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Fターム[5D112AA24]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 磁気記録媒体の構造、形状、物性 (7,034) | 磁気記録媒体及び支持体の形状 (2,070) | ディスク(ハード、フレキシブル) (1,860)

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【課題】研磨レートを向上させ、うねり低減やロールオフ低減の目的で添加される中間アルミナにより生じるアルミナ固着を低減することのできる研磨剤組成物および磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨材、中間アルミナ、酸、酸化剤、および水を含み、さらに、(i)ホスホン酸基を二つ以上有する有機ホスホン酸キレート性化合物、(ii)分子中に繰り返し単位を有する分子量が500〜150000の高分子陰イオン界面活性剤、(iii)所定の構造のポリオキシアルキレン基を有する有機リン酸エステル型陰イオン界面活性剤、から選ばれる少なくとも一種である、研磨対象へのアルミナ固着を低減するアルミナ固着低減剤を含む。 (もっと読む)


【課題】ハードディスクガラス基板の加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上に有効な加工特性に優れた研磨スラリー並びに当該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑液組成物を提供する。
【解決手段】(A)、(B)、(C)及び(D)の成分を含むハードディスクガラス基板研磨用潤滑液組成物。
(A)炭素数6〜25で水酸基を2個以上有する脂肪族モノカルボン酸
(B)多価アルコール類
(C)アルカノールアミン
(D)水 (もっと読む)


【課題】磁気記録再生装置の信頼性を著しく高める磁気記録再生装置の制御方法、その制御方法を採用した信頼性の高い磁気記録再生装置、磁気記録媒体のサーティファイ検査に好適に使用される検査方法を提供する。
【解決手段】磁気記録再生トラックに高周波信号書き込みを行い、その後DCイレーズまたはACイレーズした後のエキストラ・パルス再生信号の検出によって、または、当該磁気記録再生トラックにおける高周波信号書き込み後のミッシング・パルスとスパイク・パルスの併発再生信号によって、特定の磁気記録再生トラックでの情報の読み書きを回避する磁気ヘッドの移動制御方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】 スパッタリング時にパーティクル発生を抑制可能なCr−Ti合金ターゲット材を提供することである。
【解決手段】 Tiを40〜60原子%含有し、残部Crおよび不可避的不純物からなるCr−Ti合金ターゲット材であって、スパッタ面のX線回折におけるCr相の(110)面の回折ピーク強度をA、TiCl化合物相の(311)面の回折ピーク強度をBとするとき、相対強度比B/Aが10%以下であるCr−Ti合金ターゲット材である。 (もっと読む)


【課題】パターン形成体と磁気記録媒体とが接触する際の傷の発生を抑制する。
【解決手段】磁気転写部は、固定ホルダ30に保持されたマスタ情報記録体200の傾きを調整する固定側傾き調整部70と、可動ホルダ40に保持されたマスタ情報記録体200の傾きを調整する可動側傾き調整部80と、固定ホルダ30側に可動ホルダ40を近づけ、固定ホルダ30側のマスタ情報記録体200と可動ホルダ40側のマスタ情報記録体200との間に、磁気記録媒体1を挟み込ませる駆動を行う可動ホルダ駆動部と、固定ホルダ30および可動ホルダ40で挟まれたマスタ情報記録体200、マスタ情報記録体200および磁気記録媒体1を挟んで配置される固定側磁石部材50および可動側磁石部材60と、を含む。 (もっと読む)


【課題】高いSNRを確保しつつ信頼性を向上することが可能な垂直磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスクの製造方法の構成は、基板上に、第1の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第1下地層を成膜する第1下地層成膜工程と、第1の圧力より高い第2の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第2下地層を成膜する第2下地層成膜工程と、第1の圧力より高く且つ第2の圧力よりも低い第3の圧力の雰囲気ガス下で、RuまたはRu合金を主成分とし酸化物を副成分とする第3下地層を成膜する第3下地層成膜工程と、第3下地層より上層に、柱状に成長したCoCrPt合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電子線描画法を用い、頂角を有する多角形状凹部を高精細度で形成することができるレジスト原盤の製造方法の提供。
【解決手段】(1)円形基板上にフォトレジスト層を形成する工程と、(2)基板を一方向に回転させながら電子線を照射してフォトレジスト層に複数のパターンを描画する工程と、(3)描画を行ったフォトレジスト層を現像液を用いて処理して、複数のパターンを複数の多角形状凹部に変換する工程とを含み、工程(2)において描画されるパターンのそれぞれは、少なくとも1つの多角形部と、複数の点状部または線状部との組み合わせであり、工程(3)における多角形状凹部と非相似の形状を有することを特徴とするレジスト原盤の製造方法。 (もっと読む)


