処理装置は、フレキシブル回路基板１０の基材１を第１の方向（Ｘ方向）に搬送する搬送機構と、搬送機構に対向すると共に、第１の方向と交差する第２の方向（Ｙ方向）に配列した複数の薬液噴射部１０１Ｌ，１０１Ｃ，１０１Ｒと、複数の薬液噴射部１０１Ｌ，１０１Ｃ，１０１Ｒを第２の方向に往復移動させる移動機構１０６と、複数の薬液噴射部１０１Ｌ，１０１Ｃ，１０１Ｒからの薬液の噴射を制御する噴射制御部と、を備え、噴射制御部は、往復移動に伴って複数の薬液噴射部１０１Ｌ，１０１Ｃ，１０１Ｒにおける薬液の噴射条件を第２の方向における配列順に順次可変させた。噴射条件としては、噴射圧力、噴射流量、噴射タイミングが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】板体が、薄物（例えば厚み０．０６ｍｍ未満）搬送時であっても、板体の搬送性を確保しながら、表面処理を効率よく行うことができる水平搬送型表面処理装置を提供する。
【解決手段】板体５を上下のローラ１〜３で挟持し水平搬送しながら、板体に表面処理液を接触させて表面処理を施す装置において、スプレーにより液を噴射するスプレー領域２３と、このスプレー領域より下流にて板体に付着した液体を液切りする液切り領域２４を備え、上記スプレー領域が板体を搬送する搬送ローラ１を有し、上記液切り領域が板体を搬送し液切りする搬送ローラ２を有し、上記搬送ローラ１の径を搬送ローラ２の径よりも大とする水平搬送型表面処理装置。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送しながら基板に対し処理液を循環させつつ供給して基板を処理する場合に、循環経路を通して循環する処理液の濃度を正確に管理することができる装置を提供する。
【解決手段】循環経路を通して循環する処理液の濃度を測定する濃度モニタ１４を備え、処理槽１８内で搬送ローラ２４により搬送されつつ処理された基板Ｗに付着して処理槽外へ持ち出される処理液の量を、基板１枚当たりの処理液の持ち出し量と基板の処理枚数とから算出し、算出された処理液の持ち出し量および濃度モニタ１４によって測定された処理液の濃度に基づいて、循環経路の途中に補充すべき薬液の量を算出し、算出された補充量の薬液を循環経路の途中に補充する。 （もっと読む）

【課題】組み立てとメンテナンスが迅速に行える垂直輸送の薄板エッチング輸送装置の提供。
【解決手段】フレーム、伝動軸、フレーム両端に配置される腐蝕液スプレイ管、及び、フレームに穿架された垂直転送機構から構成される。垂直転送機構は、強圧伝送モジュールと軟圧伝送モジュールを交錯してなり、これらのモジュールは、フレーム内底壁の対応する位置から伸出する垂直ピンが嵌接する導引座を受け、穿軸により、伝動輪、輸送挟輪、支承輪、軸スリーブ、及び、ウォームギアの支承輪架を串設する。他に、伝動輪が輪動し、モジュール全体が輪輾を受けて、導引座を脱離するのを防止する外抵止片を設置する。穿軸により、受動輪、支承輪、支承輪、及び、軸スリーブのプリント回路板支承輪アセンブリを串接し、プリント回路板支承輪アセンブリは腐蝕液スプレイ管のノズルに迎向し、且つ、各支承輪は各支承輪間の上下に隔てて挟置される。 （もっと読む）

【課題】エッチャントをシャワーノズルから吹き付けてフィルムキャリアのウエットエッチングを行う場合に好適な、パターンピッチの微細化に伴う問題点を解決できるシャワー処理装置を提供する。
【解決手段】合成樹脂製フィルムの表面に配線パターン形成用の金属箔が形成されたフレキシブルテープ（フィルムキャリア）１に対して、エッチャントをシャワーノズル６から吹き付けてウエットエッチングを行うシャワー処理装置であって、フィルムキャリア１のシャワーノズル６が配置される側の面に存在するエッチャントに超音波振動を付与する超音波付与手段７を有する。 （もっと読む）

