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Fターム[4M112EA03]の内容

圧力センサ (26,807) | 材料 (5,833) | 素子本体の構成材料 (5,244) | Si (3,147) | Si単結晶 (933)

Fターム[4M112EA03]に分類される特許

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【課題】梁部の損傷が抑制されたMEMSデバイスを提供する。
【解決手段】支持基板(11)と、該支持基板(11)から高さ方向に浮いた浮遊部(15)と、該浮遊部(15)と支持基板(11)とを連結するアンカー(30)と、を有するMEMSデバイスであって、浮遊部(15)は、錘部(17)、及び、該錘部(17)とアンカー(30)とを連結する梁部(20)を有し、梁部(20)は、錘部(17)の端部と連結される第1部位(21)、アンカー(30)と連結される第2部位(22)、及び、第1部位(21)と第2部位(22)とを連結する2つの連結部(23)を有し、平面形状が環状を成しており、連結部(23)は、平面形状が弧状を成し、2つの端部の内の一方が、第1部位(21)の端部と連結され、残りもう一つの端部が、第2部位(22)の端部と連結されている。 (もっと読む)


【課題】特性ばらつきの小さい電気機械変換装置及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】電気機械変換装置1は、第1電極4と、間隙5を隔てて第1電極4と対向して設けられた第2電極6を備える振動膜7と、振動膜7を支持する支持部8と、で構成されるセルを複数有する。間隙5の外周部に、間隙5との間で支持部8の一部を介在させて、振動膜7と支持部8との間の段差を小さくするための構造物10が設けられている。 (もっと読む)


【課題】セルを配置した基板を支持する支持部材に進入する弾性波を低減して、支持部材内で反射する弾性波による送受信特性の劣化を抑制することができる電気機械変換装置を提供する。
【解決手段】電気機械変換装置は、第2の電極105と間隙104を介して対向して設けられた第1の電極102を含む振動膜101を夫々有する複数のセル200を基板106上に備え、送信動作及び受信動作の少なくとも一方を行う。基板106は、支持部材110との間にスペーサー間隙112が形成されるように、スペーサー手段111を介して支持部材111により支持される。セルを備えた基板106の面とは逆側の基板106の裏面と、この裏面に対向した支持部材110の面と、の間にスペーサー間隙112が形成され、スペーサー間隙内は、均一の気体または液体で満たされた状態に保たれている。 (もっと読む)


【課題】マイクチップと回路素子を縦積みにした半導体装置の耐ノイズ性を向上させる。
【解決手段】カバー44と基板45を上下に重ね合わせることによってパッケージを形成する。カバー44に設けた凹部46の天面にはマイクチップ42が実装され、基板45の上面には回路素子43が実装される。マイクチップ42はボンディングワイヤ50によってカバー下面のパッド48に接続され、回路素子43はボンディングワイヤによって基板上面のパッドに接続される。カバー下面のパッド48に導通したカバー側接合部49と基板上面のパッドに導通した基板側接合部69は、導電性材料86によって接合される。ボンディング用パッド48及びカバー側接合部49の近傍において、カバー44内には電磁シールド用の導電層55が埋め込まれている。 (もっと読む)


【課題】気密信頼性の高い電子デバイス及びこの電子デバイスを備えた電子機器の提供。
【解決手段】物理量センサー100は、絶縁性を有する基板1と、基板1の主面1a側に配置されているセンサー素子2と、センサー素子2を内部空間7を介して覆い基板1の主面1aに接合されている絶縁性を有する蓋体3と、を備え、基板1の主面1aには、蓋体3との接合部分の外側に設けられたボンディングパッド4a,4b,4cと、センサー素子2とボンディングパッド4a,4b,4cとの間に設けられた配線部9a,9b,9cと、を含み、基板1及び蓋体3の少なくとも一方には、基板1と蓋体3とを接合するための導電性を有する接合パターンが設けられ、接合パターンは、配線部9a,9b,9cに平面視で交差する部分が開口した第1接合パターン10と、開口に隣在し、開口の幅よりも大きい第2接合パターン11a,11b,11cと、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【目的】 特に、Al−Ge共晶接合を有する接合部の接合強度を従来に比べて向上させることが可能なMEMSセンサを提供することを目的としている。
【解決手段】 第1基材21と、第2基材22と、第1基材21と第2基材22間に位置し、第1基材21側に形成された第1の接続金属層54と第2基材22側に形成された第2の接続金属層55とを共晶接合してなる接合部50と、を有して構成され、接合部50は、第1基材21側から第2基材22側にかけて、Ta層53、AlあるいはAl合金で形成された第1の接続金属層54、及び、Geで形成された第2の接続金属層55の順に積層されており、Ta層53の膜厚t1は、200Å以上1500Å以下の範囲内であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】回路チップの一面側にセンサチップを電気的に接続するとともに、回路チップの一面側に接続部材を設け、接続部材を介して回路チップを基台に支持してなるセンサ装置において、接続部材と基台とのはんだ接合性を向上させる。
【解決手段】接続部材は、Ag−Sn合金の焼結体よりなり、回路チップ20側から基台10側に向かって先窄まりとなるアスペクト比が1以上の円錐形状をなす円錐部材40であり、基台10の一面11に設けられたはんだ60により、円錐部材40の先端部42側と基台10とが接合されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、測定誤差が小さいと共に信頼性に優れる物理量センサを提供することを目的とする。
【解決手段】第1基板21と、第2基板31と、第1基板21と第2基板31との間に位置する機能層を有する物理量センサ1において、外部端子に電気的に接続される第1内部配線層37を有し、複数のアンカ部11〜12の少なくとも1つに対して、第1内部配線層37が第2金属層32を平面視で内包するように形成されており、前記第1金属層と前記第2金属層とが接合する面より外縁に位置する第3絶縁層34に設けられる一つまたは複数の接続孔を介して、第2金属層32と第1内部配線層37とが電気的に接続されてなる物理量センサ1。 (もっと読む)


