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Fターム[5C030AA08]の内容

電子源、イオン源 (2,387) | ビーム制御 (294) | 軸合せ (104) | 制御系 (34)

Fターム[5C030AA08]に分類される特許

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【課題】本発明は荷電粒子ビーム装置の自動軸合わせ方法及び荷電粒子ビーム装置に関し、画像データの分割をせずに高精度な軸合わせを行なうことを目的としている。
【解決手段】荷電粒子ビームの一部をプローブとして試料に照射する荷電粒子ビーム装置において、対物レンズの軸ずれを補正するために適切な観察倍率とエミッタ先端電位変化量とを選択し、エミッタ先端の電位を変化させた時の荷電粒子ビーム走査像の、エミッタ先端の電位を変化させる前の荷電粒子ビーム走査像に対する移動量を算出し、算出された移動量から対物レンズの軸ずれ量を算出し、対物レンズ前方に置かれた偏向器に対して対物レンズの軸ずれを補正するようにフィードバックをかけるように構成する。 (もっと読む)


【課題】
光学条件を変更した場合や、装置の状態変化によって荷電粒子線のビーム中心軸が移動した場合において、容易にビーム中心軸の調整を可能とする荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、一次荷電粒子線のビーム中心軸調整を偏向器(アライナー)で行う際に、前記アライナーの感度を計測する処理ステップ(1)と、前記一次荷電粒子線の中心と前記対物絞りの中心とのずれを検出する処理ステップ(2)を設け、前記処理ステップ(1)で計測したアライナー感度と前記処理ステップ(2)で検出したずれ量を用いて、前記一次荷電粒子線が前記対物絞りの中心を通過するように前記アライナー設定値を決定し、このアライナー設定値を用いてアライナーを制御する手段を設けていることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】短時間で容易に、かつ、精度良くアパーチャの中心軸の位置調整が可能な荷電粒子ビーム装置、及び、アパーチャの軸調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置1は、荷電粒子源9と、アパーチャ18と、対物レンズ12と、観察手段32と、アパーチャ駆動部19と、制御部30とを備える。制御部30は、荷電粒子ビームIを照射することで、試料Nの表面N1に複数のスポットパターンを形成させるスポットパターン形成手段33と、スポットパターンのスポット中心の位置、及びハローの幾何学的な中心位置を算出する解析手段34と、各スポットパターンにおけるスポット中心の位置とハローの中心位置とを結んだ線同士が交差する位置に基づいて調整位置を算出する調整位置決定手段35とを有し、調整位置にアパーチャ18の中心軸を移動させることでアパーチャ18の位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】本発明は走査型電子顕微鏡における電子レンズの自動軸調整方法及び装置に関し、電子レンズの軸調整を高精度で高速に自動で行なうことができる電子顕微鏡における電子レンズの自動軸調整方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子線2を発生させる電子線源1と、発生された電子線2の電流量を制御するコンデンサレンズ4と、前記電子線2をコンデンサレンズ4の軸に合わせるコンデンサレンズ用軸補正偏向器3と、電子線2を観察試料12上に2次元方向に走査する偏向器7と、電子線2を対物レンズ11の軸に合わせる対物レンズ用軸補正偏向器8と、電子線2を細かく絞って観察試料12に照射する対物レンズ11と、観察試料12から発生した信号或いは観察試料12に吸収される電流を検出して観察試料12の走査信号画像を取得する画像取得手段と、取得した走査信号画像を画像処理する手段とを有して構成される。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子ビームの軌道の調整作業を容易化して調整精度を向上させることができる軌道位置ずれ検出装置,組成分析装置及び荷電粒子ビームの軌道調整方法を提供すること。また,エネルギー分解能や散乱粒子の取得効率を容易に変更することができる組成分析装置を提供すること。
【解決手段】絞り部31と超音波モータ32と駆動軸33とを備えて構成された開口状態変更装置30により,基準ビーム軸上の所定の位置に配置され荷電粒子ビームを通過させる開口部31aの開口径(開口状態)を変更可能とする。
また,上記開口部31aを通過した或いは該開口部31aから外れた上記荷電粒子ビームの強度を測定し,該荷電粒子ビームの強度に基づいて上記荷電粒子ビームの軌道と上記基準ビーム軸との位置ずれの有無を検出する。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、上述のような画質の違いによる位置ずれ検出精度の低下を防ぎ、光学条件を変更した場合や光軸の経時変化によって荷電粒子線の状態が変化した場合においても、容易にかつ高精度に、光軸の自動調整を実現できる荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】
光軸調整用のアライメント偏向器の偏向条件を変化させる前に焦点評価、或いは調整を行うか、又はアライメント偏向器の偏向条件に応じた焦点調整量のテーブルを備え、アライメント偏向器の偏向条件を変化させたときに、前記テーブルに従い、焦点調整を行う荷電粒子線装置を提案する。 (もっと読む)