【課題】溶融ガラスの金型への融着を抑制する。
【解決手段】ガラス基板の製造方法は、プレス面100Aを有する上型100と、上型100に対向配置され、プレス面220Aを有する周辺金型220とプレス面220Aよりも粗い略円形のプレス面210Aを有する中心金型210とを含む下型200とを準備する工程と、下型200上に溶融ガラスを供給する工程と、上型100と下型200との間で溶融ガラスをプレスして略円形のガラス基板を成形する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】グラニュラ構造の磁性層の磁性粒子を微細化し、また磁性粒子の粒界幅を広げ、今まで以上に高記録密度化に対応可能な電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】スパッタリング工程によって基板上にグラニュラ磁性層を形成した磁気記録媒体において、グラニュラ磁性層を、Co合金を含む複数の磁性粒子及び複数の磁性粒子を分離する酸化物から構成し、スパッタリング工程は、酸化コバルトを含み金属CrまたはCr合金を含まないターゲットを用いることにより、グラニュラ磁性層の磁性粒子の平均粒径を6nm以下、磁性粒子の平均粒界幅を1.5nm以上とする。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体に磁気転写する情報信号が書き込まれ、繰り返し磁気転写に使用できる使用可能回数が十分に多い耐久性に優れたマスター情報担体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体に磁気転写する情報信号が書き込まれた磁性層101と、最表面に配置された親水性樹脂からなる防汚層103とを備えるマスター情報担体Mとする。 (もっと読む)


【課題】研磨後の基板表面のうねりの低減を実現できるアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物等を提供する。
【解決手段】本発明のアルミノシリケートガラス基板用研磨液組成物は、シリカ粒子と、スルホン酸基を含有する重合体と、水とを含有し、前記スルホン酸基を含有する重合体のアルミノシリケートガラスに対する吸着定数が1.5〜5.0L/gである。前記スルホン酸基を含有する重合体は、芳香族環を有する重合体であると好ましい。前記スルホン酸基を含有する重合体の重量平均分子量は、3000〜100000であると好ましい。 (もっと読む)


【課題】1枚のマスター情報担体によって繰り返し転写できる合計の回数を大幅に向上させた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板の上に少なくとも磁性層が形成された磁気記録媒体と、情報信号に対応する転写パターンが形成されたマスター情報担体Mとを重ね合わせた後、マスター情報担体M側から外部磁界を印加しながら、マスター情報担体Mから磁気記録媒体へと情報信号を磁気転写する工程を含む磁気記録媒体の製造方法であって、磁気転写を行う際に繰り返し使用可能なマスター情報担体Mを用いると共に、このマスター情報担体Mをアルカリ洗浄剤を含む洗浄液を用いて洗浄する工程を設ける。 (もっと読む)


【課題】 下記1)〜3)を満足するガラスエッチング組成物、ガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法の提供。
1)研削性の向上: 研削性を高め表面粗さを低くし、電磁変換特性を向上させる。
2)スクラッチの低減: ハードディスク表面上のスクラッチ(傷)を減らし、収率を向上させる。
3)研削クズ除去性の向上: ハードディスク表面上の研削クズ付着量を減らし、収率を向上させる。
【解決手段】 アルカリ化合物と(1)分子中に3個以上のアルコール性水酸基を有するアルコール、(2)分子中に2個以上のアルコール性水酸基を有するアミン化合物及び(3)リン系キレート剤からなる群より選ばれた少なくとも1種の化合物とを含有する水溶液であることを特徴とするガラスエッチング組成物、これを利用するガラスポリッシング加工用組成物及びガラスポリッシング加工方法。 (もっと読む)


【課題】磁気転写を行う前の磁気記録媒体に異物が付着する確率を低減させ、且つ、磁気転写における磁気記録媒体の生産性を向上させる。
【解決手段】磁気転写部14は、サーボ・パターンが形成された3枚のマスタ情報記録体200を並べて保持する固定ホルダ30と、サーボ・パターンが形成された3枚のマスタ情報記録体200を並べて保持する可動ホルダ40と、固定ホルダ30側に可動ホルダ40を近づけ、固定ホルダ30側の3枚のマスタ情報記録体200と可動ホルダ40側の3枚のマスタ情報記録体200との間に、3枚の磁気記録媒体1をそれぞれ挟み込ませる駆動を行う可動ホルダ駆動部と、固定ホルダ30および可動ホルダ40で挟まれた3枚のマスタ情報記録体200、3枚のマスタ情報記録体200および3枚の磁気記録媒体1を挟んで配置される固定側磁石部材50および可動側磁石部材60とを含む。 (もっと読む)


