【課題】集積インピーダンスセンサを有するアレイ素子回路を備えるＡＭ−ＥＷＯＤデバイスを提供する。
【解決手段】アレイ素子回路は、駆動素子による駆動電圧の印加で制御されるアレイ素子と、上記駆動素子に上記駆動電圧を書き込むための書き込み回路と、上記駆動素子で存在するインピーダンスを検知するための検知回路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】エレクトロクロミック化合物の発色又は消色の高速応答性と画像ボケの低減を両立させたエレクトロクロミック表示素子の提供。
【解決手段】表示基板１０と、少なくとも一つの表示電極１１と、対向電極１４と、対向基板１５と、前記表示電極に接して設けられた少なくとも一つのエレクトロクロミック層１２と、前記エレクトロクロミック層と前記対向電極との間に設けられた電解質層１３と、を有するエレクトロクロミック表示素子１において、前記電解質層が、三次元架橋構造を形成したマトリックス樹脂１３２と、液晶化合物及び電解質の混合物を含み、前記液晶化合物及び電解質の混合物は、前記マトリックス樹脂中に連続相として分散しているエレクトロクロミック表示素子である。 （もっと読む）

【課題】透光性導電膜を配線や電極として備えるものにあって、透光性導電膜の抵抗を低減させることができる表示装置を提供することである。
【解決手段】
複数のゲート線と、前記ゲート線と交差する複数のドレイン線とを有し、画素の領域毎に、前記ゲート線とドレイン線とに接続される薄膜トランジスが形成される表示装置であって、前記ゲート線及び前記ドレイン線、並びに前記ゲート線又は前記ドレイン線から伸延される引き出し配線の少なくとも１つが透光性パターン化導電膜で形成され、前記透光性パターン化導電膜は、少なくとも、第１透光性パターン化導電膜と、前記第１透光性パターン化導電膜上に積層された第２透光性パターン化導電膜とから構成され、前記第２透光性パターン化導電膜は、前記第１透光性パターン化導電膜の側壁面を含む表面のみを被って形成される導電膜からなる表示装置である。 （もっと読む）

【課題】エレクトロクロミック層に電解質を浸透させることが容易なエレクトロクロミック表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本エレクトロクロミック表示装置は、表示電極とエレクトロクロミック層との積層体と、前記積層体の前記表示電極側又は前記エレクトロクロミック層側の何れか一方側に設けられた貫通孔を有する膜と、前記表示電極と対向する対向電極が設けられた対向基板と、を有する。 （もっと読む）

【課題】一対の基板間に電解液を注入、封止した後、銀薄膜と電解液との長期間の接触を回避して銀薄膜の特性劣化を回避し、これによって、表示ムラや駆動安定性の低下を回避する。
【解決手段】観察側のコモン基板上に透明電極としてのＩＴＯ膜を形成する（Ｓ２、Ｓ２１）。続いて、ＩＴＯ膜上にＡｇ薄膜を形成する（Ｓ２、Ｓ２２）。その後、観察側の基板と非観察側の基板との間に電解液を注入して封止する（Ｓ４）。そして、電解液を封止した後、６時間以内に、一対の電極間に電圧を印加して、Ａｇ薄膜を溶解させる一方、非観察側の基板上にＡｇを析出させる（Ｓ６）。 （もっと読む）

【課題】装置全体の大型を抑制できる基板処理方法を提供する。
【解決手段】供給された基板ＦＢに所定の処理を施し回収する基板処理方法であって、基板の一端を他端と接合して基板を無端状に形成する形成工程と、無端状の基板を搬送する搬送工程と、搬送された基板に所定の処理を施す処理工程と、所定の処理が施された基板を回収する回収工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属膜の上に、インジウムを含む金属酸化物からなる透明導電膜が積層された構造の導電膜パターンを良好に形成する。
【解決手段】弗酸を含む水溶液を用いて透明導電膜４０をエッチングし、そのエッチング側面４３をサイドエッチングしてレジスト膜５０の下に後退させる。次に、第２エッチャント７０でエッチングすると、レジスト膜５０の下面５２、エッチング側面４３、エッチング側面３３及び金属膜３０のエッチング底面３２で形成される領域に液溜まり７１が形成され、ラインＰ1→Ｐ2→Ｐ3のように、エッチング底面３２が下方向に後退しながら、透明導電膜４０のエッチング側面４３及び金属膜３０のエッチング側面３３も後退していくので、エッチング側面４３とエッチング側面３３とが連続した面一の面あるいはエッチング側面４３の方が後退した形状に形成される。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出法により吐出する液滴の着弾精度を飛躍的に向上させ、微細でかつ精度の高いパターンを基板上に直接形成することを可能にする。もって、基板の大型化に対応できる配線、導電層及び表示装置の作製方法を提供することを課題とする。また、スループットや材料の利用効率を向上させた配線、導電層及び表示装置の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】液滴吐出法による液滴の吐出直前に、所望のパターンに従い基板表面上の液滴着弾位置に荷電ビームを走査し、そのすぐ後に該荷電ビームと逆符号の電荷を液滴に帯電させて吐出することによって、液滴の着弾位置の制御性を格段に向上させる。 （もっと読む）

