【課題】さらなる低温プロセス（３５０℃以下、好ましくは３００℃以下）を実現し、安価な半導体装置を提供する。
【解決手段】本発明は、結晶構造を有する半導体層１０３を形成した後、イオンドーピング法を用いて結晶質を有する半導体層１０３の一部にｎ型不純物元素及び水素元素を同時に添加して不純物領域１０７（非晶質構造を有する領域）を形成した後、１００〜３００℃の加熱処理を行うことにより、低抵抗、且つ非晶質な不純物領域１０８を形成し、非晶質な領域のままでＴＦＴのソース領域またはドレイン領域とする。 （もっと読む）

【課題】電気特性の変動が少なく、信頼性の高いトランジスタを提供する。また、電気特性の変動が少なく、信頼性の高いトランジスタを、生産性高く作製する。また、経年変化の少ない表示装置を提供する。
【解決手段】逆スタガ型の薄膜トランジスタにおいて、ゲート絶縁膜と、ソース領域及びドレイン領域として機能する不純物半導体膜との間に、微結晶半導体領域及び一対の非晶質半導体領域を有する半導体積層体を有し、微結晶半導体領域は、ゲート絶縁膜側の窒素濃度が少なく、非晶質半導体に接する領域の窒素濃度が高く、且つ非晶質半導体との界面が凹凸状である。 （もっと読む）

【課題】高い画素開口率と、更に広いＴＦＴ製造プロセスマージン、小さな周辺回路レイアウト面積、長い寿命、のいずれかを実現するアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】基板上に、チャネル層と、ソース電極・ドレイン電極と、第１の絶縁層と、第１の電極と、を有し、第１の電極は第１の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられた画素薄膜トランジスタと、基板上に、チャネル層と、ソース電極・ドレイン電極と、第２の絶縁層と、第２の電極と、第３の絶縁層と、第３の電極と、を有し、第２の電極は第２の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられ、第３の電極は第３の絶縁層を介してチャネル層と対向して設けられた薄膜トランジスタと、を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板。 （もっと読む）

【課題】封止が確実にでき、また、基板スペースを有効活用することができる有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】制御基板２の上面側に陰極３が設けられ、陰極３上に発光部５が設けられ、発光部５の上側には陽極７が設けられ、また、制御基板２の下面側には、発光部５の発光を制御する制御素子８と、有機ＥＬ素子１の外部から電力を受け取る二次コイル９と、二次コイル９からの電流を整流する整流回路２０と、陰極３にスルーホール１１により接続されるランド１０と、陽極端子１５にスルーホール１６を介して接続されるランド１４と、制御素子８と各ランド１０とを接続する配線１２と、制御素子８と二次コイル９とを接続する配線１３等が設けられて素子本体３０が形成されている。素子本体３０は、第一封止層１７及び第二封止層１８により完全に封止されている。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において、透過率が高く、スルーホールのテーパ角を所定の範囲に設定できる有機パッシベーション膜を実現する。
【解決手段】有機パッシベーション膜１０８に形成されたスルーホール１２０を介して画素電極１１１とＴＦＴのソース電極１０６が接続している。有機パッシベーション膜１０８の材料として分子量が４０００から２００００のアクリル系樹脂を基材とし、光酸発生剤を１〜６ｗｔ％含む化学増幅型感光性樹脂組成物を用い、スルーホールを形成するための露光、現像を行った後、ポスト露光、プリ焼成条件、本焼成条件を適切に行うことによって生産性が高く、透過率が大きく、所定のスルーホールのテーパ角θを有する有機パッシベーション膜を形成することが出来る。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いて信頼性の優れた半導体装置を提供することを課題の一とする。又は、酸化物半導体を用いて信頼性の優れた発光装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】酸化物半導体を用いたトランジスタのソース電極層又はドレイン電極層に接続された第１の電極と、第１の電極に重畳する第２の電極の間に発光物質を含む有機層を備えた半導体装置において、第２の電極から、水素原子を含む不純物（例えば水分）を還元して水素イオン、又は水素分子を発する活性な導電材料を排除すればよい。特に、水と反応して水素イオン、又は水素分子を発生し難い不活性な導電材料を用いて、酸化物半導体を有する半導体装置を構成すればよい。具体的には、酸化還元電位が標準水素電極に比べて大きい金属、酸化還元電位が標準水素電極に比べて大きい金属同士の合金、乃至酸化還元電位が標準水素電極に比べて大きい導電性の金属酸化物を用いて半導体装置を構成すればよい。 （もっと読む）

