【課題】効率的にイオンミリング加工を行えるイオンミリング装置を提供する。
【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成室１０と、プラズマ生成室１０に連通する処理室４０と、プラズマ生成室１０から処理室４０へイオンビームを引き出す複数の引き出し電極２０，２１，２２と、複数の引き出し電極２０，２１，２２から選択された一つの引き出し電極をプラズマ生成室１０の開口部１８に移動させるスライドテーブル３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ビームを形成する目的に対して望ましい小さなエネルギー幅を得るために、荷電粒子ビーム・システム内でのプラズマとの容量結合を低減させる。
【解決手段】集束荷電粒子ビーム・システム用の誘導結合プラズマ源２００は、プラズマとの容量結合を低減させるため、プラズマ室１０２内に導電性シールド２０２を含む。この内部導電性シールドは、バイアス電極１０６またはプラズマ１０４によってプラズマ源と実質的に同じ電位に維持される。この内部シールドは、プラズマ室の外側においてより幅広いさまざまな冷却方法を使用することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低加速電圧でのイオン電流の制御を容易にしつつ、カソードに付着するリデポジションによる影響を抑制することを目的とするイオンミリング装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、イオンガンの内部に配置され、正電圧が印加されるアノードと、当該アノードとの間に電位差を発生させることによってイオンを発生させるカソードを備えたイオンミリング装置において、カソードは、前記ガス供給源によってガスが供給される空間と、前記イオンが照射される試料側の空間を分圧すると共に、前記イオンを通過させる開口を備え、当該開口を通過したイオンを試料に向かって加速させる加速電極を備えたイオンミリング装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶマスクの反射層の反射率を大幅に低下させることなく欠陥修正を行うこと。
【解決手段】水素イオンビームを発生する電界電離型イオン源と、水素イオンビームをＥＵＶマスク上に集束させ、走査照射するイオン光学系と、ＥＵＶマスクを載置する試料台と、ＥＵＶマスクから発生する二次荷電粒子を検出する検出器と、検出器の出力信号に基づいてＥＵＶマスクの観察像を形成する像形成部と、を有する装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】加速イオンを用いた低温プラズマ浸漬イオンにより様々な試片を加工処理する装置と方法を提供する。
【解決手段】本発明によるプラズマ浸漬イオンを用いた加工装置は、チャンバ内部に円筒形加工物が載置されると共に円筒形加工物の周囲を低温プラズマが囲むようになり、多重スロットを有する抽出電極を含む加工物蓋が円筒形加工物の周囲を覆ってプラズマから分離させ、スパッタリングを誘発するに十分な負電位が円筒形加工物と加工物蓋の抽出電極に付加されることにより、プラズマから出てきたイオンが抽出電極とプラズマとの間に形成されたシース内で加速され、抽出電極のスロットを通過して円筒形加工物に衝突して円筒形加工物の表面粗さを減少させる方式で行われ、本発明による加工装置及び方法は、大面積の円筒形基板、特に、マイクロまたはナノパターン転写技術のための基板表面を数ｎｍの表面粗さにする効果があり、単一または多重チャンバ内でプラズマ洗浄、表面活性、表面研磨、乾式エッチング、蒸着、プラズマ浸漬イオンの注入及び蒸着などの工程を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電界電離電極の先端部の損傷を抑えてその寿命の長期化を図ることができるイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源は、尖った先端１６を有する電界電離電極１０と、これを収容する容器２０と、対向電極３０と、例えば磁石３４，３６からなる磁場形成手段とを備える。容器２０は、微小開口２６を囲む先端部２４を有し、その微小開口２６から電界電離電極１０の先端１６が容器２０の外部に突出する位置に電界電離電極１０が配置される。対向電極３０は、容器２０の先端部と対向し、電界電離電極１０の先端１６の近傍に電界電離用の電界を形成する。磁場形成手段は、対向電極３０の面であって容器２０に対向する対向面３１の上に、微小開口２６の径方向と平行な方向に延びる磁力線を有するような磁場を形成して、電界電離電極１０と二次電子や負イオンとの衝突を抑止する。 （もっと読む）

【課題】グリッド交換時の出力特性の再現性、温度変化に伴う形状安定性、及び保管性に優れるハーフパイプ型グリッドを備えるイオンガンを提供する。
【解決手段】イオンガンにおいて、内部にプラズマを発生させる本体、本体内部からプラズマを引き出すためのグリッド、及びグリッドを本体との間に挟みこむ枠状の加速電極を備え、本体のグリッドに対向する端面が谷折状の湾曲面を有し、グリッドが平板グリッドからなり、本体とグリッドとの接面において湾曲面に一致する曲面をなすように装着される構成とした。 （もっと読む）

