【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された基板を作製するにあたって、光によるアライメントマークの検出を可能としつつ、アライメントマークを形成する時間を短縮させる。
【解決手段】基板に対してアライメントマークを形成する際の基板作製方法において、前記基板を覆うようにレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う露光工程と、前記描画又は露光されたレジスト層を現像し、凹凸からなるレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン形成工程後、前記レジストパターンを有する部分における基板の少なくとも一部に対してウェットエッチングを行い、前記一部におけるレジストパターンの凹部よりも大きく、且つ、光を用いて検出可能な大きさを有するアライメントマークを前記基板上に形成するアライメントマーク形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【解決手段】垂直磁気記録媒体が、基板、該基板上の下層、該下層上の中間層及び該中間層上の記録層を備える。この下層が、第一軟質下層、該第一軟質下層上の反強磁性的に結合されたＲｕ層、該反強磁性的に結合されたＲｕ層上の第二軟質下層、及び該第二軟質下層上の方位制御層を備え、この方法が、下層を形成する間、基板に負バイアス電圧を印加するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】検査条件がそれぞれ異なるグライド検査とサーティファイ検査を同時に行なえるようにする。
【解決手段】所定の回転数で回転中の磁気ディスクの記録面に沿って、サーティファイテスト用ヘッドと熱変形利用機構（マイクロ熱アクチュエータ）を備えたグライドテスト用ヘッドとを同時に移動させることによって、グライドテストとサーティファイテストを同時に行なう。グライドテスト用ヘッドは、磁気ディスクの回転数に応じて浮上高さが決定する。サーティファイテスト時の回転数に応じてグライドテスト用ヘッドの浮上高さが決定した場合に、グライドテスト用ヘッドに設けてある熱変形利用機構の変化量を調整してグライドテスト用ヘッドを所望の浮上高さとなるようにしている。これによって、グライド検査とサーティファイ検査を同時に行なうことができるようになる。 （もっと読む）

【課題】非晶質ガラス基板の研磨において、高い研磨速度で研磨でき、研磨後の基板表面の表面粗さ、ピット、及びキズの欠陥を低減でき、好ましくは、加えて低コストでガラスハードディスク基板を製造できる研磨液組成物の提供。
【解決手段】セリア粒子、シリカ粒子、及び水を含有する非晶質ガラス基板用研磨液組成物であって、前記研磨液組成物中におけるセリア粒子とシリカ粒子の合計含有量が４〜２０重量％であり、前記セリア粒子と前記シリカ粒子との重量比（セリア粒子／シリカ粒子）が５／９５〜３０／７０であり、ｐＨが４〜１２である、非晶質ガラス基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】表面の清浄度を高く維持しつつ、平滑性を優れたものとすることができる情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、原子間力顕微鏡を使用して、表面粗さ（Ｒａ）を１０μｍ四方の視野で１０視野以上測定した測定結果より算出される表面粗さ（Ｒａ）のばらつき率は、３％以下である。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ビットパターンを高密度に集積した場合にも，熱安定性と記録性に優れ，ビットパターンのトラック周期よりも広い記録素子及び再生素子の磁気ヘッドを用いることができるようにする。
【解決手段】円錐台状の記録ビットの下層に垂直磁気異方性の大きい熱安定層を，上層に飽和磁束密度の大きい高出力層を備える。外周部は高出力層を除去して熱安定性を向上した熱安定性領域２２とし，中心部は再生領域２１とする。また，外周部と中心部の間に垂直磁気異方性と飽和磁束密度を小さくした反転制御領域２３を設ける。 （もっと読む）

【課題】ガラスディスクの研削砥石及び又は研磨砥石を研削作業及び又は研磨作業に続いて装置内でドレッシングができるガラスディスクの製造装置を得る。
【解決手段】内周面砥石５０の駆動軸３１に外周面ドレス砥石６０を設け、且つ前記外周面砥石５１の駆動軸４１に内周面ドレス砥石６１をそれぞれ設け、前記内周面砥石の駆動軸に外周面ドレス砥石の駆動軸を兼用させ、且つ前記外周面砥石の駆動軸に内周面ドレス砥石の駆動軸を兼用させてなる。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が０．１〜５μｍのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の端面研磨装置間の移動やブラシの交換をすることなく、端面の加工傷を短時間で除去し、かつ端面を高品質に平滑化することが可能な端面研磨工程を提供する。
【解決手段】端面研磨工程では、回転自在の軸心３１ａと、剛性が相対的に高く、軸心３１ａからブラシ部の先端までの長さが相対的に短い第１ブラシ部３１ｃと、剛性が相対的に低く、軸心３１ａからブラシ部の先端までの長さが相対的に長い第２ブラシ部３１ｄとを有するブラシを用いてガラス基板の端面１３を研磨する。端面研磨工程は、第１ブラシ部３１ｃと第２ブラシ部３１ｄとをガラス基板の端面１３に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第１研磨段階と、ガラス基板の端面１３とブラシの軸心３１ａとの間の距離が第１研磨段階よりも長くなった状態で、第２ブラシ部３１ｄのみをガラス基板の端面１３に接触させてブラシを軸心周りに回転させる第２研磨段階とをこの順に含む。 （もっと読む）