【課題】従来のブラックマトリックス層等を用いないことで、残渣の問題を解消して、コントラストの低下をなくすことができる情報表示用パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板と背面側とする絶縁性基板とを、基板間ギャップ確保用隔壁を介して対向させて形成した、基板間の情報表示画面領域内の空間に配置された表示媒体を、情報表示画面領域が透明な観察側とする絶縁性基板の内側面および背面側とする絶縁性基板の内側面にそれぞれ形成されている電極を用いて形成した電界で駆動させて情報を表示する情報表示用パネルであって、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャプ確保用隔壁４は透明であり、情報表示画面領域内に配置される基板間ギャップ確保用隔壁と絶縁性基板とを接合する接着材９は透明であり、背面側とする絶縁性基板の内側面の少なくとも透明な基板間ギャップ確保用隔壁との間には絶縁性の有色層３１が形成されている。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い酸化物半導体を用いたトランジスタを有する半導体装置を提供することを目的の一とする。フォトリソグラフィ工程を削減し、より高い生産性で歩留まり良く半導体装置を提供する。
【解決手段】第１配線と、第２配線と、第１配線及び第２配線の間に、第１配線及び第２配線より低電位な第３配線とを有し、第１配線と第３配線とはゲート電極層とソース電極層とが電気的に接続された第１トランジスタを介して電気的に接続され、第２配線と第３配線とはゲート電極層とソース電極層とが電気的に接続された第２トランジスタを介して電気的に接続され、第１配線、第２配線、第３配線の上方又は下方には、第１トランジスタ及び第２トランジスタの半導体領域に用いられる連続した酸化物半導体膜が設けられている。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものと
して、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を
有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線
上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第２の絶縁層
と、前記第２の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前
記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを
特徴としている。 （もっと読む）

【課題】キャパシタの面積が大きい発光装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】発光装置１００は、発光素子１１と、発光素子１１に接続されるとともに、発光素子１１に重なる位置に形成されたキャパシタ１８と、発光素子１１の一辺側に配置された第１駆動トランジスタ１６と、発光素子１１の他辺側に配置された第２駆動トランジスタ１７と、を備える。そして、第１駆動トランジスタ１６のゲート電極１６ｇと第２駆動トランジスタ１７のゲート電極１７ｇとは、キャパシタ１８の電極１８ａを介して電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】薄型固体封止をしてもレーザリペア時のダメージを抑制でき、ＥＬ発光特性が低下することなく長期間にわたり維持することが可能な有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上に、少なくとも、第一電極層、有機発光媒体層、第二電極層、パッシベーション層をこの順に積層して有機ＥＬ素子を形成する工程と、前記有機ＥＬ素子中の異物を検査する工程と、前記異物又は前記異物の接する範囲の前記第一電極層若しくは前記第二電極層に焦点を持つマイクロレンズを前記パッシベーション層上に形成する工程と、前記マイクロレンズを介してレーザを照射する工程と前記マイクロレンズを備えたパッシベーション層上に封止層を積層し、有機ＥＬ素子を形成する工程と、を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法としたもの。 （もっと読む）

【課題】 感光性絶縁膜を露光、現像して形成された絶縁層を有する液晶表示パネルにおける周期的な外観むらを低減する。
【解決手段】 感光性絶縁膜を露光、現像してなる絶縁層を形成する工程を有し、あらかじめ用意された数値データに基づく数値制御により生成される複数の露光パターンを前記感光性絶縁膜の異なる位置に同時に照射し、当該複数の露光パターンを排他的に走査することで当該感光性絶縁膜の全体を露光する表示装置の製造方法であって、前記数値データに基づき感光させないと判定される領域には、光を照射しない条件のときに前記感光性絶縁膜の各位置に照射される漏れ光の光量の総量のうちの最大値と同じ光量、または当該最大値より大きい光量の光を均一に照射する。 （もっと読む）

【課題】静電容量型のタッチパネル電極とカラーフィルタを同一の透明基板の表裏に形成し、かつ、ＸＹ電極の重なり部をジャンパーで形成を行なう、製品の品位低下が軽減した液晶パネル用のカラーフィルタ基板を提供し、且つ、検査機による検査を可能とした製造方法を提供する。
【解決手段】タッチパネル電極が、同一レイヤーに、X軸方向及びこれと直交するY軸方向に間欠的に配列される複数の第１の透光性電極と、X軸方向及びY軸方向に配列されると共に各々が第１の透光性電極の行間及び列間に配置される複数の第２の透光性電極とを備え、X軸方向に整列する第１の透光性電極の各々は、X軸方向及びY軸方向に配列される導電性材料からなる複数のジャンパーによって相互に電気的に接続され、このジャンパーは、基板表示面を垂直方向から見たときに透明基板裏面のブラックマトリックスと重なる所定の位置に形成されている。 （もっと読む）

【課題】配線の腐食による断線を防止することを目的とする。
【解決手段】表示装置は、表示領域４０と、表示領域４０を囲む額縁領域４２と、を含み、額縁領域４２に形成された絶縁層４４と、額縁領域４２で表示領域４０の外周の少なくとも一部を囲むように延びる配線５０と、を含み、配線５０は、絶縁層４４上に配置された第１配線５２と、幅方向の一部が第１配線５２上に載って幅方向の残りの部分が第１配線５２からはみ出して絶縁層４４上に載る第２配線５４と、を含み、第１配線５２と第２配線５４は、電気的に接続し、イオン化傾向の異なる材料からなる。 （もっと読む）