【課題】複数のセンサー素子間での特性バラツキを抑制し、所望の歩留まりが得られる超音波アレイセンサーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】超音波アレイセンサーにおいて、センサー素子2は、圧電体層8の平面パターンが下部電極5の平面パターンよりも外側にはみ出しておらず、上部電極3の平面パターンが圧電体層8の平面パターンよりも外側にはみ出していない。下部電極引き回し配線6は、コンタクトホール13を介して下部電極5と電気的に接続され、コンタクトホール13の箇所を除いて圧電体層8の一面上に配置されている。上部電極引き回し配線4は、下部電極引き回し配線6の延在方向と交差する方向に延在して上部電極3と一体に形成され、圧電体層8の一面上に配置されている。 (もっと読む)


【課題】測定精度が高く、製作が容易で、安価に出来る振動式差圧センサを実現する。
【解決手段】ダイアフラムに設けられた振動子形歪ゲージを具備する振動式差圧センサにおいて、一方の面に振動子形歪ゲージ素子が設けられ他方の面がダイアフラムに相当する厚さに研磨されて形成されシリコンよりなるセンサ基板と、センサ基板の他方の面に一方の面が直接に接合されたシリコンよりなるベース基板と、ベース基板のセンサ基板との接合部に設けられセンサ基板に実質的にダイアフラムを形成し、異物の混入によりダイアフラムの可動範囲が制限されることなく且つ振動子形歪ゲージ素子の振動によって励起されるダイアフラムの振動に対して制動作用をなすための所定の隙間を有する凹部と、凹部に測定圧を導入する導入孔と、凹部に導入孔を介して圧力を伝搬しダイアフラムを制動するための流体とを具備したことを特徴とする振動式差圧センサである。 (もっと読む)


【課題】構造設計が容易であり、体格の増大と、熱応力による検出精度の低下とが抑制された半導体装置、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】母基板(10)と、母基板(10)に連結された複数の子基板(30)と、子基板(30)に形成された素子と、を有する半導体装置であって、母基板(10)と子基板(30)とを連結する連結部(50)を有し、複数の子基板(30)の内、ある子基板(30)に形成された素子は、互いに対向する可動電極と固定電極から成るコンデンサを有し、該コンデンサの静電容量変化に基づいて物理量を検出するセンサ部(40)であり、任意の子基板(30)と母基板(10)とを連結する連結部(50)と、任意の子基板(30)とは異なる子基板(30)と母基板(10)とを連結する連結部(50)とは、高さ方向の長さが異なり、複数の子基板(30)は、高さ方向に並んでいる。 (もっと読む)


【課題】気密リークを抑制することのできる半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】各チップ形成領域にそれぞれセンシング部19が形成された半導体ウェハ14aを用意すると共に、チップ単位に分割されることによりキャップ部20を構成するキャップウェハ20aを用意する。そして、半導体ウェハ14aとキャップウェハ20aとを真空下で貼り合わせて複数の気密室30を有する積層ウェハ50を形成する。その後、少なくともセンサ部10とキャップ部20との界面が露出するまで積層ウェハ50をチップ形成領域の境界に沿ってダイシングする。続いて、加熱してセンサ部10の一面とキャップ部20の一面との間に形成される隙間40に熱酸化膜41を形成する。 (もっと読む)


【課題】容量性トランスデューサとその製造及び動作方法を提供する。
【解決手段】第1ドーピング領域20と、該第1ドーピング領域20と反対の型のドーピング領域であり、第1振動部分32を含む第2ドーピング領域30と、該第1ドーピング領域と該第1振動部分32との間に備えられた、空間60と、を備えるトランスデューサ。第1及び第2ドーピング領域20,30は、一体である。第1振動部分は複数の貫通ホール40を含み、振動部分上に貫通ホール40を密封する物質膜50が備えられる。 (もっと読む)


