インライン式成膜装置、磁気記録媒体の製造方法、及びゲートバルブ
【課題】ゲートバルブの開閉動作に伴う振動の発生を抑制しながら、このゲートバルブの開閉動作を高速で行うことを可能としたインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】シリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向の端部に到達する直前に、第２の開閉バルブ１１７ａを全閉することによって第２の流量調整バルブ１１７ｂのみで排気する一方、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向の端部に到達する直前に、第１の開閉バルブ１１６ａを全閉することによって第１の流量調整バルブ１１６ｂのみで排気する。これにより、シリンダ１１５の端部とピストン１１４との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。
【解決手段】シリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向の端部に到達する直前に、第２の開閉バルブ１１７ａを全閉することによって第２の流量調整バルブ１１７ｂのみで排気する一方、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向の端部に到達する直前に、第１の開閉バルブ１１６ａを全閉することによって第１の流量調整バルブ１１６ｂのみで排気する。これにより、シリンダ１１５の端部とピストン１１４との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数のチャンバの間で成膜対象となる基板を順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置、このインライン式成膜装置を用いた磁気記録媒体の製造方法、並びにこのインライン式成膜装置の複数のチャンバの間で通路の開閉を行うゲートバルブに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の分野においては記録密度の向上が著しく、特に最近では、記録密度が１年間で１．５倍程度と、驚異的な速度で伸び続けている。
【０００３】
このような磁気記録媒体は、例えば非磁性基板の両面又は片面に、シード膜、下地膜、磁気記録膜、保護膜及び潤滑剤膜が順次積層された構造を有しており、一般的には、キャリアに保持された基板を複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置を用いて製造される（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００４】
具体的に、インライン式成膜装置は、成膜処理を行う複数のチャンバがゲートバルブを介して接続された構造を有している。また、各チャンバ内には、水平軸回りに回転自在に支持された複数のベアリングがキャリアの搬送方向に並んで設けられており、これら複数のベアリングの上をキャリアが移動することが可能となっている。
【０００５】
一方、キャリアは、複数のホルダを有しており、これらホルダには、基板を内側に配置する孔部と、この孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の保持爪とが設けられている。そして、ホルダは、複数の保持爪に基板の外周部を当接させながら、これら保持爪の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能となっている。
【０００６】
また、インライン式成膜装置では、各チャンバの間に設けられたゲートバルブによってキャリアが通過する通路を開閉する動作が行われる。具体的に、ゲートバルブは、上述した通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、これら一対の隔壁の間で移動操作される弁体とを有している。そして、このゲートバルブでは、エアシリンダ等の駆動機構により弁体が通路を分断する方向に移動した後に、弁体が一方の隔壁に接触する方向に傾動する動作によって、成膜処理中に開口部を閉塞することが可能となっている。一方、この動作とは逆の動作によって、キャリアの搬送中に開口部を開放することが可能となっている。さらに、このようなゲートバルブは、各チャンバの間に２つ配置されており、他方の隔壁に設けられた開口部も同様に開閉することが可能となっている。
【０００７】
そして、このインライン式成膜装置では、各チャンバをゲートバルブによって隔離した後、チャンバ内を減圧することで、各チャンバ内をそれぞれ独立した圧力条件下にして成膜処理を行うことが可能である。
【０００８】
磁気記録媒体は、このようなインライン式成膜装置を用いて連続的に製造を行うことができ、処理基板のハンドリングに際して基板が汚染されることが無く、さらにハンドリング工程等を少なくして製造工程を効率化し、製品歩留まりを良くして磁気記録媒体の生産性を高めることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−２８８８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、上述したインライン式成膜装置では、磁気記録媒体の生産性を高めるため、ゲートバルブによる開閉動作を高速化することが求められている。しかしながら、従来のインライン式成膜装置では、ゲートバルブの開閉速度を上げることによって、ゲートバルブに大きな振動が発生することがあった。
【００１１】
具体的に、従来のゲートバルブでは、上記弁体の駆動機構にエアシリンダを用いている。この場合、エアシリンダの駆動エア圧を高めることによってゲートバルブの開閉速度を上げることができるものの、ゲートバルブに大きな振動が発生することになる。
【００１２】
インライン式成膜装置では、このようなゲートバルブの高速開閉動作に伴う振動によって、ゲートバルブの寿命低下を招くことになる。また、このような高速開閉動作に伴う摩耗の発生によりチャンバ内が汚染されてしまう。さらに、このような高速開閉動作に伴う振動によって、チャンバ内で舞い上がったダストが基板に付着したり、その振動により上記ホルダから基板が脱落したり、上記保持爪との擦れにより基板が傷付いたりすると、製造される磁気記録媒体の品質低下を招くことになる。
【００１３】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、ゲートバルブの開閉動作に伴う振動の発生を抑制しながら、このゲートバルブの開閉動作を高速で行うことを可能としたインライン式成膜装置、並びにそのようなインライン式成膜装置を用いた磁気記録媒体の製造方法、そのようなインライン式成膜装置に用いて好適なゲートバルブを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、以下の手段を提供する。
（１） 成膜処理を行う複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内で成膜対象となる基板を保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構と、
前記複数のチャンバの間に設けられて、前記キャリアが通過する通路を開閉するゲートバルブとを備え、
前記ゲートバルブは、前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気する一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気することを特徴とするインライン式成膜装置。
（２） 前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする前項（１）に記載のインライン式成膜装置。
（３） 前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする前項（２）に記載のインライン式成膜装置。
（４） 前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有して、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする前項（２）又は（３）に記載のインライン式成膜装置。
（５） 前項（１）〜（４）の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記基板の表面に少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（６） 複数のチャンバの間で通路の開閉を行うゲートバルブであって、
前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気する一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気することを特徴とするゲートバルブ。
（７） 前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする前項（６）に記載のゲートバルブ。
（８） 前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする前項（７）に記載のゲートバルブ。
（９） 前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有し、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする前項（７）又は（８）に記載のゲートバルブ。
【発明の効果】
【００１５】