【課題】撹拌式ウェット製造工程機台の提供。
【解決手段】輸送システムと多数のジェットノズルを含む。該輸送システムは複数のローラーを含み、該各ローラーは該輸送システムの輸送ルートの上側と下側に位置し、該上、下側のローラーの間は板片状の加工待ち物を連動する。該ローラーはブレードを備え、化学薬剤を撹拌することができる。該ジェットノズルは輸送ルートの上方或いは下方に位置し、化学薬剤を加工待ち物上に噴射或いは補充する。 （もっと読む）

【課題】長尺なワークを処理する場合であってもダミーのワークを使用したりすることなく処理することができ、製造上の無駄を省き、多品種少量生産にも好適に対応できる搬送装置およびワークの処理方法を提供する。
【解決手段】ワーク２０の送り先側の前端にワーク２０よりも広幅に形成されたガイド板３０が取り付けられた被搬送品を、前記ガイド板３０とともに搬送するワークの搬送装置であって、前記ワーク２０を支持してワーク２０を前送りする搬送ローラ４０と、前記ワーク２０の搬送位置とは干渉しない位置に配置され、前記ガイド板３０を厚さ方向にクランプしてガイド板３０を前送りするクランプローラ５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】二つの動作を二つのリンクの差動で行うことにより、各リンク長の組み合わせで、浸漬深さを維持したまま設備を小型化することが可能な、湿式表面処理装置を提供する。
【解決手段】搬送機構部１３において、搬送歯車１８が１回転する間に上下動ケース２７が６回転する必要から、内歯歯車１７と遊星歯車２２のギア比が３：１、第１、第２伝達ギア２５，２６のギア比を２：１として、搬送歯車１８：上下動ケース２７の回転比を１：６とする設定とする。
また、前記搬送機構部１３により、差動動作を行うために、上記第１上下動歯車２８と第３上下動歯車３０とのギア比を１：２とする一方、第１揺動歯車３２と第３揺動歯車３４とのギア比を２：１とする設定とする。 （もっと読む）

【課題】筐体間の隙間からの処理液流出を防止することができる処理液供給装置を提供する。
【解決手段】処理液供給ノズル１は、所定間隔の隙間２を隔てて上下に対向配置された上部筐体１０および下部筐体２０を備える。上部筐体１０および下部筐体２０のそれぞれの側壁面には処理液供給部１２，２２および処理液排出部１５，２５が付設されている。処理液供給部１２，２２が隙間２の一方側から処理液を供給して処理液排出部１５，２５が他方側から吸引することによって隙間２に処理液流が形成され、ガラス基板ＧＳはその隙間２中を搬送される。下部筐体２０の上面２１には、ガラス基板ＧＳの先端部が支持コロ５０に接触して跳ね上がりが生じた場合であっても、隙間２の基板入口側に形成された処理液のメニスカスを維持できるようなピッチにて複数の支持コロ５０が配列されている。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い配線基板の製造方法、及び、エッチング装置を提供する。
【解決手段】配線基板の製造方法は、テープ状のベース基板と、ベース基板に設けられた金属層と、を有する基板１０を用意する工程と、基板１０を搬送しながら基板１０にエッチング液１００を噴射して金属層をエッチングする工程と、を含む。金属層をエッチングする工程では、基板１０の搬送方向にずれて配置された少なくとも２つの支持部材３２で基板１０を支持し、かつ、２つの支持部材３２の間であってエッチング液１００が噴射される領域内に配置された少なくとも１つのガイド部材３４で基板１０を押し下げることによって、基板１０の搬送径路を規制する。 （もっと読む）

【課題】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置の提供。
【解決手段】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置であり、それはパネルが垂直直立を呈する状態で、密封された作業タンク中に設置される。次にそのパネル上に、らせん状を呈してスプレーするエッチング液スプレーを使用してエッチングを行う。エッチング液が霧化することで、らせん状のスプレー気流となることにより、エッチング液をエッチングしたい表面全体へ均一にスプレー散布することができる。そのためエッチングの均一化を促進し、且つ連続的にエッチング表面へ新鮮なエッチング液がスプレーされるのを利用し、エッチング速度を増進するものである。 （もっと読む）