【課題】 生産性を向上させることができる電気光学装置用基板ユニット、電気光学装置
、電気光学装置用基板ユニットの製造方法、電気光学装置の製造方法及び液晶装置の製造
方法を提供すること。
【解決手段】 マザー基板２とマザー基板３とを貼り合わせたときに、保持部材４と保持
部材５とが当接するようになっており、対向する基板に直接的に当接するようにはなって
いないため、保持部材４または保持部材５が熱変化により膨張・収縮した場合であっても
、対向する基板を圧迫することが無く、マザー基板２とマザー基板３との相対位置をずら
してしまうことが無い。 （もっと読む）

【課題】 画素面積が減少しても容量比を確保することが可能な電気光学装置の構造を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、電気光学物質１３０と、該電気光学物質の一側に配置された画素電極１１４と、該画素電極に接続されたスイッチング素子１１７と、前記電気光学物質を介して前記画素電極に対向する対向電極１２２とを有する電気光学装置において、前記画素電極に対して前記電気光学物質とは反対側に対向配置され、前記画素電極との間に補助容量を構成する容量電極１１２を設け、前記容量電極における少なくとも前記画素電極に対向する表面が凹凸状に構成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 画素面積が減少しても容量比を確保することが可能な電気光学装置の構造を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、電気光学物質１３０と、該電気光学物質の一側に配置された画素電極１１４と、該画素電極に接続されたスイッチング素子１１７と、前記電気光学物質を介して前記画素電極に対向する対向電極１２２とを有する電気光学装置において、前記画素電極に対して前記電気光学物質とは反対側に対向配置され、前記画素電極との間に補助容量を構成する容量電極１１２を設け、前記容量電極は、前記複数の画素電極に対向する領域に跨って一体に形成され、当該容量電極と、前記スイッチング素子と前記画素電極とを接続するコンタクトホールと、を絶縁する開口１１２ａを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 スペーサの安定性の向上を図った電気光学装置、そのような電気光学装置の製造方法、及びそのような電気光学装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】 表面に電極を備えた電気光学装置用基板と、当該電気光学装置用基板に保持された電気光学材料と、を含む電気光学装置において、
電気光学装置用基板上に、セルギャップを規定するための突起部と、基板面からの高さが突起部の高さよりも低い基部と、を含むスペーサを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

一実施形態において、電子デバイス、およびその製造方法、ならびにそれを含むデバイスおよびサブアセンブリが提供される。例えば、かかる電子デバイスは、第１の波長を有する第１の放射線に対して光活性であるように設計された第１の電子部品と、第２の波長を有する第２の放射線に対して光活性であるように設計された第２の電子部品と、第１および第２の電子部品に隣接する第１のミラースタックと、第１および第２の電子部品に隣接する第２のミラースタックとを含み、第１のミラースタックは第１の放射線を反射するように設計された第１の層のペアを含み、そして第２のミラースタックは第２の放射線を反射するように設計された第２の層のペアを含む。
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表示部に柔軟なシートを用いる電子ペーパであって、発光素子とスイッチング素子とを表示部に実装するとともに、駆動回路を上記表示部の一端側に位置する駆動部に実装する。表示部には動作周波数は低いが、柔軟性のある有機半導体よりなる発光素子とスイッチング素子が配置される。駆動部は硬度を高くすることができるので、Ｃ−ＭＯＳ等の動作周波数の高い半導体素子を配置する。上記の構成により、切り換え時間は比較的大きいが、データ設定時間を小さくできるので、鮮明な画像を得ることができる。
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【課題】 電気光学装置の画素を駆動するＴＦＴに代替するスイッチング素子を採用することにより、電気光学装置の製造コストの削減、製造工程及び構造の単純化を図る電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１０と、基板１０上に、第１強磁性層２４と第１強磁性層２４に対向配置された第２強磁性層２８と第１強磁性層２４と第２強磁性層２８との間に設けられた半導体層２６とを有するスイッチング素子３０と、基板１０上に、第１金属層３４と第１金属層３４に対向配置された第２金属層３と第１金属層３４と第２金属層３との間に設けられた絶縁層３６とを有する容量部６０と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