以上のように、本発明に係るインライン式成膜装置では、シリンダ内のピストンが一の方向の端部に到達する直前に、第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気する一方、シリンダ内のピストンが他の方向の端部に到達する直前に、第１のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気することで、ゲートバルブの開閉動作に伴う振動等の発生を抑制することが可能であり、これによってキャリアに保持された基板に傷等が生じたりすることを防ぐと共に、ゲートバルブの開閉動作を高速で行うことが可能である。
【００１６】
また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法では、このようなインライン式成膜装置を用いることによって、磁気記録媒体の製造能力を高めると共に、高品質の磁気記録媒体を製造することが可能である。
【００１７】
また、本発明に係るゲートバルブでは、振動の発生を抑制しながら、通路を高速で開閉することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明を適用して製造される磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
【図２】磁気記録再生装置の一例を示す断面図である。
【図３】本発明を適用したインライン式成膜装置の構成を示す平面図である。
【図４】本発明を適用したインライン式成膜装置のキャリアを示す側面図である。
【図５】本発明を適用したインライン式成膜装置の要部を示す側面図である。
【図６】本発明を適用したインライン式成膜装置の要部を示す断面図である。
【図７】ゲートバルブの構成及び動作を説明するための図であり、弁体が通路を開放した状態を示す断面図である。
【図８】ゲートバルブの構成及び動作を説明するための図であり、弁体が通路と対向した状態を示す断面図である。
【図９】ゲートバルブの構成及び動作を説明するための図であり、弁体が通路を閉塞した状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
本実施形態では、複数のチャンバの間で成膜対象となる基板を順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置を用いて、ハードディスク装置に搭載される磁気記録媒体を製造する場合を例に挙げて説明する。
【００２０】
（磁気記録媒体）
本発明を適用して製造される磁気記録媒体は、例えば図１に示すように、非磁性基板８０の両面に、軟磁性層８１、中間層８２、記録磁性層８３及び保護層８４が順次積層された構造を有し、更に最表面に潤滑膜８５が形成されてなる。また、軟磁性層８１、中間層８２及び記録磁性層８３によって磁性層８１０が構成されている。
【００２１】
非磁性基板８０としては、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂からなる基板など、非磁性基板であれば任意のものを用いることができる。
【００２２】
その中でも、Ａｌ合金基板や、結晶化ガラス等のガラス製基板、シリコン基板を用いることが好ましく、また、これら基板の平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．５ｎｍ以下であり、その中でも特に０．１ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
磁性層８１０は、面内磁気記録媒体用の面内磁性層でも、垂直磁気記録媒体用の垂直磁性層でもかまわないが、より高い記録密度を実現するためには垂直磁性層が好ましい。また、記録磁性層８３は、主としてＣｏを主成分とする合金から形成するのが好ましい。例えば、垂直磁気記録媒体用の磁性層８１０としては、例えば軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる軟磁性層８１と、Ｒｕ等からなる中間層８２と、６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金からなる記録磁性層８３とを積層したものを利用できる。また、軟磁性層８１と中間層８２との間にＰｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどからなる配向制御膜を積層してもよい。一方、面内磁気記録媒体用の磁性層８１０としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層とを積層したものを利用できる。
【００２４】
磁性層８１０の全体の厚さは、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とし、磁性層８１０は使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すればよい。磁性層８１０の膜厚は、再生の際に一定以上の出力を得るにはある程度以上の磁性層の膜厚が必要であり、一方で記録再生特性を表す諸パラメーターは出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、最適な膜厚に設定する必要がある。
【００２５】
保護層８４としては、炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨＸＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ２、Ｚｒ２Ｏ３、ＴｉＮなど、通常用いられる保護層材料を用いることができる。また、保護層８４は、２層以上の層から構成されていてもよい。保護層８４の膜厚は、１０ｎｍ未満とする必要がある。保護層８４の膜厚が１０ｎｍを越えるとヘッドと記録磁性層８３との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなるからである。
【００２６】
潤滑膜８５に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等を挙げることができ、通常は１〜４ｎｍの厚さで潤滑層８５を形成する。
【００２７】
（磁気記録再生装置）
また、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置としては、例えば図２に示すようなハードディスク装置を挙げることができる。このハードディスク装置は、上記磁気記録媒体である磁気ディスク８６と、磁気ディスク８６を回転駆動させる媒体駆動部８７と、磁気ディスク８６に情報を記録再生する磁気ヘッド８８と、ヘッド駆動部８９と、記録再生信号処理系９０とを備えている。そして、磁気再生信号処理系９０は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド８８に送り、磁気ヘッド８８からの再生信号を処理してデータを出力する。
【００２８】
（インライン式成膜装置）
具体的に、上記磁気記録媒体を製造する際は、例えば図３に示すような本発明を適用したインライン式成膜装置（磁気記録媒体の製造装置）を用いて、成膜対象となる非磁性基板８０の両面に、少なくとも軟磁性層８１、中間層８２及び記録磁性層８３、保護層を順次積層し、磁性層８１０を形成する工程と、保護層８４を形成する工程とを経ることによって、品質の高い磁気記録媒体を安定して得ることができる。
【００２９】
具体的に、本発明を適用したインライン式成膜装置は、ロボット台１と、ロボット台１上に截置された基板移載ロボット３と、ロボット台１に隣接する基板供給ロボット室２と、基板供給ロボット室２内に配置された基板供給ロボット３４と、基板供給ロボット室２に隣接する基板取り付け室５２と、キャリア２５を回転させるコーナー室４、７、１４、１７と、各コーナー室４、７、１４、１７の間に配置された複数のチャンバ５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１と、チャンバ２１に隣接して配置された基板取り外し室５３と、基板取り外し室５３に隣接して配置された基板取り外しロボット室２２と、基板取り外しロボット室２２内に設置された基板取り外しロボット４９とを有している。
【００３０】
また、これら各室の接続部には、ゲートバルブ５５〜７２が設けられ、これらゲートバルブ５５〜７２が閉状態のとき、各チャンバ内は、それぞれ独立の密閉空間となる。そして、これら各室の間で後述する搬送機構によりキャリア２５を順次搬送させながら、各チャンバ５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１内において、キャリア２５に保持された非磁性基板８０の両面に、上述した軟磁性層８１、中間層８２及び記録磁性層８３、及び保護層８４を順次成膜することによって、最終的に上記図１に示す磁気記録媒体が得られるように構成されている。また、各コーナー室４、７、１４、１７は、キャリア２５の移動方向を変更する室であり、その内部にキャリア２５を回転させて次のチャンバに移動させる機構が設けられている。
【００３１】
基板移載ロボット３は、成膜前の非磁性基板８０が収納されたカセットから、基板取り付け室２に非磁性基板８０を供給するとともに、基板取り外しロボット室２２で取り外された成膜後の非磁性基板８０（磁気記録媒体）を取り出す。この基板取り付け・取り外しロボット室２、２２の一側壁には、外部に開放された開口を開閉する扉５１、５５が設けられている。
【００３２】
基板取り付け室５２の内部では、基板供給ロボット３４を用いて成膜前の非磁性基板８０がキャリア２５に保持される。一方、基板取り外し室５３の内部では、基板取り外しロボット４９を用いて、キャリア２５に保持された成膜後の非磁性基板８０（磁気記録媒体）が取り外される。
【００３３】