【課題】検出感度を向上させることが可能な物理量センサーの提供。
【解決手段】加速度センサー1は、第1凹部11が設けられたベース基板10と、第1凹部11の上方に配置され、支持部23a,23bにより第1凹部11の深さ方向に揺動可能に支持されたセンサー部21と、を備え、センサー部21は、支持部23a,23bを境に第1部分21Aと第2部分21Bとに区分され、第1部分21A及び第2部分21Bに可動電極部を有し、且つ、第1部分21Aよりも質量が大きい第2部分21Bには、少なくとも先端側に貫通孔24が形成され、ベース基板10は、第1凹部11における可動電極部に対向する位置に固定電極部12,13を有し、且つ、固定電極部12,13よりもセンサー部21の先端寄りであって、センサー部21の先端側に対向する部分に、第1凹部11よりも深い第2凹部14が設けられている。 (もっと読む)


【課題】検出精度などの検出特性の向上が可能な物理量センサーの提供。
【解決手段】物理量センサー1は、ベース基板2と、ベース基板2の主面2aに設けられた固定部31,32と、連結部34,35と、可動部33と、可動部33に設けられた可動電極指361〜365と、ベース基板2の主面2aに設けられ、且つ、可動電極指361〜365に対向して配置された固定電極指381〜388と、を備え、固定電極指381〜388は、可動電極指361〜365の一方の側に配置された第1固定電極指382,384,386,388と、他方の側に配置された第2固定電極指381,383,385,387と、を有し、第1固定電極指(382など)は、ベース基板2の主面2a側に設けられた配線41に接続され、第2固定電極指(381など)は、配線42に接続され、配線41,42間には、配線41と配線42とを隔てるシールド部4が設けられている。 (もっと読む)


【課題】サポート部材を用いてマイクロフォンを形成するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】マイクロフォンを形成するための方法は、バックプレート、およびウェットエッチングの犠牲層の少なくとも一部分の上の可撓性の振動板を形成する。この方法は、ウェットエッチングのレジスト材料を追加し、ウェットエッチングのレジスト材料は、振動板を支持するように、振動板とバックプレートとの間に配置される。ウェットエッチングのレジスト材料の一部は、振動板とバックプレートとの間には配置されない。方法はその後、上述の追加の間に追加されたウェットエッチングのレジスト材料の一部を除去する前に、犠牲材料を除去する。その後、ウェットエッチングのレジスト材料は、犠牲材料の少なくとも一部が除去された後に、実質的にその全体が除去される。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板と絶縁基板とを接合した時に形成される密閉空間部の圧力を調整することの可能なMEMSセンサを得る。
【解決手段】シリコン基板4と、シリコン基板4の上下両面4a、4bに接合される一対の絶縁基板2、3と、シリコン基板4と絶縁基板2、3とを接合した時に形成される密閉空間部6とを備えたMEMSセンサ1において、絶縁基板2、3またはシリコン基板4の露出した外表面3bに、密閉空間部6と連通する貫通孔7を設ける。 (もっと読む)


【課題】スティッキングを抑制することができつつ、ストッパ部の破損を抑制することのできる静電容量式センサを得る。
【解決手段】錘部(可動電極)43と固定電極42の対向壁部43e、42eどうし、錘部43とばね部44の対向壁部43f、44fどうし若しくはばね部44の対向壁部44g、44gどうしのうち少なくとも何れか一つに、互いに相手側に向けて突出して錘部43が動作した際に当該錘部43の可動範囲を制限する一対のストッパ部50,50を設けるとともに、一対のストッパ部50,50を、線接触または面接触させるようにする。 (もっと読む)


【課題】加速度に応じて感度を変化させることができる信頼性の高い加速度センサを得る。
【解決手段】質量部5に可動電極6の一端が連結されている。質量部5及び可動電極6は、加速度に応じてシリコン基板1に対して変位可能である。固定電極7a,8aは、可動電極6の側面に対向して配置され、シリコン基板1に固定されている。容量・電圧変換回路12は、可動電極6と固定電極7aとの間の容量C11の変化と、可動電極6と固定電極8aとの間の容量C12の変化とを電気信号に変換する。固定電極7aは、固定電極8aよりも可動電極6に近く、可動電極6の変位量を規制するストッパとして機能する。固定電極7aと質量部5との距離は、固定電極8aと質量部5との距離とは異なる。 (もっと読む)


【課題】全体の大形化を抑えながらも、外部応力に起因する可動電極部の変形を効果的に防止する。
【解決手段】支持基板2上に絶縁層3を介して設けられた単結晶シリコン層4に溝を形成することにより、可動電極部6及び固定電極部7,8からなるセンサエレメント5を設ける。可動電極部6は、錘部6aから櫛歯状に延びる可動電極6dを有し、錘部6aの前後両端部に梁部6bを有すると共に、前端側に第1のアンカ部6cを有している。アンカ部6cの上面に、アルミ製の電極パッド9を設ける。アンカ部6cに、応力遮断用の2本のスリット12を単結晶シリコン層4全体が除去される深さで形成する。各スリット12は、アンカ部6cの左右の両側縁部から、電極パッド9の左右両端縁部を延ばした仮想延長線を横切る位置まで内側に延びている。スリット幅寸法cを5μm以上とする。 (もっと読む)


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