ピクセル式ディスプレイのための改良されたサブピクセル配列。ここで、黄色のサブピクセルが青のサブピクセルによって囲まれた十字型の要素がディスプレイの表面にわたって分布させらされる。さらに、赤と緑のサブピクセルは、前記十字型要素を含むピクセルの三つの隣接する行および三つの隣接する列から白色光が放出されるように配列されることができる。

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【課題】 ＴＦＴを備える発光装置において、光の色度を向上させつつも構成を簡便化するとともに、その製造効率を向上させる。
【解決手段】 発光装置１００は、ＴＦＴ２に接続された電極４と、該電極４に対向配置された電極９と、各電極４，９間に配設された発光層７とを有してなる発光素子７ａを複数有し、ＴＦＴ２は隣合う発光素子７ａの境界部に形成されてなるとともに、島状の半導体層１３と、半導体層１３上に発光素子７ａの形成領域まで跨って形成されたゲート絶縁層１５と、ゲート絶縁層１５上に形成されたゲート電極１２と、ゲート電極１２を含むゲート絶縁層１５上に発光素子７ａの形成領域まで跨って形成された層間絶縁層１８と、層間絶縁層１８上に形成されたソース電極１１、ドレイン電極１０とを有し、層間絶縁層１８が屈折率の異なる複数の透光性誘電体層１６ａ，１７ａを有してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の耐熱性・低熱膨張性・平滑性・絶縁性・光透過性の特性に加え薄型・軽量・耐衝撃性・フレキシブル性を兼備したディスプレイ用基板を提供する。
【解決手段】 ３０℃〜３００℃迄の熱膨張係数が１２×１０^−６／℃以下であり、且つ開口部が形成された金属材料でなる支持層と、光を透過する樹脂材料でなる光透過層の少なくとも２層が積層された積層体を具備するディスプレイ用基板であって、前記開口部は前記光透過層に到達するように形成されて成り、前記光透過層は表面粗さＲａ：０．２μｍ以下、Ｒｙ：1．５μｍ以下、リーク電流：１０^-１０Ａ/ｃｍ^２以下であるディスプレイ用基板である。 （もっと読む）

【課題】 色再現範囲を拡大するうえで、開口率の低下及びドライバ数の増加を抑制し、しかも解像度の低下を防ぐことができる表示装置及びそれにより構成されてなる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 画素あたりｎ個（ｎは、４以上の整数を表す。）のサブピクセルを含む画素により画像が構成される表示装置であって、上記表示装置は、（ｎ＋１）色以上のサブピクセルを含み、かつ各画素に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）のサブピクセルを必須として含む表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 液晶装置等の電気光学装置における基板サイズを縮小する。
【解決手段】
所定間隔で相対向すると共に平面的に見て少なくとも一辺において一方の基板（１０）が他方の基板（２０）より張り出している一対の基板を備える。一方の基板には、表示用電極を駆動する回路部が設けられ、前記一辺において張り出してなる張り出し部（２０１）における他方の基板と対向する側の面には、回路部と引出し配線（１０３ａ）によって電気的に接続された複数の外部接続端子（１０２ａ）が設けられている。外部接続端子は、平面的に見て、引き出し配線と少なくとも部分的に重畳するように設けられる。 （もっと読む）

平面光源１上の各画素用発光領域に対応して、液晶セル２ｂが形成されている。液晶セル２ｂ上には複屈折板３が設けられている。複屈折板３上には、量子ドット膜４が形成されている。量子ドット膜４は、各画素用発光領域上で、第１量子ドット膜４ａと、第２量子ドット膜４ｂとを有する。１フィールド期間中に、第１量子ドット膜４ａにだけ紫外線が導かれる状態、両ドット膜４ａ・４ｂに任意の割合で紫外線が導かれる状態、及び第２量子ドット膜４ｂにだけ紫外線が導かれる状態を形成することができる。したがって、各色用画素は、例えば赤色について、異なる赤色光を混合した赤色光を造り出せる。
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【課題】 第１の課題として、色度による表示のばらつきがない表示にでき、第２の課題として、光源の位置による輝度ムラがない表示にできる可変表示構造を提供すること。
【解決手段】 シート１０ｇの片面に施された、第１光源３の波長のみを透過させる第１印刷部分１０ｂと、シート１０ｇの第１印刷部分１０ｂを設けた面に施された、第２光源４の波長のみを透過させる第２印刷部分１０ｃと、シート１０ｇに施された、第１光源３の波長と第２光源４の波長を透過させない背景印刷部分１０ｅと、シート１０ｇに施された、第１表示１２と第２表示１３の重複する部分と重なる部分で、第１光源３及び第２光源４の光を抑制する調光印刷部分１０ｆとを備え、第１印刷部分１０ｂ、第２印刷部分１０ｃに、インキの量を段階的に変化させたグラデーション部を設けた。 （もっと読む）