上記磁気記録媒体を作製するための成膜処理等を行う各チャンバ５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１の構成ついては、処理内容に応じて処理装置の構成が異なる以外は基本的に同様であることから、その具体的な構成については、図５に示すチャンバ９１においてまとめて説明するものとする。
【００３４】
このチャンバ９１には、図５に示すように、キャリア２５に保持された非磁性基板８０に対して成膜処理を行う２つの処理装置９２が、キャリア２５を挟んだ両側において互いに対向配置されている。
【００３５】
２つの処理装置９２は、例えば、成膜処理をスパッタリングによって行う場合は、スパッタ放電を生じさせるためのカソードユニット、成膜処理をＣＶＤ法によって行う場合は、ＣＶＤ法による成膜空間を形成するための電極ユニット、成膜処理をＰＶＤ法によって行う場合は、イオンガン等から構成されている。
【００３６】
また、チャンバ９１には、内部に原料ガスや雰囲気ガスを導入するガス導入管９３が設けられている。また、このガス導入管９３には、図示しない制御機構によって開閉が制御されるバルブ９４が設けられ、このバルブ９４を開閉操作することにより、ガス導入管９３からのガスの供給が制御される。
【００３７】
また、チャンバ９１には、それぞれ真空ポンプ（図示せず。）と接続されたガス排出管９５が設けられている。そして、チャンバ９１は、この真空ポンプに接続されたガス排出管９５を通じて内部を減圧排気することが可能となっている。
【００３８】
キャリア２５は、図４及び図６に示すように、支持台２６と、支持台２６の上面に設けられた複数のホルダ２７とを有している。なお、本実施形態では、ホルダ２７を２基搭載した構成のため、これらホルダ２７に保持される２枚の非磁性基板８０を、それぞれ第１成膜用基板２３及び第２成膜用基板２４として扱うものとする。
【００３９】
また、本実施形態では、例えば、図４中の実線で示す第１処理位置にキャリア２５が停止した状態において、２つの処理装置９１がキャリア２５の左側の第１成膜用基板２３の両面に対して成膜処理等を行い、その後、キャリア２５が図５中の破線で示す第２処理位置に移動し、この第２処理位置にキャリア２５が停止した状態において、２つの処理装置９１がキャリア２５の右側の第２成膜用基板２４の両面に対して成膜処理等を行うことができる。
【００４０】
なお、キャリア２５を挟んだ両側に、それぞれ第１及び第２成膜用基板２３、２４に対向した４つの処理装置９２がある場合は、キャリア２５の移動は不要となり、キャリア２５に保持された第１及び第２成膜用基板２３、２４に対して同時に成膜処理等を行うことができる。
【００４１】
２つのホルダ２７は、第１及び第２成膜用基板２３、２４が縦置き（基板２３，２４の主面が重力方向と平行となる状態）に保持されるように、すなわち第１及び第２成膜用基板２３、２４の主面が支持台２６の上面に対して略直交し、且つ、略同一面上となるように、支持台２６の上面に並列して設けられている。
【００４２】
各ホルダ２７は、第１及び第２成膜用基板２３，２４の厚さの１〜数倍程度の厚さを有する板体２８に、これら成膜用基板２３、２４の外周より若干大径となされた円形状の孔部２９が形成されてなる。
【００４３】
また、各ホルダ２７の孔部２９の周囲には、複数の支持部材３０が弾性変形可能に取り付けられている。これら支持部材３０は、孔部２９の内側に配置された第１及び第２成膜用基板２３，２４の外周部を、その外周上の最下位に位置する下部側支点と、この下部側支点を通る重力方向に沿った中心線に対して対称となる外周上の上部側に位置する一対の上部側支点との３点で支持するように、ホルダ２７の孔部２９の周囲に一定の間隔で３つ並んで設けられている。
【００４４】
これにより、キャリア２５は、３つの支持部材３０に第１及び第２成膜用基板２３、２４の外周部を当接させながら、これら支持部材３０の内側に嵌め込まれた第１及び第２成膜用基板２３、２４を着脱自在にホルダ２７に保持することが可能となっている。また、ホルダ２７に対する第１及び第２成膜用基板２３、２４の着脱は、上記基板供給ロボット３４又は基板取り外しロボット４９が下部側支点の支持部材３０を下方に押し下げることにより行われる。
【００４５】
各支持部材３０は、図６に示すように、Ｌ字状に折り曲げられたバネ部材からなり、その基端側がホルダ２７に固定支持されると共に、その先端側が孔部２９の内側に向かって突出された状態で、それぞれホルダ２７の孔部２９の周囲に形成されたスリット３１内に配置されている。また、各支持部材３０の先端部には、図示を省略するものの、それぞれ第１及び第２成膜用基板２３，２４の外周部が係合されるＶ字状の溝部が設けられている。
【００４６】
インライン式成膜装置は、図５及び図６に示すように、このようなキャリア２５を搬送させる搬送機構として、キャリア２５を非接触状態で駆動する駆動機構２０１を備えている。
【００４７】
この駆動機構２０１は、キャリア２５の下部にＮ極とＳ極とが交互に並ぶように配置された複数の磁石２０２と、その下方にキャリア２５の搬送方向に沿って配置された回転磁石２０３とを備え、この回転磁石２０３の外周面には、Ｎ極とＳ極とが二重螺旋状に交互に並んで形成されている。
【００４８】
また、複数の磁石２０２と回転磁石２０３との間には、真空隔壁２０４が介在されている。この真空隔壁２０４は、複数の磁石２０２と回転磁石２０３とが磁気的に結合されるように透磁率の高い材料で形成されている。また、真空隔壁２０４は、回転磁石２０３の周囲を囲むことによって、チャンバ９１の内側と大気側とを隔離している。
【００４９】
また、回転磁石２０３は、回転モータ２０５により回転駆動される回転軸２０６と互いに噛合される複数のギアを介して連結されている。これにより、回転モータ２０５からの駆動力を回転軸２０６を介して回転磁石２０３に伝達しながら、この回転磁石２０３を軸回りに回転させることが可能となっている。
【００５０】
以上のように構成される駆動機構２０１は、キャリア２５側の磁石２０２と回転磁石２０３とを非接触で磁気的に結合させながら、回転磁石２０３を軸回りに回転させることにより、キャリア２５を回転磁石２０３の軸方向に沿って直線駆動する。
【００５１】
また、チャンバ９１内には、搬送されるキャリア２５をガイドするガイド機構として、水平軸回りに回転自在に支持された複数の主ベアリング９６がキャリア２５の搬送方向に並んで設けられている。一方、キャリア２５は、支持台２６の下部側に複数の主ベアリング９６が係合されるガイドレール９７を有しており、このガイドレール９７には、Ｖ字状の溝部が支持台２６の長手方向に沿って形成されている。
【００５２】
また、チャンバ９１内には、垂直軸回りに回転自在に支持された一対の副ベアリング９８が、その間にキャリア２５を挟み込むようにして設けられている。これら一対の副ベアリング９８は、複数の主ベアリング９６と同様に、キャリア２５の搬送方向に複数並んで設けられている。
【００５３】
なお、主ベアリング９６及び副ベアリング９８は、機械部品の摩擦を減らし、スムーズな機械の回転運動を確保する軸受であって、具体的には転がり軸受からなり、チャンバ９１内に設けられたフレーム（取付部材）に固定された支軸（図５において図示せず。）に回転自在に取り付けられている。
【００５４】
キャリア２５は、ガイドレール９７に複数の主ベアリング９６を係合させた状態で、これら複数の主ベアリング９６の上を移動すると共に、一対の副ベアリング９８の間に挟み込まれることによって、その傾きが防止されている。
【００５５】
ところで、本発明を適用したインライン式成膜装置は、図７〜図９に示すようなゲートバルブ１００を備えている。なお、上記各ゲートバルブ５５〜７２については、基本的にゲートバルブ１００と同様な構成を有することから、その具体的な構成については、ゲートバルブ１００によってまとめて説明するものとする。また、図７〜図９は、ゲートバルブ１００を上面側から見た断面図である。
【００５６】
このゲートバルブ１００は、キャリア２５が通過する通路１０１を形成する開口部１０２ａ，１０２ｂが設けられた一対の隔壁１０３Ａ，１０３Ｂと、一対の隔壁１０３Ａ，１０３Ｂの間で移動操作される弁体１０４と、開口部１０２ｂを閉塞する位置と開口部１０２ｂを開放する位置との間で弁体１０４を駆動する駆動機構１０５とを備えている。
【００５７】
弁体１０４は、開口部１０２ｂを閉塞するのに足る大きさで略矩形状に形成された平板部材であり、この弁体１０４の開口部１０２ｂと対向する面には、開口部１０２ｂを囲む位置にて隔壁１０３Ｂに押し付けられるシール部材１０６が設けられている。
【００５８】
シール部材１０６は、フッ素ゴム等のゴム製又は樹脂製の弾性部材をリング状に形成したＯリングからなる。このシール部材１０６は、弁体１０４の開口部１０２ｂと対向する面に設けられた溝部に嵌め込まれた状態で取り付けられている。また、シール部材１０６は、その一部が溝部の外側にはみ出すように配置されている。
【００５９】
また、ゲートバルブ１００は、弁体１０４を通路１０１の分断方向に移動可能に案内するガイド機構１０７と、開口部１０２ｂと対向する位置にて弁体１０４を隔壁１０３Ｂと接離可能な方向に傾動可能に案内するカム機構１０８とを備えている。
【００６０】
具体的に、弁体１０４は、通路１０１を分断する方向に延長されたアーム１０９の先端に、当該アーム１０７と直交した状態（いわゆるＴ字状）で取り付けられている。
【００６１】
ガイド機構１０７は、アーム１０９の中間部に設けられて弁体１０４と一体に移動するガイドプレート（移動体）１１０と、このガイドプレート１１０が係合されるガイド孔１１１とを有し、ガイドプレート１１０がガイド孔１１１内を移動することによって、弁体１０４を通路１０１の分断方向に移動可能に案内する。
【００６２】
カム機構１０８は、アーム１０９の基端部に設けられて弁体１０４と一体に移動するカムプレート（移動体）１１２と、このカムプレート１１２が係合されるカム孔１１３とを有し、カムプレート１１２がカム孔１１３内を移動することによって、弁体１０４を隔壁１０３Ｂと接離可能な方向に傾動可能に案内する。
