【課題】基板を回転させながら効率よく冷却することができる技術の実現。
【解決手段】スパッタリング装置１００の真空容器１０１内部の基板を冷却するための冷却装置であって、前記基板Ｗを冷却する基板冷却台１０４と、前記基板冷却台を冷却する冷却機構１０２と、前記基板冷却台に冷却ガスを導入する冷却ガス供給部１１０，１１１と、前記基板を前記基板冷却台から所定の間隙だけ離間させた状態で保持し、当該基板を保持した状態で回転駆動される基板回転機構１０５と、前記基板回転機構を所定の回転数で回転駆動する駆動機構１０６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ｅビームリソグラフィの際に非伝導性基板を用いるテンプレートのに電子を消散することができるインプリントリソグラフィの方法および装置を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ方法は材料を伝導性基板のパターン化面上に生成するステップと、透明基板および伝導性基板を互いに押し付け、押し付けにより材料はパターン化面に整合するステップとを含む。エネルギは材料に与えられて、材料からパターン化された材料を形成する。透明基板および伝導性基板は分離され、パターン化された材料は透明基板に貼り付く。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大きくすることなく、基板への入射イオンビームの均一性を図ったイオンビーム発生装置を提供する。
【解決手段】放電槽２でプラズマを発生させ、引き出し電極７より環状のイオンビームを引き出し、偏向電極３０によって、該イオンビームを環状の中心方向に屈曲させて基板Ｗに対して、傾斜した方向から入射させる。 （もっと読む）

【課題】 磁性パターン間の磁気的干渉を分断してノイズを低減でき、しかも腐食の原因物質を含まない磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Ｃｏを含有する強磁性記録層からなる磁性パターンと、前記磁性パターン間を分断する非磁性層とを具備し、前記非磁性層は前記磁性パターンと同じ構成元素からなり、前記非磁性層のＣｏ濃度は前記磁性パターンのＣｏ濃度の６０％以下であり、前記非磁性層のＣｏ濃度は表面側よりも下地側で高い磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できるＮｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物であって、前記研磨液組成物は、研磨材、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、脂肪族アミン化合物又は脂環式アミン化合物、及び水を含有し、前記複素環芳香族化合物は、複素環内に窒素原子を２個以上含み、前記脂肪族アミン化合物又は脂環式アミン化合物は分子内に窒素原子を２〜４個含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の面取り部にピット欠陥がないガラス基板の提供を目的とする。また、ガラス基板の側面部と面取り部を生産性高く確実に研磨するガラス基板の端面研磨方法、および磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の内周端面研磨に用いる研磨ブラシとして、植毛部の幅が、積層されたガラス基板同士の積層幅（ガラス基板とスペーサを合わせた厚み。スペーサを使用しないガラス基板積層体の場合はガラス基板の厚み。）の１．１〜２．２である研磨ブラシを用いる。該研磨ブラシを使用した内周端面研磨により、磁気記録媒体用ガラス基板の面取り部に残留するキズを生産性高く確実に除去でき、面取り部のピット欠陥がない磁気記録媒体用ガラス基板を生産性高く提供できる。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】コロイダルシリカ、複素環内に窒素原子を２個以上含む複素環芳香族化合物、酸、酸化剤及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記コロイダルシリカは、ΔＣＶ値が０〜１０％であり、ＣＶ９０が１〜３５％であり、かつ、平均粒径が１〜４０ｎｍである磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れ、かつディスク形状の安定化を両立するデータ記憶媒体用ガラス基板及びその製造方法の提供。
【解決手段】基板用ガラスを混合溶融塩に浸漬し、該基板用ガラスの表面及び裏面に圧縮層を形成する化学強化処理工程を含むデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、基板用ガラスがアルカリ成分としてリチウムイオンを含有し、混合溶融塩が硝酸ナトリウム、硝酸カリウムおよび質量百分率表示で硝酸リチウムを１〜６％含有し、基板用ガラスを混合溶融塩に特定の温度範囲および時間の条件下で浸漬するデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンへのドーパントのドープ又はポリシリコンの成膜により基板上に導電化層を形成する導電化層形成工程と、前記導電化層上にレジスト層を形成して電子線により描画し、前記導電化層の表面が凹部に露出するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記導電化層を電流シード層として電鋳により前記レジストパターン上に金属めっき層を形成する電鋳工程とを備え、前記基板、導電化層及びレジストパターンを除去して前記金属めっき層をスタンパとする。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させる機構のコスト低減に寄与する基板回転装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る基板回転装置３０は、センタ孔を有する基板を回転させ、キャリア１０に支持された基板９の支持位置を変化させるものであり、駆動源に連結されて進退動及び上下動可能なシャフト３４の端部側に取り付けられ、シャフト３４の進退動に伴って基板９のセンタ孔に挿入することができるピック３２が、センタ孔の内側上部に第１の支持部４３と第２の支持部４１の２箇所で接することができるように構成されており、第２の支持部４１は、第１の支持部４３よりもセンタ孔中心の直上位置から離れた位置に接するとともに第１の支持部４３に対して弾性的に屈曲可能に接続されている。 （もっと読む）