【課題】ノズルが動くのを抑制し、安定した適切なサイズ分布のクラスターイオンビームを得、かつクラスターイオンビーム電流を多く取れるように真空中で調整可能にする。
【解決手段】クラスター生成室１とビーム制御室２との間に配置されるスキマー７をＸＹステージ１０ａにプレート８を介して搭載し、スキマー７の位置をマイクロメータ１０ｂ，１０ｃで調整する。マイクロメータ１０ｂ，１０ｃは、真空チャンバー４０の外部に露出して配置されており、真空チャンバー４０の真空度を保持した状態でマイクロメータ１０ｂ，１０ｃを操作することができる。 （もっと読む）

【課題】ガスクラスターイオンビームのイオンビーム電流の大電流化を実現する。
【解決手段】中性のガスクラスターを電子衝撃により正にイオン化してガスクラスターイオンビームを発生する方法において、イオン化電子電流とイオンビーム電流の関係を示すカーブにおいてイオン化電子電圧が異なる２つのカーブが交差する交差点より大きいイオン化電子電流と、前記交差点より大きいイオン化電子電流領域でイオンビーム電流がより大きく増加するイオン化電子電圧の組み合わせを用いてイオン化する。 （もっと読む）

【課題】表面粗さを増大させることなく行うことができ、かつ表面を汚染させず、クリーンな表面状態を保つことができる固体表面の封孔処理方法を提供する。
【解決手段】固体表面の孔や溝の周囲から、孔や溝に向かって固体表面の構成物質を移動させることができる臨界照射角度より大きな照射角度で、ガスクラスターイオンビームを少なくとも孔や溝の周囲に照射することにより、ピンホール状の孔や溝状の傷などを有する固体表面の封孔処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 大電流のガスクラスターイオンビームを発生させる
【解決手段】 クラスター進行方向に沿ったイオン化手段を備え、クラスター進行方向に沿って設置されたスリット状または多孔状の引き出し電極を用いて、クラスター進行方向と垂直方向に電界をかけて、クラスターイオンビームを引き出す。
クラスターイオンビームは、イオン化後にクラスター流の方向に方向にクラスターイオンを引き出すことは、空間電荷のため大電流を引き出すことが困難である。本発明によれば、クラスター流と垂直方向にクラスターイオンを引き出すことで大電流を引き出すことを可能にする。 （もっと読む）

【課題】電子分光法及び電子分光を行う装置に関する。特に、試料から表面層を選択的に除去するために用いることのできる電子分光用イオン源に関する。
【解決手段】電子分光装置２は内部に試料台６を設置した超高真空容器４を備える。イオン銃８は超高真空容器４内に伸びており、多環式芳香族炭化水素イオンビーム１０を供給する。イオンビームは使用の際、試料台の上の試料に向けられる。光子源１２は、使用時に試料上に投射する光子ビーム１４を供給するのに適合している。真空容器４の内部には光電子分光器１６が設置され、使用時に試料から放射される電子１８を検出する。 （もっと読む）

【課題】モノマーイオンの影響を最小にして表面粗さを低減し、かつ照射エリア内を均一に平坦化する。
【解決手段】ガスクラスターイオンビームを用い、固体表面を平坦に加工する方法において、ガスクラスターイオンビームの照射過程の少なくとも一部の期間において固体表面の法線とガスクラスターイオンビームとがなす照射角度を７０度より大きくし、かつモノマーイオンを分離せずにガスクラスターイオンビームをレンズ機構によってフォーカスさせて照射する。 （もっと読む）

【課題】オフされているグリッドからのビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザが良好な中和効果を有する荷電粒子照射装置、これを用いた周波数調整装置及び荷電粒子制御方法を提供する。
【解決手段】イオンガン１１は、ガス導入部１１４よりＡｒガスを本体１１１内に導入し、フィラメント１１３とアノード１１２との間で直流熱陰極放電をおこし、Ａｒのプラズマを生成する。次に、２つ分割された構成を有する、分割加速グリッド１１６ａ、１１６ｂに、イオンを射出する方向に電圧勾配を与えて、イオンを射出させる。イオンビームをオフする側の分割加速グリッドに正電圧を印加し、更に減速グリッド１１７に負電圧を印加する。これにより、停止している側のグリッドからのイオンビームの漏洩を抑制し、更にニュートラライザの中和効果を良好とすることができる。 （もっと読む）