【００６３】
駆動機構１０５は、駆動力にエア圧を利用したエアシリンダ機構であり、アーム１０７の基端部に接続されたピストン１１４と、このピストン１１４が配置されるシリンダ１１５と、このシリンダ１１５内の第１の空間Ｓ１に並列に接続された第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂからなる第１のバルブ機構１１６と、第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂへのエアの供給又は排出を切り替える切替バルブ１１６ｃと、このシリンダ１１５内の第２の空間Ｓ２に並列に接続された第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂからなる第２のバルブ機構１１７と、第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂへのエアの供給又は排出を切り替える切替バルブ１１７ｃとを有している。
【００６４】
具体的に、第１の空間Ｓ１は、シリンダ１１５内のピストン１１４を挟んだ弁体１０４とは反対側（図７〜９中の下側）に形成される空間であり、第２の空間Ｓ２は、シリンダ１１５内のピストン１１４を挟んだ弁体１０４側（図７〜９中の上側）に形成される空間である。そして、第１及び第２の開閉バルブ１１６ａ，１１７ａには、流路の開閉のみを行う電磁バルブが用いられ、第１及び第２の流量調整バルブ１１６ｂ，１１７ｂには、流路の開閉に加えて流路を流れるエアの流量調整が可能なニードルバルブが用いられている。
【００６５】
以上のような構造を有するゲートバルブ１００では、図７に示すように、通路１０１の開口部１０２ｂが開放された状態から、駆動機構１０５により弁体１０４を通路１０１の分断方向の一方側（図７〜９中の上方側）に移動させる。
【００６６】
このとき、駆動機構１０５は、第１の切替バルブ１１６ｃから第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂを介して第１の空間Ｓ１にエアを供給しながら、第２の切替バルブ１１７ｃから第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂを介して第２の空間Ｓ２からエアが排出されることによって、シリンダ１１５内のピストン１１４を一の方向（図７〜９中の上方）に向かって押圧移動させる。
【００６７】
これにより、弁体１０４は、図８に示すように、ガイド機構１０７により案内されながら、隔壁１０３Ｂの開口部１０２ｂと対向する位置まで移動される。そして、更に駆動機構１０５がシリンダ１１５内のピストン１１４を一の方向（図７〜９中の上方）に向かって押圧移動させる。
【００６８】
これにより、弁体１０４は、図９に示すように、カム機構１０８により案内されながら、隔壁１０３Ｂと近接する方向に向かって傾動する。そして、弁体１０４は、最終的に隔壁１０３Ｂにシール部材１０５を圧接させた状態で開口部１０２ｂを閉塞する。
【００６９】
これにより、インライン式成膜装置では、このゲートバルブ１００を介して接続された２つのチャンバ間に設けられた通路１０１を閉塞することが可能となっている。また、チャンバ同士を独立した圧力に維持するために行われるゲートバルブ１００の閉動作（プロセス閉）と共に、整備時に大気側と真空側とを隔離するために行われるゲートバルブ１００の閉動作（大気閉）を行うことが可能となっている。
【００７０】
一方、ゲートバルブ１００では、上述した動作とは逆の動作によって、通路１０１を開放することが可能である。すなわち、このゲートバルブ１００では、図９に示すように、弁体１０４により通路１０１の開口部１０２ｂが閉塞された状態から、駆動機構１０５により弁体１０４を通路１０１の分断方向の他方側（図７〜９中の下方側）に移動させる。
【００７１】
このとき、駆動機構１０５は、第２の切替バルブ１１７ｃから第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂを介して第２の空間Ｓ２にエアを供給しながら、第１の切替バルブ１１６ｃから第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂを介して第１の空間Ｓ１からエアが排出されることによって、弁体１０４が開口部１０２ｂを開放する他の方向（図７〜９中の下方）に向かってシリンダ１１５内のピストン１１４を押圧移動させる。
【００７２】
これにより、弁体１０４は、図８に示すように、カム機構１０８により案内されながら、隔壁１０３Ｂと離間する方向に向かって傾動し、隔壁１０３Ｂの開口部１０２ｂと対向する位置まで移動する。そして、更に駆動機構１０５がシリンダ１１５内のピストン１１４を他の方向（図７〜９中の下方）に向かって押圧移動させる。
【００７３】
これにより、弁体１０４は、図７に示すように、ガイド機構１０７により案内されながら、通路１０１の分断方向の他方側（図７〜９中の下方側）へと移動する。そして、弁体１０４は、最終的に隔壁１０３Ｂの開口部１０２ｂを開放する位置まで移動する。
【００７４】
これにより、インライン式成膜装置では、キャリア２５の搬送時に、このゲートバルブ１００を介して接続された２つのチャンバ間に設けられた通路１０１を開放することが可能となっている。なお、このようなゲートバルブ１００は、各チャンバの間に２つ配置されており、他方の隔壁１０３Ａに設けられた開口部１０２ａも同様に開閉することが可能となっている。
【００７５】
ところで、本発明を適用したゲートバルブ１００では、弁体１０４により通路１０１を閉塞する際に、シリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向（一方）の端部に到達する直前に、第２の開閉バルブ１１７ａを全閉することによって第２の流量調整バルブ１１７ｂのみで排気する。これにより、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方の端部に到達したとき、このシリンダ１１５の一方の端部とピストン１１４とが接触することにより発生する振動を抑制することができる。
【００７６】
すなわち、上記駆動機構５では、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方の端部に到達する直前に、第２のバルブ機構１１７によってシリンダ１１５内の第２の空間Ｓ２から排出されるエアの流量を絞り込む（低下させる）ことで、シリンダ１１５内で一の方向へと向かうピストン１１４の排気抵抗が増すことになる。そして、この排気抵抗がいわゆるエアークッションの役割をすることで、シリンダ１１５の一方の端部とピストン１１４との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。
【００７７】
また、本発明を適用したゲートバルブ１００では、弁体１０４により通路１０１を開放する際も同様に、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向（他方）の端部に到達する直前に、第１の開閉バルブ１１６ａを全閉することによって第１の流量調整バルブ１１６ｂのみで排気する。これにより、シリンダ１１５内のピストン１１４が他方の端部に到達したとき、このシリンダ１１５の他方の端部とピストン１１４とが接触することにより発生する振動を抑制することができる。
【００７８】
すなわち、上記駆動機構５では、シリンダ１１５内のピストン１１４が他方の端部に到達する直前に、第１のバルブ機構１１６によってシリンダ１１５内の第１の空間Ｓ１から排出されるエアの流量を絞り込む（低下させる）ことで、シリンダ１１５内で他の方向へと向かうピストン１１４の排気抵抗が増すことになる。そして、この排気抵抗がいわゆるエアークッションの役割をすることで、シリンダ１１５の他方の端部とピストン１１４との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。
【００７９】
さらに、上記ガイド機構１０７には、ガイドプレート１１０がガイド孔１１１の一方の端部まで位置したときに、このガイドプレート１１０と当接される樹脂ストッパ１１８が配置されている。
【００８０】
この場合も、ガイドプレート１１０とガイド孔１１１の一方の端部との接触による衝撃を樹脂ストッパ１１８により緩和し、シリンダ１１５内のピストン１１４が上方側の端部に到達したときの振動の発生を抑制することが可能である。
【００８１】
なお、このような樹脂ストッパ１１８は、上述したガイド孔１１１の一方の端部以外にも、ガイド孔１１１の他方の端部に設けることが可能である。この場合、ガイドプレート１１０とガイド孔１１１の他方の端部との接触による衝撃を樹脂ストッパ１１８により緩和し、シリンダ１１５内のピストン１１４が他方の端部に到達したときの振動の発生を抑制することが可能である。
【００８２】
また、本発明では、上記駆動機構５における可動部分の軽量化を図ることで、上記ゲートバルブ１００の開閉動作に伴う振動の発生を更に抑制することが可能である。
【００８３】
以上のように、本発明を適用したインライン式成膜装置では、上記ゲートバルブ１００によってキャリア２５が通過する通路１０１を開閉する動作を高速で行うことが可能である。また、ゲートバルブ１００が通路１０１を開閉する際の振動等の発生を抑制することが可能なため、キャリア２５に保持された非磁性基板８０に傷等が生じたりすることを防ぐことが可能である。
【００８４】
なお、本発明は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