【課題】本発明はサーボエリアを設定し、サーボエリア、データエリアのうち少なくとデータエリアの欠陥を検出できるパターンドメディア用ハードディスク検査装置及び検査方法を提供することにある。
【解決手段】本発明はサーボエリア及びデータエリアにパターンが形成されたハードディスク表面に２次元的に走査して照射し、前記ハードディスク表面からの散乱光を受光して前記ハードディスク表面の欠陥を検出する際に、前記散乱光のうちサーボエリアから第１散乱光に基づいてサーボエリアを設定し、前記設定結果から前記散乱光のうちデータエリアからの第２散乱光を抽出し、前記データエリアの欠陥を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サーボエリアおよびデータエリアの微細パターンの描画が基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に実行でき、一定ドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、電子ビームＥＢの照射をブランキング手段２４に対するオン・オフ信号によって制御し、ビーム偏向動作を偏向手段２２に対する偏向信号の出力によって制御し、サーボエレメント１３およびグルーブパターン１６またはドットパターンを走査して描画する際に、パターン形状を描画するためのパターン形状偏向信号に加えて、ビームスポットの周方向の相対線速度を調整する相対線速度偏向信号を偏向手段に出力し、サーボエリアでの相対線速度＞基板線速度＞データエリアでの相対線速度に設定して描画する。 （もっと読む）

【課題】固定砥粒の性能を十分に引き出して効率的にガラス基板の製造を可能とするガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削するラッピング工程と、ラッピング工程後、ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、を備えたガラス基板の製造方法であって、ラッピング工程は、遊離砥粒又は固定砥粒を用いてガラス基板の主表面を研削する１次ラッピング工程と、１次ラッピング工程における遊離砥粒又は固定砥粒の粒径よりも小さい粒径の固定砥粒を用いてガラス基板の主表面を研削する２次ラッピング工程と、１次ラッピング工程後、２次ラッピング工程前に、ガラス基板の主表面を超音波洗浄、スクラブ洗浄及び酸洗浄の少なくとも１つにより洗浄する洗浄工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、（ｉ）（ａ）８以上のモース硬さを有する第１の研磨粒子を５〜４５ｗｔ％、（ｂ）より小さな一次粒子の凝集体を含む三次元構造を有する第２の研磨粒子を１〜４５ｗｔ％、及び（ｃ）シリカを含む第３の研磨粒子を１０〜９０ｗｔ％含む研磨材と、（ｉｉ）液体キャリヤーとを含む、研磨用組成物を提供する。本発明はまた、（ｉ）上記の研磨用組成物を用意する工程、（ｉｉ）表面を有する基板を用意する工程、及び（ｉｉｉ）基板表面の少なくとも一部を研磨用組成物で削って基板を研磨する工程を含む、基板の研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に磁性層を形成する工程と、前記磁性層を部分的に除去し、その面上にＳｉＯ_２からなる非磁性層を形成する工程と、前記磁性層が表出するまで前記非磁性層に研磨加工を施す工程と、を含み、前記研磨加工は、前記非磁性基板を回転させながら、前記非磁性層の表面にセリアスラリーを供給し、走行する研磨テープを前記非磁性層の表面に押し付けることにより行い、前記セリアスラリーは、一次粒子の平均一次粒子径が０．０１μｍ〜１μｍの範囲内であり、平均二次粒子径が０．０５μｍ〜５μｍの範囲内である酸化セリウム粒子を含み、かつ、分散液として水系分散剤または水を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを適切に且つ高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層２の加工された面上を覆う非磁性層４の表面を磁性層２が表出するまで研磨する際に、磁性層２のうち最上層を構成する磁性粒子を、Ｃｒの含有量が５〜２４原子％のＣｏＣｒ系合金で形成し、非磁性層４を、Ｃｒの含有量が１５〜８０原子％のＣｏＣｒ系合金で形成することによって、磁性層２の表面に対して非磁性層４の表面が盛り上がったり、逆に凹んだりすることを防止し、これらの表面を連続的に平坦化することができる。 （もっと読む）

【課題】浮上ヘッドの浮上量を低減すると共に、その浮上ヘッドの耐久性を高める。
【解決手段】本発明の一実施形態の磁気ディスクの製造方法は、磁気ディスク１１を回転させ、回転している磁気ディスク上において浮上ヘッド１２の浮上を維持する。浮上ヘッド１２はスライダ本体１２１とトレーリング端面２１１に形成されている素子部１２２とを有する。素子部内におけるヒータ素子２２１にパワーを与えることで、スライダ本体１２１の一部を突出させて、素子部１２２が磁気ディスク１１から離間した状態で、スライダ本体１２１の一部と磁気ディスク１１とを接触させる。 （もっと読む）

【課題】 秩序立った核形成層を有する垂直型磁気記録ディスクおよび垂直型磁気記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と、基板上の下層と、下層の上に設けられ、粒状強磁性Ｃｏ合金とＳｉ、Ｔａ、Ｔｉ、およびＮｂの１つ以上の１つ以上の酸化物との連続層を備える垂直型磁気記録層と、下層と記録層との間に設けられ、記録層のＣｏ合金からなるアレイを備えた核形成層とを備える。 （もっと読む）

【課題】ゲートバルブの開閉動作に伴う振動の発生を抑制しながら、このゲートバルブの開閉動作を高速で行うことを可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】シリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向の端部に到達する直前に、第２の開閉バルブ１１７ａを全閉することによって第２の流量調整バルブ１１７ｂのみで排気する一方、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向の端部に到達する直前に、第１の開閉バルブ１１６ａを全閉することによって第１の流量調整バルブ１１６ｂのみで排気する。これにより、シリンダ１１５の端部とピストン１１４との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】表面平滑度が高くヘッド浮上特性に優れた有用な磁気記録媒体を高い生産性で製造することを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に磁性層３を形成した後、磁性層３に部分的にイオンを注入することによって、この磁性層３のイオンを注入した箇所の磁気特性を改質して磁気的に分離された磁気記録パターン３ａを形成する磁気記録媒体３０の製造方法であって、磁性層３に部分的にイオンを注入する際に、磁性層３の表面に炭素膜を形成し、炭素膜の厚みをパターニングにより部分的に薄くした後、この炭素膜を薄くした箇所を通して磁性層３に部分的にイオンを注入する。 （もっと読む）