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Fターム[4M109EC03]の内容

半導体又は固体装置の封緘、被覆構造と材料 (27,768) | 材料特性 (3,974) | 耐クラック性、強靭性、耐衝撃性 (395)

Fターム[4M109EC03]に分類される特許

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【課題】太陽電池モジュールにおける太陽電池素子、光通信用の受光部、発光ダイオード(LED)等に使用されている透明封止材や、半導体パッケージと放熱板の接着剤等には、基板との密着性が不十分で界面が剥離するなどの不良が発生しやすいものがある。
【解決手段】メチル基およびフェニル基で修飾されたシロキサン重合体からなる主剤と硬化剤を混合し、プラスチック基板および金属電極からなる被着体表面に塗布し、加熱硬化させる有機無機ハイブリッド透明封止材。メチル基およびフェニル基で修飾されたシロキサン重合体からなる主剤に、有機金属化合物を硬化剤として添加し、フェニル基、アミノ基のいずれか一方または両方を含有するプライマーにより表面改質をした被着体に塗布後、300℃以下の温度で加熱硬化することにより、後工程および使用時の温度変化に伴う被着体からの剥離・クラックが発生しない透明封止材が得られる。 (もっと読む)


【課題】ブロム化エポキシ樹脂、アンチモン化合物を使用せずに、低コストながらも耐燃性に優れ、かつ流動性、耐半田性のバランスに優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)インデン骨格を有するエポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)無機充填剤とを含むことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物、並びに、その半導体封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物により半導体素子を封止してなることを特徴とする半導体装置。 (もっと読む)


【課題】耐熱性に優れ、リフロー炉を通過させて高温条件下に加熱処理を行っても曲げ強度等の機械的強度が低下することなく、更に優れた難燃性をも兼備したポリアリーレンスルフィド樹脂組成物、その製造方法、及び表面実装用電子部品を提供する。
【解決手段】ポリアリーレンスルフィド樹脂(A)、及びポリアミド(B)を必須成分とするポリアリーレンスルフィド樹脂組成物であって、該ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を示差走査熱量計(DSC)により、370℃まで一旦加熱し(昇温速度:20℃/分)、溶融状態にした後(保持時間:3分)、該ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を20℃/分の降温速度で120℃まで冷却した時に発現するポリアミド(B)の再結晶化ピーク温度が265℃以下であることを特徴とするポリアリーレンスルフィド樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】フォトカプラなどの光半導体装置の光伝送に必要な光透過性を有すると共に、耐リフロー性と吸湿ハンダ耐熱性にも優れた光半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた光半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、および無機充填材を必須成分とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂としてジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂をエポキシ樹脂の全量に対して5〜30質量%の配合量で含有し、無機充填材として溶融球状シリカを光半導体封止用エポキシ樹脂組成物の全量に対して80〜90質量%の配合量で含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】透明で、かつリフロー時においても透明性が低下しない硬化物を与える発光半導体素子被覆保護材として好適なエポキシ・シリコーン混成樹脂組成物及びこれを用いた発光半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)平均組成式:R1m2n(OH)SiO(4-m-n-a)/2(式中、R1は炭素原子数2〜8のエポキシ基を含む有機基であり、R2は独立に炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基又はフェニル基であり、m及びnは0<m<1、0<n<2及び1<m+n≦2を満たす正数であり、aは0<a<2を満たす数である。)で表され、2個以上のエポキシ基を有するオルガノポリシロキサン、(B)2個以上のエポキシ基を有し、ケイ素原子を含有しないエポキシ樹脂、(C)硬化剤、(D)第四級ホスホニウム塩を含む硬化触媒並びに(E)酸化防止剤、を含有するエポキシ・シリコーン混成樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】半田リフロー時の耐クラック性に優れた光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の(A)〜(C)成分を含有する光半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物である。そして、(C)成分であるポリアルキレンジオールの含有量が、(A)成分100重量部に対して5〜30重量部の範囲に設定され、かつ上記エポキシ樹脂組成物硬化体のガラス転移点以上の温度領域における貯蔵弾性率が3〜8MPaである。(A)下記の(a)をエポキシ樹脂成分〔(A)成分〕全体の60重量%以上含有するエポキシ樹脂。(a)常温で固形を示すエポキシ樹脂。(B)硬化剤。(C)平均分子量300〜1000のポリアルキレンジオール。 (もっと読む)