すなわち、本発明では、上述したシリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向の端部に到達する直前に、第２のバルブ機構１１７により第２の空間Ｓ２から排出されるエアの流量を絞り込む一方、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向の端部に到達する直前に、第１のバルブ機構１１６により第１の空間Ｓ１から排出されるエアの流量を絞り込む構成であればよい。
【００８５】
例えば、本発明では、上記第１のバルブ機構１１６を構成する第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂと、上記第２のバルブ機構１１７を構成する第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂとのうち、第１及び第２の開閉バルブ１１６ａ，１１７ａを省略した構成とし、シリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向の端部に到達する直前に、第２の流量調整バルブ１１７ｂにより第２の空間Ｓ２から排出されるエアの流量を絞り込む一方、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向の端部に到達する直前に、第１の流量調整バルブ１１６ｂにより第１の空間Ｓ１から排出されるエアの流量を絞り込む構成とすることも可能である。
【００８６】
（磁気記録媒体の製造方法）
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法は、上記インライン式成膜装置を用いて、キャリア２５に保持された第１又は第２成膜用基板２３、２４（非磁性基板８０）を複数のチャンバ２、５２、４〜２０、５４、３Ａの間で順次搬送させながら、この非磁性基板８０の両面に、軟磁性層８１、中間層８２、記録磁性層８３により構成される磁性層８１０と、保護層８４とを順次積層し、更に最表面に潤滑膜８５を形成することによって、磁気記録媒体を製造する。
【００８７】
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法では、上記インライン式成膜装置を用いることによって、磁気記録媒体８０の製造能力を高めると共に、高品質の磁気記録媒体８０を製造することが可能である。
【実施例】
【００８８】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【００８９】
本実施例では、実際に上記図７〜図９に示すゲートバルブ１００を用いて、キャリア２５が通過する通路１０１を開閉動作させた際に、本発明のように、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方又は他方の端部に到達する直前に、第２又は第１の開閉バルブ１１７ａ，１１６ａを全閉することによって第２又は第１の流量調整バルブ１１７ｂ，１１６ｂのみで排気する場合（実施例１）と、従来のように、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方又は他方の端部に到達する直前に、そのような動作を行わない場合（比較例１）とのゲートバルブ１００の開閉動作に伴う振動について測定を行った。
【００９０】
なお、本実施例では、ゲートバルブ１００のシリンダ１１５の底部に加速度センサ（リオン社製、ＰＶ−９３Ｂ）を取り付けて、デジタルオシロレコーダ（ＮＥＣ三栄社製、ＲＡ１３００ ＲＴ３２１４）を用いて、ゲートバルブ１００の開閉動作に伴う振動（最大加速度）を測定した。また、ゲートバルブ１００の開動作（又は閉動作）にかかる時間をゲートバルブ１００に加えるガス圧によって調整した。
【００９１】
（実施例１）
実施例１では、ゲートバルブ１００の閉動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．３５秒時で２．８ｍ／秒２、動作速度０．３１秒時で２．９ｍ／秒２、動作速度０．２５秒時で５．５ｍ／秒２であった。一方、ゲートバルブ１００の開動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．４５秒時で２．１ｍ／秒２、動作速度０．２９秒時で３．４ｍ／秒２、動作速度０．２７秒時で４．０ｍ／秒２であった。
【００９２】
（比較例１）
比較例１では、ゲートバルブ１００の閉動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．３５秒時で４．２ｍ／秒２、動作速度０．３１秒時で７．２ｍ／秒２、動作速度０．２５秒時で８．０ｍ／秒２であった。一方、ゲートバルブ１００の開動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．４５秒時で２．１ｍ／秒２、動作速度０．２９秒時で４．３ｍ／秒２、動作速度０．２７秒時で７．８ｍ／秒２であった。
【００９３】
以上のように、本発明の流量の絞り込み動作を行った場合は、従来のように流量の絞り込み動作を行わなかった場合よりも、ゲートバルブの開閉動作に伴う振動を大幅に抑制することが可能となった。
【符号の説明】
【００９４】
１…基板移載ロボット台
２…基板供給ロボット室
３…基板カセット移載ロボット
４、７、１４、１７…コーナー室
５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１…チャンバ
２２…基板取り外しロボット室
２３…第１成膜用基板
２４…第２成膜用基板
２５…キャリア
２６…支持台
２７…ホルダ
２８…板体
２９…円形状の孔部
３０…支持部材
３４…基板供給ロボット
４９…基板取り外しロボット
５２…基板取り付け室
５４…基板取り外し室
５５〜７１…ゲートバルブ
８０…非磁性基板
８１…軟磁性層
８２…中間層
８３…記録磁性層
８４…保護層
８５…潤滑膜
９１…チャンバ
８１０…磁性層
１００…ゲートバルブ
１０１…通路
１０２ａ，１０２ｂ…開口部
１０３Ａ，１０３Ｂ…隔壁
１０４…弁体
１０５…駆動機構（エアシリンダ機構）
１０６…シール部材
１０７…ガイド機構
１０８…カム機構
１０９…アーム
１１０…ガイドプレート（移動体）
１１１…ガイド孔
１１２…ガイドプレート（移動体）
１１３…カム孔
１１４…ピストン
１１５…シリンダ
１１６…第１のバルブ機構
１１６ａ…第１の開閉バルブ
１１６ｂ…第１の流量調整バルブ
１１６ｃ…第１の切替バルブ
１１７…第２のバルブ機構
１１７ａ…第２の開閉バルブ
１１７ｂ…第２の流量調整バルブ
１１７ｃ…第２の切替バルブ
１１８…樹脂ストッパ
２０１…駆動機構（搬送機構）
２０２…磁石
２０３…回転磁石
２０４…真空隔壁
２０５…回転モータ
２０６…回転軸
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数のチャンバの間で成膜対象となる基板を順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置、このインライン式成膜装置を用いた磁気記録媒体の製造方法、並びにこのインライン式成膜装置の複数のチャンバの間で通路の開閉を行うゲートバルブに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ハードディスク装置等に用いられる磁気記録媒体の分野においては記録密度の向上が著しく、特に最近では、記録密度が１年間で１．５倍程度と、驚異的な速度で伸び続けている。
【０００３】
このような磁気記録媒体は、例えば非磁性基板の両面又は片面に、シード膜、下地膜、磁気記録膜、保護膜及び潤滑剤膜が順次積層された構造を有しており、一般的には、キャリアに保持された基板を複数のチャンバの間で順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置を用いて製造される（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００４】
具体的に、インライン式成膜装置は、成膜処理を行う複数のチャンバがゲートバルブを介して接続された構造を有している。また、各チャンバ内には、水平軸回りに回転自在に支持された複数のベアリングがキャリアの搬送方向に並んで設けられており、これら複数のベアリングの上をキャリアが移動することが可能となっている。
【０００５】
一方、キャリアは、複数のホルダを有しており、これらホルダには、基板を内側に配置する孔部と、この孔部の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の保持爪とが設けられている。そして、ホルダは、複数の保持爪に基板の外周部を当接させながら、これら保持爪の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能となっている。
【０００６】
また、インライン式成膜装置では、各チャンバの間に設けられたゲートバルブによってキャリアが通過する通路を開閉する動作が行われる。具体的に、ゲートバルブは、上述した通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、これら一対の隔壁の間で移動操作される弁体とを有している。そして、このゲートバルブでは、エアシリンダ等の駆動機構により弁体が通路を分断する方向に移動した後に、弁体が一方の隔壁に接触する方向に傾動する動作によって、成膜処理中に開口部を閉塞することが可能となっている。一方、この動作とは逆の動作によって、キャリアの搬送中に開口部を開放することが可能となっている。さらに、このようなゲートバルブは、各チャンバの間に２つ配置されており、他方の隔壁に設けられた開口部も同様に開閉することが可能となっている。
【０００７】