【目的】 外乱に対応しながらドリフト補正回数をさらに低減することが可能な電子ビームのビームドリフト補正方法を提供することを目的とする。
【構成】 期間を変更しながら各期間経過毎に電子ビームのビームドリフトを補正する期間単位のドリフト補正工程(S108)と、所定の外乱要素の値の変化が所定の変化量生じた場合に、前記期間経過に関わらず前記電子ビームのビームドリフトを補正する外乱単位のドリフト補正工程(S208)と、を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の光学系の光軸に垂直な平面内、もしくは少し傾斜した平面内における回転機構をもった装置の回転操作に伴って発生する観察・加工位置の移動の補正を簡便かつ高精度に実現すること。
【解決手段】荷電粒子線装置における試料ホルダー、絞り装置、バイプリズムなどの、当該回転機構の2次元位置検出器とコンピュータ制御による駆動機構を利用し、さらにコンピュータの演算能力を利用することによって該平面内の回転に伴う移動量を演算によって求め、これを相殺させる様に駆動、制御を行なう。また、ひとつの入力によって複数の回転機構を互いに関連をもって操作させる。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子ビームカラムの自動アライメント及び非点収差の自動補正を高精度でかつ短い時間で実施できるようにする。
【解決手段】ビームを絞りの2つのエッジに向けて偏向し、消光を得るために必要な信号から計算した補正偏向フィールドを偏向部に与えて自動アライメントを行なう。更に、加速電圧の変調(ウォブリング)によってデフォーカシングを行い、これにより生じた画像シフトに基づいて計算された信号を偏向部に与えて自動アライメントを行なう。更に、加速電圧と非点補正コイル励磁電流を変えながら測定した一連のフレームに対して鮮鋭度を評価し前記非点補正コイル励磁電流を最適値に設定して非点収差を自動補正する。 (もっと読む)


【目的】本発明は、磁界型あるいは静電型の1つあるいは複数のレンズから構成される荷電粒子光学系の軸合装置および荷電粒子光学装置に関し、レンズの軸合わせ時に悪影響を与えることなく簡単かつ正確に軸合わせし、かつ軸合わせ後は摩擦力で強固に自動的に固定して再移動を防止することを目的とする。
【構成】 レンズを一定方向に移動させる、圧電素子および摩擦力で固定すると共に一定方向に運動するロータから少なくとも構成される駆動ユニットと、進行波の電圧を駆動ユニットを構成する圧電素子に印加してレンズを移動させて軸合する手段とを備える。 (もっと読む)


【課題】ビーム位置補正装置において、ビーム条件の変更によるビーム位置の補正を行う。
【解決手段】ビーム位置補正装置1は、ビームの補正を行うために、ビーム位置を偏位させるビーム偏位手段23と、ビーム偏位手段23のビーム偏位量を調整してビーム位置の補正を行う補正手段10とを備えた構成とし、補正手段10は、ビーム条件とビーム位置補正量との関係に基づいて、ビーム条件に対応してビーム偏位量を定めることによって、あらかじめ求めておいたビーム条件とビーム位置補正量との関係に基づいてビームを偏位させ、ビーム条件の変更によるビーム位置の補正を行う。 (もっと読む)


【課題】 本発明はアライメント自動補正方法及び装置に関し、通常の操作員が収差補正器を意識せずに収差補正器のアライメントができるアライメント自動補正方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 試料表面像から荷電粒子ビーム形状を抽出する抽出手段11bと、抽出された荷電粒子ビームの形状の位置から装置の軸ずれ量を算出する算出手段11cと、算出された軸ずれ量に応じて収差補正器6又は対物レンズに対してフィードバックを自動でかけるフィードバック手段11dとを有して構成される。このように構成すれば、通常の操作員が収差補正器を意識せずに収差補正器のアライメントの自動補正を行なうことができる。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明は、対物レンズ等に対して軸調整を行うアライメント偏向器の偏向量を演算する演算手段を備え、当該演算手段には前記偏向量を演算するための複数の演算法が記憶され、当該演算法を選択する選択手段を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】イオン・ビーム光軸上に磁場が存在し、更に磁場が変動する場合でもイオン・ビームが試料上で同位体分離を生じることが無く、磁場が無い場合のビーム・スポット位置へ集束する集束イオン・ビーム装置を提供する。
【解決手段】補正磁場発生部10からイオン・ビーム3の光軸上に補正磁場を発生させ、外部磁場によるイオン・ビームの偏向を相殺する。 (もっと読む)


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