【課題】情報記録装置に組み込まれた際の耐衝撃性に優れるとともに、高密度記録が可能な磁気記録層が形成されるガラス基板を得る。
【解決手段】表主表面１Ｆおよび裏主表面２Ｆを備え、情報記録装置１００に情報記録媒体１０として内蔵されるガラス基板１であって、表主表面１Ｆは、化学強化層６が形成され、ガラス基板１が情報記録媒体１０として情報記録装置１００に内蔵された状態において、情報記録媒体１０を固定するために上部クランプ部材２４によって押圧される被クランプ領域１Ｒと、被クランプ領域１Ｒよりも表主表面１Ｆの外周側に位置し、磁気記録層１Ｋが形成される磁気記録層形成領域１Ｓと、を含み、磁気記録層形成領域１Ｓにおいては、被クランプ領域１Ｒにおける化学強化層６の厚さよりも薄い化学強化層６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】目視検査や光学検査で検出困難なキズを検出可能とし、良品の損傷を抑制可能なガラス板の品質試験方法、ガラス板の品質試験装置を提供すること。
【解決手段】ガラス板１０に熱衝撃を与える処理工程を有するガラス板の品質試験方法であって、処理工程は、ガラス板１０を加熱する加熱工程と、ガラス板１０を冷却する冷却工程とを有し、処理工程において、ガラス板１０の少なくとも一部の温度変化幅が２００℃以上であって、加熱工程において、ガラス板１０の加熱温度の上限がガラス板１０の歪点−３４０℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の面取り部にピット欠陥がないガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面研磨に用いる研磨ブラシとして、植毛部の幅が、積層されたガラス基板同士の積層幅（ガラス基板とスペーサを合わせた厚み。スペーサを使用しないガラス基板積層体の場合はガラス基板の厚み。）の１．１〜２．２倍である研磨ブラシを用いる。研磨工程終了後、ガラス基板の表面を、フッ酸や硝酸等を含む酸性のエッチング溶液を用いて５μｍエッチングし、面取り部に残留する加工変質層（キズなど）を等方的にエッチングして観察しやすい大きさのピット欠陥にした後、光学顕微鏡を用いて観察する。磁気記録媒体用ガラス基板１０の面取り部において、直径（または長径）が１０μｍ以上の円形状または楕円形状を有する凹をピット欠陥とし、その数を計測した。計測結果の面取り部のピット欠陥数は、５個／ｍｍ^２以下である。 （もっと読む）

【課題】１つ以上のブロック共重合体および１つ以上のナノインプリントステップを製造プロセスに組込むことによってナノパターン化するための方法を提供する。
【解決手段】ブロック共重合体は有機もしくは無機成分で構成され得、層状、球状、または円筒状であり得る。その結果、５〜１００ｎｍの特徴ピッチおよび／または少なくとも１Ｔｄｐｓｉのビット密度を有する一次元もしくは二次元のパターンを有するパターンド媒体が形成され得る。 （もっと読む）

【課題】複数のガラス基板の板厚測定結果に基いて複数のガラス基板をグループに分け、グループに分けた複数のガラス基板をグループ毎に一度に精密研磨する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板を工程から抜き取ることなく、ガラス基板の板厚を非接触で精度よく測定する。
【解決手段】複数のガラス基板１０の板厚を測定する板厚測定工程と、板厚測定工程の測定結果に基いて複数のガラス基板１０をグループに分け、グループに分けた複数のガラス基板１０をグループ毎に一度に精密研磨する精密研磨工程とを含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、板厚測定工程では、ガラス基板１０に板厚方向に所定の波長帯域を有する光Ｌを照射し、ガラス基板１０の表面で板厚方向に反射した光ａと裏面で板厚方向に反射した光ｂとの干渉光を受光し、受光した干渉光を波長毎に分析することにより、光Ｌを照射したガラス基板１０の板厚を分光干渉によって測定する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面の表面状態を高いレベルで平滑に仕上げることができ、かつコストを抑制できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】円形ディスク形状のガラス基板１の表面に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板１を成形する工程と、ガラス基板１の端面に、遊離砥粒を含有した研磨液５０を供給するとともに、表面が隙間なく密集した回転ブラシ４を回転させながら接触させて、端面を研磨する工程と、を備える。 （もっと読む）