そして、このインライン式成膜装置では、各チャンバをゲートバルブによって隔離した後、チャンバ内を減圧することで、各チャンバ内をそれぞれ独立した圧力条件下にして成膜処理を行うことが可能である。
【０００８】
磁気記録媒体は、このようなインライン式成膜装置を用いて連続的に製造を行うことができ、処理基板のハンドリングに際して基板が汚染されることが無く、さらにハンドリング工程等を少なくして製造工程を効率化し、製品歩留まりを良くして磁気記録媒体の生産性を高めることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−２８８８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、上述したインライン式成膜装置では、磁気記録媒体の生産性を高めるため、ゲートバルブによる開閉動作を高速化することが求められている。しかしながら、従来のインライン式成膜装置では、ゲートバルブの開閉速度を上げることによって、ゲートバルブに大きな振動が発生することがあった。
【００１１】
具体的に、従来のゲートバルブでは、上記弁体の駆動機構にエアシリンダを用いている。この場合、エアシリンダの駆動エア圧を高めることによってゲートバルブの開閉速度を上げることができるものの、ゲートバルブに大きな振動が発生することになる。
【００１２】
インライン式成膜装置では、このようなゲートバルブの高速開閉動作に伴う振動によって、ゲートバルブの寿命低下を招くことになる。また、このような高速開閉動作に伴う摩耗の発生によりチャンバ内が汚染されてしまう。さらに、このような高速開閉動作に伴う振動によって、チャンバ内で舞い上がったダストが基板に付着したり、その振動により上記ホルダから基板が脱落したり、上記保持爪との擦れにより基板が傷付いたりすると、製造される磁気記録媒体の品質低下を招くことになる。
【００１３】
本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、ゲートバルブの開閉動作に伴う振動の発生を抑制しながら、このゲートバルブの開閉動作を高速で行うことを可能としたインライン式成膜装置、並びにそのようなインライン式成膜装置を用いた磁気記録媒体の製造方法、そのようなインライン式成膜装置に用いて好適なゲートバルブを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、以下の手段を提供する。
（１） 成膜処理を行う複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内で成膜対象となる基板を保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構と、
前記複数のチャンバの間に設けられて、前記キャリアが通過する通路を開閉するゲートバルブとを備え、
前記ゲートバルブは、前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気する一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気することを特徴とするインライン式成膜装置。
（２） 前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする前項（１）に記載のインライン式成膜装置。
（３） 前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする前項（２）に記載のインライン式成膜装置。
（４） 前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有して、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする前項（２）又は（３）に記載のインライン式成膜装置。
（５） 前項（１）〜（４）の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記基板の表面に少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（６） 複数のチャンバの間で通路の開閉を行うゲートバルブであって、
前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気する一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気することを特徴とするゲートバルブ。
（７） 前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする前項（６）に記載のゲートバルブ。
（８） 前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする前項（７）に記載のゲートバルブ。
（９） 前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有し、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする前項（７）又は（８）に記載のゲートバルブ。
【発明の効果】
【００１５】
以上のように、本発明に係るインライン式成膜装置では、シリンダ内のピストンが一の方向の端部に到達する直前に、第２のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気する一方、シリンダ内のピストンが他の方向の端部に到達する直前に、第１のバルブ機構を流れるエアの流量を絞って排気することで、ゲートバルブの開閉動作に伴う振動等の発生を抑制することが可能であり、これによってキャリアに保持された基板に傷等が生じたりすることを防ぐと共に、ゲートバルブの開閉動作を高速で行うことが可能である。
【００１６】
また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法では、このようなインライン式成膜装置を用いることによって、磁気記録媒体の製造能力を高めると共に、高品質の磁気記録媒体を製造することが可能である。
【００１７】
また、本発明に係るゲートバルブでは、振動の発生を抑制しながら、通路を高速で開閉することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明を適用して製造される磁気記録媒体の一例を示す断面図である。
【図２】磁気記録再生装置の一例を示す断面図である。
【図３】本発明を適用したインライン式成膜装置の構成を示す平面図である。
【図４】本発明を適用したインライン式成膜装置のキャリアを示す側面図である。
【図５】本発明を適用したインライン式成膜装置の要部を示す側面図である。
【図６】本発明を適用したインライン式成膜装置の要部を示す断面図である。
【図７】ゲートバルブの構成及び動作を説明するための図であり、弁体が通路を開放した状態を示す断面図である。
【図８】ゲートバルブの構成及び動作を説明するための図であり、弁体が通路と対向した状態を示す断面図である。
【図９】ゲートバルブの構成及び動作を説明するための図であり、弁体が通路を閉塞した状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
本実施形態では、複数のチャンバの間で成膜対象となる基板を順次搬送させながら成膜処理を行うインライン式成膜装置を用いて、ハードディスク装置に搭載される磁気記録媒体を製造する場合を例に挙げて説明する。
【００２０】
（磁気記録媒体）
本発明を適用して製造される磁気記録媒体は、例えば図１に示すように、非磁性基板８０の両面に、軟磁性層８１、中間層８２、記録磁性層８３及び保護層８４が順次積層された構造を有し、更に最表面に潤滑膜８５が形成されてなる。また、軟磁性層８１、中間層８２及び記録磁性層８３によって磁性層８１０が構成されている。
【００２１】
非磁性基板８０としては、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、結晶化ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂からなる基板など、非磁性基板であれば任意のものを用いることができる。
【００２２】
その中でも、Ａｌ合金基板や、結晶化ガラス等のガラス製基板、シリコン基板を用いることが好ましく、また、これら基板の平均表面粗さ（Ｒａ）は、１ｎｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは０．５ｎｍ以下であり、その中でも特に０．１ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
磁性層８１０は、面内磁気記録媒体用の面内磁性層でも、垂直磁気記録媒体用の垂直磁性層でもかまわないが、より高い記録密度を実現するためには垂直磁性層が好ましい。また、記録磁性層８３は、主としてＣｏを主成分とする合金から形成するのが好ましい。例えば、垂直磁気記録媒体用の磁性層８１０としては、例えば軟磁性のＦｅＣｏ合金（ＦｅＣｏＢ、ＦｅＣｏＳｉＢ、ＦｅＣｏＺｒ、ＦｅＣｏＺｒＢ、ＦｅＣｏＺｒＢＣｕなど）、ＦｅＴａ合金（ＦｅＴａＮ、ＦｅＴａＣなど）、Ｃｏ合金（ＣｏＴａＺｒ、ＣｏＺｒＮＢ、ＣｏＢなど）等からなる軟磁性層８１と、Ｒｕ等からなる中間層８２と、６０Ｃｏ−１５Ｃｒ−１５Ｐｔ合金や７０Ｃｏ−５Ｃｒ−１５Ｐｔ−１０ＳｉＯ２合金からなる記録磁性層８３とを積層したものを利用できる。また、軟磁性層８１と中間層８２との間にＰｔ、Ｐｄ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅＣｒなどからなる配向制御膜を積層してもよい。一方、面内磁気記録媒体用の磁性層８１０としては、非磁性のＣｒＭｏ下地層と強磁性のＣｏＣｒＰｔＴａ磁性層とを積層したものを利用できる。
【００２４】