【課題】流動性と耐半田性とのバランスに優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)下記一般式(1)で表される、特定の溶融粘度および特定のL0/L1比を有するエポキシ樹脂と、(B)フェノール性水酸基を2個以上含む化合物と、(C)無機充填剤とを含むことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。


(但し、一般式(1)において、R1、R2は、夫々、炭素数1〜6の炭化水素基である。aは0〜4の整数、bは0〜3の整数であり、nは0〜20の整数である。) (もっと読む)


【課題】半導体パッケージの更なる小型化、高集積化に向けて、電子部品用接着剤を更に薄膜化した場合でも、冷熱サイクルの繰返しに対し、線膨張率が低く、寸法安定性に優れる電子部品用接着剤を提供する
【解決手段】エポキシ化合物と、硬化剤と、無機フィラーとを含有する電子部品用接着剤であって、前記無機フィラーの平均粒子径が100nm以下、最大粒子径が200nm未満であり、かつ、前記無機フィラーの含有量が30重量%以上である電子部品用接着剤。 (もっと読む)


【課題】半導体封止工程における連続生産性に優れ、且つ信頼性が良好な半導体封止用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂と、(B)下記一般式(1)で表される構造を有する化合物と、(C)無機充填剤とを含む半導体封止用樹脂組成物であり、前記(C)無機充填剤が全組成物中に86重量%以上、92重量%以下の割合で含まれる。
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【課題】硬化性エポキシ組成物から主として構成される光半導体パッケージ封止樹脂材料に、良好な透明性と高チクソ性と良好な耐クラック性とを同時に実現する。
【解決手段】 光半導体チップを半導体パッケージに封止するための光半導体パッケージ封止樹脂材料は、熱硬化性エポキシ組成物と疎水性スメクタイト粘土鉱物とを含有する。疎水性スメクタイト粘土鉱物は、親水性スメクタイト粘土鉱物をアルキルアンモニウムハライドとインターカレーション反応させて疎水化したものである。スメクタイト粘土鉱物としては、ベントナイト、サポナイト、ヘクトライト、バーミキュアライト、スチブンサイト、テニオライト、モンモリロナイト、またはノントロナイトが挙げられる。 (もっと読む)


【課題】フェースダウン方式で実装される半導体チップの裏面を保護する機能に加え、樹脂封止後のウエハの反りを矯正してウエハレベルでの半導体装置の反りを低減可能なチップ保護用フィルムを提供すること。
【解決手段】本発明のチップ保護用フィルムは、WL−CSP技術を用いた樹脂封止型半導体装置に用いられるチップ保護用フィルムであって、(A)バインダーポリマー成分、(B)エポキシ樹脂、(C)エポキシ樹脂の硬化剤、(D)シリカ、及び(E)染料及び/又は顔料を必須成分として含有し、(D)シリカの含有量が全体の50〜80質量%であり、且つ、(A)バインダーポリマー成分と(B)エポキシ樹脂の質量比〔(B)/(A)〕が2〜8の範囲である硬化性保護膜形成層12を有する。 (もっと読む)


【課題】基板パッケージ構造を提供する。
【解決手段】基板パッケージ構造であって、複数の基板切割道が交錯して定義される複数のチップキャリア110を表面上に有するパッケージ基板と、基板切割道上に設置し、チップキャリア110を環繞する複数の貫通孔130と、チップキャリア110のもう一面上に設置され、貫通孔130に近接する複数のモールド領域140と、からなる。チップキャリア110周縁に形成された複数のモールド凸部により、チップ、或いは、基板周辺の亀裂問題を改善する。 (もっと読む)