気体混合物中の複数のプロセス気体から形成されるガス・クラスター・イオン・ビームを制御する方法および装置。本方法および装置は、気体分析器（３０８、３６０、４１４、５０２、５５２）で気体混合物の組成に関係する気体分析データを測定し、検出されたパラメータに応じて作業対象物（１５２）の照射を修正することに関わる。気体分析データは、気体ソース（２３０、２３２）からガス・クラスター・イオン・ビーム装置（３００、３５０、４００、５００、５５０）に流れる気体混合物の組成のサンプルから、あるいはガス・クラスター・イオン・ビーム装置（３００、３５０、４００、５００、５５０）の真空容器（１０２）内の残留気体のサンプルから導出できる。

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【課題】長時間に渡りグリッド近傍においてグリッドの面に沿ったプラズマ密度の二次元分布を測定することができるイオン源の提供。
【解決手段】イオンが引出される方向における引出電極２５の上流側であって引出電極近傍の位置には、略棒状をなすプローブ２３が設けられている。プローブ２３は８本設けられ、各プローブ２３は、その軸方向が略円筒形状をなす放電容器２１の軸心方向に垂直の方向、即ちイオンが引出される方向に垂直の方向に指向し、放電容器２１の周方向に等間隔で配置されている。プローブ２３の先端部をなすコレクタの先端部２３Ｄは、略円筒形状をなす放電容器２１の半径方向においてそれぞれ異なる位置に配置され、基板１００１の表面をなす円の半径方向において、中心から周縁に至るまで１２ｍｍ刻みで等間隔で固定配置されている。 （もっと読む）

【課題】 異常放電を抑制し、安定してプラズマ発振が可能なイオンビーム処理装置を提供する。
【解決手段】 プラズマ生成空間を規定するプラズマ室１０と、プラズマ生成空間にプラズマを生成するための誘導電磁界を誘起するアンテナコイル１２と、アンテナコイル１２とプラズマ生成空間との間に、プラズマ室と大気との圧力隔壁として設けられた誘電体窓２２と、誘電体窓２２とプラズマ生成空間の間に配置される誘電体板２４と、プラズマ生成空間を挟んでアンテナコイル１２に対向する位置に配置され、プラズマ中のイオンを加速するための２枚以上の多孔引出電極３０とを含むイオンビーム源を備える。また、誘電体窓２２と誘電体板２４の間に配置され、互いに孤立した複数の第１導電配線と複数の第１導電配線の全てと一箇所で接続された第２導電配線を有するシールド電極２０を有する。 （もっと読む）

【課題】放電容器内におけるプラズマ密度分布を均一化できるイオン源の提供。
【解決手段】イオン源２は、開口２１ａが形成された放電容器２１と、放電容器２１外に設けられたコイル２２と、コイル２２に高周波電力を供給する高周波電源６１と、放電容器２１内に生成されたプラズマ中のイオンを開口２１ａから引出す引出電極２５と、を備えている。コイル２２は、放電容器２１外に設けられ、放電容器２１内に軸心が位置するように設けられている。コイル２２には、整合器６２を介して高周波電源６１が接続されている。放電容器２１内には、コイル２２の軸心上に位置する中心電極２３と、中心電極２３を囲むように配置される外周電極２４が設けられている。中心電極２３及び外周電極２４は、少なくとも一部がコイル２２内に位置するように設けられている。 （もっと読む）

【課題】超小型のイオン源を用いることによりイオン源を駆動するための不要な電力を削減し、異なるプロセスを同一の真空装置で同時に行うことを可能とし、多品種・少量のＭＥＭＳ製品の製造を簡便・安価に行える経済性に優れた超小型イオン源装置および集積型超小型イオン源装置を提供する
【解決手段】対向する二つのカソード電極６，７が、どちらかまたは両方にイオン引き出し用のメッシュ状の孔をシリコン基板１，３上に有している。アノード電極８が、各カソード電極６，７の中間部に配置され、中心部に開口があるシリコン基板２を有する。絶縁性のパイレックスガラス基板４，５が、各カソード電極６，７とアノード電極８間を絶縁する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で高輝度なイオンビームが得られるイオン源を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係るイオン源１０は、微小開孔２２を有し、内部に原料ガスが供給される容器２０と、ビーム軸Ｋ方向に沿って延びると共に先端が尖り、この先端を微小開孔２２に向けて容器２０内に配置される電界電離電極２３と、を備え、ビーム軸Ｋ方向と直交する共通の平面上での微小開孔２２の開孔面積２２ｓと電界電離電極２３の断面積２３ｓとの差であるガス噴出面積Ｇｓが電界電離電極２３の先端又は前記先端よりも僅かに基部側で最小になると共に他の位置では前記最小の面積よりも大きくなるように、容器２０の微小開孔２２を規定する内周面２２ａが形成されることを特徴とする。 （もっと読む）