磁性層８１０の全体の厚さは、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上１５ｎｍ以下とし、磁性層８１０は使用する磁性合金の種類と積層構造に合わせて、十分なヘッド出入力が得られるように形成すればよい。磁性層８１０の膜厚は、再生の際に一定以上の出力を得るにはある程度以上の磁性層の膜厚が必要であり、一方で記録再生特性を表す諸パラメーターは出力の上昇とともに劣化するのが通例であるため、最適な膜厚に設定する必要がある。
【００２５】
保護層８４としては、炭素（Ｃ）、水素化炭素（ＨＸＣ）、窒素化炭素（ＣＮ）、アルモファスカーボン、炭化珪素（ＳｉＣ）等の炭素質層やＳｉＯ２、Ｚｒ２Ｏ３、ＴｉＮなど、通常用いられる保護層材料を用いることができる。また、保護層８４は、２層以上の層から構成されていてもよい。保護層８４の膜厚は、１０ｎｍ未満とする必要がある。保護層８４の膜厚が１０ｎｍを越えるとヘッドと記録磁性層８３との距離が大きくなり、十分な出入力信号の強さが得られなくなるからである。
【００２６】
潤滑膜８５に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等を挙げることができ、通常は１〜４ｎｍの厚さで潤滑層８５を形成する。
【００２７】
（磁気記録再生装置）
また、上記磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置としては、例えば図２に示すようなハードディスク装置を挙げることができる。このハードディスク装置は、上記磁気記録媒体である磁気ディスク８６と、磁気ディスク８６を回転駆動させる媒体駆動部８７と、磁気ディスク８６に情報を記録再生する磁気ヘッド８８と、ヘッド駆動部８９と、記録再生信号処理系９０とを備えている。そして、磁気再生信号処理系９０は、入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド８８に送り、磁気ヘッド８８からの再生信号を処理してデータを出力する。
【００２８】
（インライン式成膜装置）
具体的に、上記磁気記録媒体を製造する際は、例えば図３に示すような本発明を適用したインライン式成膜装置（磁気記録媒体の製造装置）を用いて、成膜対象となる非磁性基板８０の両面に、少なくとも軟磁性層８１、中間層８２及び記録磁性層８３、保護層を順次積層し、磁性層８１０を形成する工程と、保護層８４を形成する工程とを経ることによって、品質の高い磁気記録媒体を安定して得ることができる。
【００２９】
具体的に、本発明を適用したインライン式成膜装置は、ロボット台１と、ロボット台１上に截置された基板移載ロボット３と、ロボット台１に隣接する基板供給ロボット室２と、基板供給ロボット室２内に配置された基板供給ロボット３４と、基板供給ロボット室２に隣接する基板取り付け室５２と、キャリア２５を回転させるコーナー室４、７、１４、１７と、各コーナー室４、７、１４、１７の間に配置された複数のチャンバ５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１と、チャンバ２１に隣接して配置された基板取り外し室５３と、基板取り外し室５３に隣接して配置された基板取り外しロボット室２２と、基板取り外しロボット室２２内に設置された基板取り外しロボット４９とを有している。
【００３０】
また、これら各室の接続部には、ゲートバルブ５５〜７２が設けられ、これらゲートバルブ５５〜７２が閉状態のとき、各チャンバ内は、それぞれ独立の密閉空間となる。そして、これら各室の間で後述する搬送機構によりキャリア２５を順次搬送させながら、各チャンバ５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１内において、キャリア２５に保持された非磁性基板８０の両面に、上述した軟磁性層８１、中間層８２及び記録磁性層８３、及び保護層８４を順次成膜することによって、最終的に上記図１に示す磁気記録媒体が得られるように構成されている。また、各コーナー室４、７、１４、１７は、キャリア２５の移動方向を変更する室であり、その内部にキャリア２５を回転させて次のチャンバに移動させる機構が設けられている。
【００３１】
基板移載ロボット３は、成膜前の非磁性基板８０が収納されたカセットから、基板取り付け室２に非磁性基板８０を供給するとともに、基板取り外しロボット室２２で取り外された成膜後の非磁性基板８０（磁気記録媒体）を取り出す。この基板取り付け・取り外しロボット室２、２２の一側壁には、外部に開放された開口を開閉する扉５１、５５が設けられている。
【００３２】
基板取り付け室５２の内部では、基板供給ロボット３４を用いて成膜前の非磁性基板８０がキャリア２５に保持される。一方、基板取り外し室５３の内部では、基板取り外しロボット４９を用いて、キャリア２５に保持された成膜後の非磁性基板８０（磁気記録媒体）が取り外される。
【００３３】
上記磁気記録媒体を作製するための成膜処理等を行う各チャンバ５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１の構成ついては、処理内容に応じて処理装置の構成が異なる以外は基本的に同様であることから、その具体的な構成については、図５に示すチャンバ９１においてまとめて説明するものとする。
【００３４】
このチャンバ９１には、図５に示すように、キャリア２５に保持された非磁性基板８０に対して成膜処理を行う２つの処理装置９２が、キャリア２５を挟んだ両側において互いに対向配置されている。
【００３５】
２つの処理装置９２は、例えば、成膜処理をスパッタリングによって行う場合は、スパッタ放電を生じさせるためのカソードユニット、成膜処理をＣＶＤ法によって行う場合は、ＣＶＤ法による成膜空間を形成するための電極ユニット、成膜処理をＰＶＤ法によって行う場合は、イオンガン等から構成されている。
【００３６】
また、チャンバ９１には、内部に原料ガスや雰囲気ガスを導入するガス導入管９３が設けられている。また、このガス導入管９３には、図示しない制御機構によって開閉が制御されるバルブ９４が設けられ、このバルブ９４を開閉操作することにより、ガス導入管９３からのガスの供給が制御される。
【００３７】
また、チャンバ９１には、それぞれ真空ポンプ（図示せず。）と接続されたガス排出管９５が設けられている。そして、チャンバ９１は、この真空ポンプに接続されたガス排出管９５を通じて内部を減圧排気することが可能となっている。
【００３８】
キャリア２５は、図４及び図６に示すように、支持台２６と、支持台２６の上面に設けられた複数のホルダ２７とを有している。なお、本実施形態では、ホルダ２７を２基搭載した構成のため、これらホルダ２７に保持される２枚の非磁性基板８０を、それぞれ第１成膜用基板２３及び第２成膜用基板２４として扱うものとする。
【００３９】
また、本実施形態では、例えば、図４中の実線で示す第１処理位置にキャリア２５が停止した状態において、２つの処理装置９１がキャリア２５の左側の第１成膜用基板２３の両面に対して成膜処理等を行い、その後、キャリア２５が図５中の破線で示す第２処理位置に移動し、この第２処理位置にキャリア２５が停止した状態において、２つの処理装置９１がキャリア２５の右側の第２成膜用基板２４の両面に対して成膜処理等を行うことができる。
【００４０】
なお、キャリア２５を挟んだ両側に、それぞれ第１及び第２成膜用基板２３、２４に対向した４つの処理装置９２がある場合は、キャリア２５の移動は不要となり、キャリア２５に保持された第１及び第２成膜用基板２３、２４に対して同時に成膜処理等を行うことができる。
【００４１】
２つのホルダ２７は、第１及び第２成膜用基板２３、２４が縦置き（基板２３，２４の主面が重力方向と平行となる状態）に保持されるように、すなわち第１及び第２成膜用基板２３、２４の主面が支持台２６の上面に対して略直交し、且つ、略同一面上となるように、支持台２６の上面に並列して設けられている。
【００４２】
各ホルダ２７は、第１及び第２成膜用基板２３，２４の厚さの１〜数倍程度の厚さを有する板体２８に、これら成膜用基板２３、２４の外周より若干大径となされた円形状の孔部２９が形成されてなる。
【００４３】
また、各ホルダ２７の孔部２９の周囲には、複数の支持部材３０が弾性変形可能に取り付けられている。これら支持部材３０は、孔部２９の内側に配置された第１及び第２成膜用基板２３，２４の外周部を、その外周上の最下位に位置する下部側支点と、この下部側支点を通る重力方向に沿った中心線に対して対称となる外周上の上部側に位置する一対の上部側支点との３点で支持するように、ホルダ２７の孔部２９の周囲に一定の間隔で３つ並んで設けられている。
【００４４】
これにより、キャリア２５は、３つの支持部材３０に第１及び第２成膜用基板２３、２４の外周部を当接させながら、これら支持部材３０の内側に嵌め込まれた第１及び第２成膜用基板２３、２４を着脱自在にホルダ２７に保持することが可能となっている。また、ホルダ２７に対する第１及び第２成膜用基板２３、２４の着脱は、上記基板供給ロボット３４又は基板取り外しロボット４９が下部側支点の支持部材３０を下方に押し下げることにより行われる。
【００４５】
各支持部材３０は、図６に示すように、Ｌ字状に折り曲げられたバネ部材からなり、その基端側がホルダ２７に固定支持されると共に、その先端側が孔部２９の内側に向かって突出された状態で、それぞれホルダ２７の孔部２９の周囲に形成されたスリット３１内に配置されている。また、各支持部材３０の先端部には、図示を省略するものの、それぞれ第１及び第２成膜用基板２３，２４の外周部が係合されるＶ字状の溝部が設けられている。
【００４６】
インライン式成膜装置は、図５及び図６に示すように、このようなキャリア２５を搬送させる搬送機構として、キャリア２５を非接触状態で駆動する駆動機構２０１を備えている。
【００４７】