【課題】
表示装置の高解像度化や小型化、さらには画素の開口率の向上を行った場合でも、半導体層に入射する光を効果的に遮断し、ホトコン電流による表示品質の低下を防止することが可能な表示装置を提供すること。
【解決手段】
前記基板上に、第１絶縁膜と、ゲート電極と、ゲート電極の上層に形成された第２絶縁膜と、前記第２絶縁膜の上層に形成された半導体層とが積層され、前記第１絶縁膜は開口部を有し、前記ゲート電極は、前記開口部に倣って形成された窪みを有し、前記半導体層の全部、又は前記半導体層の端部は、平面的に見て前記窪みと重畳していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】印刷法にて、回路基板に容易にヴィアホールを開口できる回路基板の製造方法を提供する事。
【解決手段】基板上に第一導電体を形成する第一導電体形成工程を行い、次に第一導電体を被覆する様に第一絶縁膜を成膜する第一絶縁膜成膜工程を行い、次に第一導電体上の第一絶縁膜に貫通孔３２を開口して、第一導電体の表面を露出させる貫通孔形成工程を行い、次に第一導電体の表面を撥液化させる撥液化工程を行い、次に貫通孔３２以外の領域に前駆体樹脂を印刷し、印刷後に前駆体樹脂を硬化して第二絶縁膜を形成する第二絶縁膜形成工程を行う。 （もっと読む）

【課題】低電流、低電圧駆動が可能で発光寿命を飛躍的に延ばすことができる有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板２の上部に形成された画素トランジスタ１１〜１３と、画素トランジスタ１１〜１３を被覆するとともに、画素トランジスタ１１〜１３の電極１２Ｓ、１３Ｓの一部を露出させるコンタクトホール３２ｂ、３２ｃが設けられた絶縁膜３２と、絶縁膜３２の上部に設けられるとともにコンタクトホール３２ｂ、３２ｃを介して画素トランジスタ１１〜１３の電極１２Ｓ、１３Ｓと接続される第一電極４１と、第一電極４１が露出するような開口８を有する隔壁６と、第一電極４１上に形成された少なくとも一層からなる有機ＥＬ層４３、４４と、隔壁６及び有機ＥＬ層４３、４４上に形成された第二電極４５、４６と、を備える発光パネル１０である。 （もっと読む）

【課題】従来のＣＭＰを伴うダマシン法を用いた配線や電極の形成は、製造工程が煩雑であり高コスト化している。表示装置等の大型基板に配線形成を行うには平坦性等の高精度が要求されて好適せず、また研磨による配線材料の除去・廃棄量が多いという課題がある。
【解決手段】配線の形成方法及び配線を有する表示装置の形成方法は、基板上若しくは回路素子上に設けられた第１の金属拡散防止膜上に、金属シード層をＣＶＤ法により形成し、フォトレジストマスクを用いて選択的に無電解メッキ法、又は電解メッキ法により、金属配線層を形成し、金属シード層及び第１の金属拡散防止膜の不要領域除去と、金属シード層及び金属配線層及び第１の金属拡散防止膜の側面を含む表面を覆うように無電解メッキ法による第２の金属拡散防止膜の選択的な形成とにより配線及び電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】 電気泳動インクを気泡の混入なく均一に充填でき、電極基板間隔を均一に制御できると共に、接着剤への粒子混入を抑制して基板同士の剥がれからくる破損の防止が可能で高コントラストな電気泳動表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 第一の電極基板１０上に絶縁性の構造体１６，１６…からなる複数のセル１５，１５…を形成する工程と、少なくとも一種類以上の電気泳動粒子と溶剤とを含む電気泳動インク前駆体Ａを前記セル１５，１５…に充填する工程と、前記電気泳動インク前駆体Ａから５０℃以下の環境で溶剤を除去する工程と、粒子を含まない電気泳動インク前駆体Ｂを前記セル１５，１５…に充填する工程と、第一の電極基板１０と第二の電極基板２０を貼り合わせる工程と、を有することを特徴とする電気泳動表示装置３０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス表示装置に形成される平坦化膜に局所的な厚みの違いを設けてパネル構造を改善する。
【解決手段】一対の基板１，２と電気光学物質３とからなるパネル構造を有し、一方の基板１には薄膜トランジスタの集合と平坦化膜５と画素電極の集合とが形成されており、各画素電極には異なった表示色が割り当てられている表示装置の製造方法であって、平坦化膜５を形成する工程は、感光性材料から成る平坦化膜５を一方の基板上に塗工する塗工工程と、露光量の平面分布に変化をつけた状態で平坦化膜５の感光処理を行う露光工程と、感光した平坦化膜５を現像して平坦化膜５の厚さを露光量の平面分布に応じて異なるように加工し、以て、平坦化膜５の各画素電極に対応する部分の厚さを、各画素電極に割り当てられた表示色の波長に応じて異ならせる加工工程とを含む。 （もっと読む）