【課題】液状として使用可能であり、樹脂封止に際してクラック発生を抑制することが可能となり、かつ優れた耐熱性および耐光性を備えた光半導体素子封止用熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の(A)および(B)成分とともに、下記の(C)成分を含有する光半導体素子封止用熱硬化性樹脂組成物である。(A)トリグリシジルイソシアヌレートの3個のグリシジル基のうちの少なくとも一つが、酸無水物によりエステル化された有機基である変性トリグリシジルイソシアヌレート。(B)酸無水物。(C)ポリオルガノシロキサン。 (もっと読む)


【課題】 成形時の流動性、離型性、連続成形性が良好で、かつ耐半田リフロー性に優れた特性を有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 (A)ビフェニル型エポキシ樹脂(a1)及び/又はビスフェノール型エポキシ樹脂(a2)を含むエポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂系硬化剤、(C)カルボキシル基を有するブタジエン・アクリロニトリル共重合体(c1)、及び/又は、カルボキシル基を有するブタジエン・アクリロニトリル共重合体(c1)とエポキシ樹脂との反応生成物(c2)、並びに(D)ペンタエリスリトールテトラ脂肪酸エステル(d1)及び/又はジペンタエリスリトールヘキサ脂肪酸エステル(d2)、を含むことを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 着色が少なく、耐クラック性及び透明性に優れる硬化物を与えるエポキシ樹脂硬化剤、エポキシ樹脂組成物、その硬化物及び光半導体装置を提供する。
【解決手段】 多価カルボン酸無水物及び樹枝状高分子を含むエポキシ樹脂硬化剤。多価カルボン酸無水物が、下記一般式(1)で表される化合物であると好ましい。
【化1】


(一般式(1)中、R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子又は直鎖若しくは分岐状の炭素数1〜4のアルキル基を表し、R〜Rから選ばれる二つが結合して環を形成してもよい。) (もっと読む)


【課題】流動性、接着性、及び弾性率低減効果に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物、及びそれにより封止された素子を備える電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)シリコーン化合物を含有するエポキシ樹脂組成物であって、(C)シリコーン化合物が特定の化学式で示される化合物である、エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】硬化性を低下させずに流動性、耐半田リフロー性に優れる封止用エポキシ樹脂成形材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤及び(C)下記一般式(I)で示されるフタルイミド化合物を含有する封止用エポキシ樹脂成形材料に関する。


(一般式(I)中、Rは水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、置換基を有していてもよい一価の炭化水素基又は有機基を有するヘテロ基を示し、R〜Rは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又はアミノ基を示し、各々が同一であっても異なっていてもよい。) (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、耐半田性に優れたエポキシ樹脂組成物及び半導体装置を提供することにある。
【解決手段】本発明のエポキシ樹脂組成物は、半導体封止に用いるエポキシ樹脂組成物であって、(A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)無機充填材と、(D)メルカプト基とアルコール性水酸基を有する有機化合物であって、スルフィド結合、含窒素複素環を有しない有機化合物と、を含むことを特徴とする。また、本発明の半導体装置は上記に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物で、半導体素子が封止されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】流動性に優れ、温度サイクル試験時に生じる端子の接続部保護性向上及びチップへの低応力化が可能な高信頼性の半導体封止材用液状エポキシ樹脂組成物、及びこの液状エポキシ樹脂組成物の硬化物を素子と基板間に介在してなる高信頼性半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)液状エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)無機充填剤及び(D)可撓化剤を成分とする無溶剤型の液状エポキシ樹脂組成物であって、硬化前の揺変指数が25℃で1.0以下であり、硬化後の25℃での弾性率が9.0GPa以下であり、125℃〜−55℃での平均熱膨張係数が5.0×10−5/℃以下であり、25℃での破壊靭性が2.0MPa・m0.5以上である液状エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 硬化後に、耐熱性、及び耐クラック性に優れ、かつめっき液に対する耐久性を有する保護膜層用封止剤を提供することを課題とする。
【解決手段】 クレゾールノボラック型エポキシ樹脂と、フェノールアラルキル樹脂と、フェノール変性キシレン樹脂とを含むことを特徴とする保護膜層用封止剤である。 (もっと読む)


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