【課題】時分割駆動によるデータ電位の書き込み精度やノイズに対する安定性を維持しつ
つ、配線構造の複雑化を抑制することのできる新規の電気光学装置及び電子機器を実現す
る。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、複数の画素に対応して設けられた複数のデータ線
と、複数のデータ線Ｘ１〜Ｘ８に対応して設けられた出力線ＤＯ１に複数のデータ線に供
給すべき画素の階調を規定する複数のデータ電位を時系列的に出力するように構成された
データ出力回路４１と、出力線の出力を時分割することで得られるデータ電位を複数のデ
ータ線に時系列的に書き込む時分割回路４２と、複数のデータ線間の少なくとも一部に配
置され、所定電位に導電接続されたシールド線１２と、複数のデータ線とシールド線との
間にそれぞれ接続された負荷容量１２，１３，１４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 クロムを用いないことにより環境に悪影響を与えることのない非線形抵抗素子、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 基材６ａと、基材６ａ上に設けられた非線形抵抗素子３３と、基材６ａ上に設けられ、非線形抵抗素子３３に接続される画素電極２４ａとを有している。そして、非線形抵抗素子３３が、基材側から第１金属層３６、絶縁層３７、及び第２金属層３８の順に積層されて形成され、画素電極２４ａが、多結晶化されたインジウム錫酸化物から形成されてなり、第２金属層３８が、モリブデン（Ｍｏ）を主成分として成る合金によって形成されるとともに、画素電極２４ａ上に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 電気配線等の所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法をそれぞれ提供する。
【解決手段】 一対の電気光学装置用基板と、その間に挟持される電気光学材料と、から構成された電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法であって、それぞれ電気光学装置用基板の表面に、反射抑制部を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 保護膜の除去を容易とすると共に、保護膜除去のための洗浄液による環境汚染を抑制しようとする保護膜付きガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１の少なくとも一面に保護膜を形成した保護膜付きガラス基板であって、前記保護膜は、水に溶ける材料からなる水溶性保護膜２である。これにより、保護膜は、水洗して除去することができ、人体にとっても安全であると共に環境汚染が抑制される。 （もっと読む）

【課題】耐破砕性を格段に向上した、薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕの群から選ばれた少なくとも一種の希土類元素を含み、さらに少なくともＳｉ元素とアルカリ金属元素を含有する酸化物系ガラスの表面部に圧縮応力層を形成した。希土類元素は、酸化物換算で１〜１０重量％、圧縮応力層はアルカリ金属イオン交換による化学強化によって形成される。酸化珪素とアルカリ酸化物からなるガラスの中に希土類酸化物を添加して高強度ガラス素材ＨＩＧとし、これに化学強化を施してガラス表面に化学強化層ＣＳＬを形成する。 （もっと読む）

【課題】 優れた電気伝導性を示すと共に、大気中で繰り返し高温加熱処理が施された場合であっても、優れた耐凝集性を示すフラットパネルディスプレイ用Ａｇ基合金配線電極膜を提供する。
【解決手段】 フラットパネルディスプレイ用の配線電極膜であって、Ｂｉを０．０１〜１．５ａｔ％含有し(Ｃｕ、Ａｕ及びＰｄよりなる群から選択される１種以上を合計で０．１〜１．５ａｔ％含んでいてもよい）、残部実質的にＡｇからなることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用Ａｇ基合金配線電極膜。 （もっと読む）