【課題】繰返し駆動での耐久性に優れ、且つ、画像にじみの少ない電気化学表示素子を提供する。
【解決手段】透明基板の表面に透明画素電極が形成された観察側の透明画素電極基板と、基板の表面に共通電極が形成され、透明画素電極基板に対向して配された非観察側の共通電極基板と、透明画素電極と共通電極の間に形成された電解質層と、電解質層の周縁に環状に形成され、該電解質層を密封するシール部材と、を有する電気化学表示素子であって、共通電極の電解質層の側の表面には、多孔質金属酸化物層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】従来のＣＭＰを伴うダマシン法を用いた配線や電極の形成は、製造工程が煩雑であり高コスト化している。表示装置等の大型基板に配線形成を行うには平坦性等の高精度が要求されて好適せず、また研磨による配線材料の除去・廃棄量が多いという課題がある。
【解決手段】表示装置の形成方法は、基板上に下地絶縁層を設け、その層上に配線パターンに沿った第１の銅拡散防止層を設ける。次に、その第１の銅拡散防止層上面に第１の銅拡散防止層の幅より僅かに狭い銅配線層を積層し、銅配線層の全表面を覆うように、第２の金属拡散防止層を設ける方法である。 （もっと読む）

【課題】銅を含む層とチタニウムを含む層とをエッチングする時に、非過水系のエッチング液を使用して工程の安定性を向上させる。
【解決手段】本発明は、薄膜トランジスタ表示板に対する発明であって、より詳細には、銅（Ｃｕ）とチタニウム（Ｔｉ）とをそれぞれ含む二重層配線に形成される薄膜トランジスタ表示板に関し、構造的にはチタニウムを含む層が銅を含む層より幅が広くて、チタニウムと銅とを共にエッチングする段階と、別にエッチングする段階とを含めて製造することを特徴とする。また、ゲート絶縁膜に段差が形成されている。 （もっと読む）

【課題】安定した電気的特性を有する酸化物半導体を用いた半導体装置を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】不対結合手に代表される欠陥を多く含む絶縁層を、酸素過剰な混合領域、又は酸素過剰な酸化物絶縁層を間に介して、酸化物半導体層上に形成し、酸化物半導体層に含まれる水素や水分（水素原子や、Ｈ_２Ｏなど水素原子を含む化合物）などの不純物を、酸素過剰な混合領域、又は酸素過剰な酸化物絶縁層を通過させて欠陥を含む絶縁層に拡散させ、上記酸化物半導体層中の不純物濃度を低減する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置を効率的に製造する。
【解決手段】
少なくとも第１の電極層表面を撮像して画像上から異物を検出し、当該異物に対して液状材料を塗布する修正装置６００を提供する。修正装置６００は、撮像カメラ６３１によって基板を撮像する撮像装置６０２と、撮像された画像から異物を検出して、その位置を特定する制御装置６０１と、異物が検出された位置に液状材料３４０を塗布する塗布装置６０３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】遷移金属の酸化物からなる正孔注入層上に、アルカリ溶液を用いるフォトリソグラフィ法にてバンクを形成したときに、正孔注入層の溶解などによるダメージを抑制することを目的とする。それにより、高品質な電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】遷移金属の酸化物からなる薄膜上に配置された感光性樹脂膜８２を、フォトリソグラフィプロセスにてパターニングして、有機樹脂層を形成する工程を含む、電子デバイスの製造方法であって、前記フォトリソグラフィプロセスにおいて用いる現像液は、テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドと、強酸の塩とを含む水溶液であり、かつｐＨが１０．５〜１１．５である、電子デバイスの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】安定した電気的特性を有する薄膜トランジスタを有する表示パネルを供えた電子書籍を提供する。また、画像の保持特性の高い電子書籍を提供する。また、高解像度の電子書籍を提供する。また、消費電力の低い電子書籍を提供する。
【解決手段】酸化物半導体中で電子供与体（ドナー）となる不純物を除去することで、真性又は実質的に真性な半導体であって、シリコン半導体よりもエネルギーギャップが大きい酸化物半導体でチャネル形成領域が形成される薄膜トランジスタによって、電子書籍の表示パネルの表示を制御するものである。 （もっと読む）

【課題】電子的に駆動されるディスプレイの外見およびアドレシング特性を向上させる、蓄電キャパシタのシステムおよび使用方法を提供すること。
【解決手段】キャパシタは、異なる画素をアドレシングするために用いられる電極の複数の部分の重複、またはアドレシングラインおよびコンダクタの重複によって形成されている。キャパシタ電極間に位置する絶縁層は、画素をアドレシングするために用いられるＦＥＴ内に存在する絶縁層と同一であり得る。向上したディスプレイアドレシングを達成するためのキャパシタの使用方法が開示されている。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を活性層とする薄膜トランジスタを備える有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板上のゲート電極及び下部電極を含む上部に第１絶縁層を形成し、第１絶縁層上に酸化物半導体で活性層を形成し、第１絶縁層上に酸化物半導体で上部電極を形成する段階と、活性層及び上部電極を含む上部に第２絶縁層を形成し、第２絶縁層上に活性層と連結されるソース電極及びドレイン電極を形成し、ソース電極及びドレイン電極を含む上部に有機物で第３絶縁層を形成し、第３絶縁層をパターニングしてソース電極又はドレイン電極を露出させ、水素（Ｈ）を含む洗浄液で洗浄する段階と、第３絶縁層上にアノード電極を形成し、アノード電極を含む上部に画素定義膜を形成した後、発光領域のアノード電極を露出させ、露出したアノード電極上に有機発光層を形成し、有機発光層上にカソード電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】細い線状の微細な薄膜パターンが精度良く安定して形成することができる薄膜パ
ターン形成基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。
【解決手段】基板表面に薄膜パターンが形成された基板Ｐであって、この基板Ｐは、機能
液Ｌを注入することができる液体注入部Ａ２と、機能液Ｌが流動するように接続して配置
された液体流動部Ａ１とが設けられている。これら、液体注入部Ａ２と液体流動部Ａ１と
の線幅において、液体注入部Ａ２の幅ｄが、液体流動部Ａ１の線幅ｂの２倍以下であり、
機能液Ｌの直径より大きい構成である。 （もっと読む）