【課題】基板を回転させる機構のコスト低減に寄与する基板回転装置を提供する。
【解決手段】センタ孔を有する基板9を回転させてキャリアに支持された基板9の支持位置を変化させる基板回転装置は、駆動源に連結され、進退動、上下動及び左右動が可能なシャフトと、シャフトの端部側に固定され、センタ孔内側の縁部分を載せて基板9を鉛直姿勢で支持するための、上方に開放された支持溝が形成されたピック32とを有してなり、ピック32の回転中心とピック32との距離は、シャフトの上下動に伴い変化させることでピックの回転前後でキャリアに対する基板の位置の変化を抑え、基板9のワイパー動作を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】アルカリアルミノシリケートガラスからなるガラス円板を、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いる研磨工程を経て情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法において、Raの小さい情報記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス円板の主表面をラッピングするラッピング工程と、その後に、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いて研磨する酸化セリウム研磨工程と、前記酸化セリウム研磨工程後に行われ、コロイダルシリカ砥粒を含むスラリーを用いて研磨するコロイダルシリカ研磨工程とを含む情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に使われるコロイダルシリカスラリーにおいて、コロイダルシリカ砥粒が、BET比表面測定法により求められるBET粒子径が40nm以下であり、BET粒子径(nm)/円形度で表される平滑度指数が50nm以下であるコロイダルシリカスラリー、及び前記コロイダルシリカスラリーを用いて製造された情報記録媒体用ガラス基板、並びに前記情報記録媒体用ガラス基板の主表面に磁気記録層が設けられた磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】本発明はガラス基板積層体を保持する作業を効率良く行えると共に、ガラス基板積層体の研磨を高精度に行えることを課題とする。
【解決手段】ワークホルダ10は、下枠部20と、上枠部30と、側枠部40とを一体に結合させたホルダ本体50を有する。下枠部20と、上枠部30と、側枠部40とは、夫々ステンレス等の金属により形成されており、溶接により一体化される。下枠部20及び/又は上枠部30の機械加工は、溶接終了後に行う。また、ホルダ本体50の上部には、上側保持部60と、位置決め部70とが設けられている。上側保持部60は、ホルダ本体50の上枠部30に取付けられ、ホルダ本体50内に収納されたガラス基板積層体を保持する。位置決め部70は、上側保持部60に取り付けられると共に、センタリングシャフトの上端を保持する。 (もっと読む)


【課題】潤滑油を磁気媒体に付着させる方法および装置を提供する。
【解決手段】1つの実施例における方法は、潤滑油を収容する貯槽にガスをポンプ注入するステップを含み得る。また、本方法は、ガスを、潤滑油から潤滑油分子を抽出する超臨界流体に変化させて、超臨界流体と潤滑油分子との混合物を生じさせるステップを含み得る。さらに、本方法は、潤滑油分子を磁気媒体上に付着させるために混合物を利用するステップを含み得る。 (もっと読む)


【課題】磁気転写を行う前の磁気記録媒体に対する異物の付着を抑制する。
【解決手段】磁気情報を記録する磁気記録媒体を移載部17によって磁気転写部14側に供給し、供給される磁気記録媒体を、サーボ・パターンが形成されたマスタ情報記録体のパターンの形成面と対峙した位置に位置決めし、マスタ情報記録体に吸着により磁気記録媒体を接触させて固定し、マスタ情報記録体に形成されたサーボ・パターンを、マスタ情報記録体に接触させた磁気記録媒体に、第1磁石部材50および第2磁石部材60を用いて磁気的に転写する。このとき、磁気記録媒体の供給、位置決め、マスタ情報記録体への吸着および接触、そして第1磁石部材50および第2磁石部材60の回転を行わせる各駆動部71〜78を、マスタ情報記録体および磁気記録媒体よりも下方に配置する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、酸化セリウムを砥粒として含有する研磨液や研磨パッドを用いずに、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨するガラス基板の研磨方法と、該研磨方法を用いた研磨工程を有するガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ガラス基板の主平面を平滑な鏡面に研磨する研磨工程において、研磨定盤の研磨面にはダイヤモンド砥粒を含む固定砥粒工具を設置し、該固定砥粒工具の研磨面でガラス基板を研磨したときの、ガラス基板の加工速度が1.5〜0.1μm/minであることを特徴とするガラス基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


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