この駆動機構２０１は、キャリア２５の下部にＮ極とＳ極とが交互に並ぶように配置された複数の磁石２０２と、その下方にキャリア２５の搬送方向に沿って配置された回転磁石２０３とを備え、この回転磁石２０３の外周面には、Ｎ極とＳ極とが二重螺旋状に交互に並んで形成されている。
【００４８】
また、複数の磁石２０２と回転磁石２０３との間には、真空隔壁２０４が介在されている。この真空隔壁２０４は、複数の磁石２０２と回転磁石２０３とが磁気的に結合されるように透磁率の高い材料で形成されている。また、真空隔壁２０４は、回転磁石２０３の周囲を囲むことによって、チャンバ９１の内側と大気側とを隔離している。
【００４９】
また、回転磁石２０３は、回転モータ２０５により回転駆動される回転軸２０６と互いに噛合される複数のギアを介して連結されている。これにより、回転モータ２０５からの駆動力を回転軸２０６を介して回転磁石２０３に伝達しながら、この回転磁石２０３を軸回りに回転させることが可能となっている。
【００５０】
以上のように構成される駆動機構２０１は、キャリア２５側の磁石２０２と回転磁石２０３とを非接触で磁気的に結合させながら、回転磁石２０３を軸回りに回転させることにより、キャリア２５を回転磁石２０３の軸方向に沿って直線駆動する。
【００５１】
また、チャンバ９１内には、搬送されるキャリア２５をガイドするガイド機構として、水平軸回りに回転自在に支持された複数の主ベアリング９６がキャリア２５の搬送方向に並んで設けられている。一方、キャリア２５は、支持台２６の下部側に複数の主ベアリング９６が係合されるガイドレール９７を有しており、このガイドレール９７には、Ｖ字状の溝部が支持台２６の長手方向に沿って形成されている。
【００５２】
また、チャンバ９１内には、垂直軸回りに回転自在に支持された一対の副ベアリング９８が、その間にキャリア２５を挟み込むようにして設けられている。これら一対の副ベアリング９８は、複数の主ベアリング９６と同様に、キャリア２５の搬送方向に複数並んで設けられている。
【００５３】
なお、主ベアリング９６及び副ベアリング９８は、機械部品の摩擦を減らし、スムーズな機械の回転運動を確保する軸受であって、具体的には転がり軸受からなり、チャンバ９１内に設けられたフレーム（取付部材）に固定された支軸（図５において図示せず。）に回転自在に取り付けられている。
【００５４】
キャリア２５は、ガイドレール９７に複数の主ベアリング９６を係合させた状態で、これら複数の主ベアリング９６の上を移動すると共に、一対の副ベアリング９８の間に挟み込まれることによって、その傾きが防止されている。
【００５５】
ところで、本発明を適用したインライン式成膜装置は、図７〜図９に示すようなゲートバルブ１００を備えている。なお、上記各ゲートバルブ５５〜７２については、基本的にゲートバルブ１００と同様な構成を有することから、その具体的な構成については、ゲートバルブ１００によってまとめて説明するものとする。また、図７〜図９は、ゲートバルブ１００を上面側から見た断面図である。
【００５６】
このゲートバルブ１００は、キャリア２５が通過する通路１０１を形成する開口部１０２ａ，１０２ｂが設けられた一対の隔壁１０３Ａ，１０３Ｂと、一対の隔壁１０３Ａ，１０３Ｂの間で移動操作される弁体１０４と、開口部１０２ｂを閉塞する位置と開口部１０２ｂを開放する位置との間で弁体１０４を駆動する駆動機構１０５とを備えている。
【００５７】
弁体１０４は、開口部１０２ｂを閉塞するのに足る大きさで略矩形状に形成された平板部材であり、この弁体１０４の開口部１０２ｂと対向する面には、開口部１０２ｂを囲む位置にて隔壁１０３Ｂに押し付けられるシール部材１０６が設けられている。
【００５８】
シール部材１０６は、フッ素ゴム等のゴム製又は樹脂製の弾性部材をリング状に形成したＯリングからなる。このシール部材１０６は、弁体１０４の開口部１０２ｂと対向する面に設けられた溝部に嵌め込まれた状態で取り付けられている。また、シール部材１０６は、その一部が溝部の外側にはみ出すように配置されている。
【００５９】
また、ゲートバルブ１００は、弁体１０４を通路１０１の分断方向に移動可能に案内するガイド機構１０７と、開口部１０２ｂと対向する位置にて弁体１０４を隔壁１０３Ｂと接離可能な方向に傾動可能に案内するカム機構１０８とを備えている。
【００６０】
具体的に、弁体１０４は、通路１０１を分断する方向に延長されたアーム１０９の先端に、当該アーム１０７と直交した状態（いわゆるＴ字状）で取り付けられている。
【００６１】
ガイド機構１０７は、アーム１０９の中間部に設けられて弁体１０４と一体に移動するガイドプレート（移動体）１１０と、このガイドプレート１１０が係合されるガイド孔１１１とを有し、ガイドプレート１１０がガイド孔１１１内を移動することによって、弁体１０４を通路１０１の分断方向に移動可能に案内する。
【００６２】
カム機構１０８は、アーム１０９の基端部に設けられて弁体１０４と一体に移動するカムプレート（移動体）１１２と、このカムプレート１１２が係合されるカム孔１１３とを有し、カムプレート１１２がカム孔１１３内を移動することによって、弁体１０４を隔壁１０３Ｂと接離可能な方向に傾動可能に案内する。
【００６３】
駆動機構１０５は、駆動力にエア圧を利用したエアシリンダ機構であり、アーム１０７の基端部に接続されたピストン１１４と、このピストン１１４が配置されるシリンダ１１５と、このシリンダ１１５内の第１の空間Ｓ１に並列に接続された第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂからなる第１のバルブ機構１１６と、第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂへのエアの供給又は排出を切り替える切替バルブ１１６ｃと、このシリンダ１１５内の第２の空間Ｓ２に並列に接続された第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂからなる第２のバルブ機構１１７と、第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂへのエアの供給又は排出を切り替える切替バルブ１１７ｃとを有している。
【００６４】
具体的に、第１の空間Ｓ１は、シリンダ１１５内のピストン１１４を挟んだ弁体１０４とは反対側（図７〜９中の下側）に形成される空間であり、第２の空間Ｓ２は、シリンダ１１５内のピストン１１４を挟んだ弁体１０４側（図７〜９中の上側）に形成される空間である。そして、第１及び第２の開閉バルブ１１６ａ，１１７ａには、流路の開閉のみを行う電磁バルブが用いられ、第１及び第２の流量調整バルブ１１６ｂ，１１７ｂには、流路の開閉に加えて流路を流れるエアの流量調整が可能なニードルバルブが用いられている。
【００６５】
以上のような構造を有するゲートバルブ１００では、図７に示すように、通路１０１の開口部１０２ｂが開放された状態から、駆動機構１０５により弁体１０４を通路１０１の分断方向の一方側（図７〜９中の上方側）に移動させる。
【００６６】
このとき、駆動機構１０５は、第１の切替バルブ１１６ｃから第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂを介して第１の空間Ｓ１にエアを供給しながら、第２の切替バルブ１１７ｃから第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂを介して第２の空間Ｓ２からエアが排出されることによって、シリンダ１１５内のピストン１１４を一の方向（図７〜９中の上方）に向かって押圧移動させる。
【００６７】
これにより、弁体１０４は、図８に示すように、ガイド機構１０７により案内されながら、隔壁１０３Ｂの開口部１０２ｂと対向する位置まで移動される。そして、更に駆動機構１０５がシリンダ１１５内のピストン１１４を一の方向（図７〜９中の上方）に向かって押圧移動させる。
【００６８】
これにより、弁体１０４は、図９に示すように、カム機構１０８により案内されながら、隔壁１０３Ｂと近接する方向に向かって傾動する。そして、弁体１０４は、最終的に隔壁１０３Ｂにシール部材１０５を圧接させた状態で開口部１０２ｂを閉塞する。
【００６９】
これにより、インライン式成膜装置では、このゲートバルブ１００を介して接続された２つのチャンバ間に設けられた通路１０１を閉塞することが可能となっている。また、チャンバ同士を独立した圧力に維持するために行われるゲートバルブ１００の閉動作（プロセス閉）と共に、整備時に大気側と真空側とを隔離するために行われるゲートバルブ１００の閉動作（大気閉）を行うことが可能となっている。
【００７０】
一方、ゲートバルブ１００では、上述した動作とは逆の動作によって、通路１０１を開放することが可能である。すなわち、このゲートバルブ１００では、図９に示すように、弁体１０４により通路１０１の開口部１０２ｂが閉塞された状態から、駆動機構１０５により弁体１０４を通路１０１の分断方向の他方側（図７〜９中の下方側）に移動させる。
【００７１】
このとき、駆動機構１０５は、第２の切替バルブ１１７ｃから第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂを介して第２の空間Ｓ２にエアを供給しながら、第１の切替バルブ１１６ｃから第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂを介して第１の空間Ｓ１からエアが排出されることによって、弁体１０４が開口部１０２ｂを開放する他の方向（図７〜９中の下方）に向かってシリンダ１１５内のピストン１１４を押圧移動させる。
【００７２】
これにより、弁体１０４は、図８に示すように、カム機構１０８により案内されながら、隔壁１０３Ｂと離間する方向に向かって傾動し、隔壁１０３Ｂの開口部１０２ｂと対向する位置まで移動する。そして、更に駆動機構１０５がシリンダ１１５内のピストン１１４を他の方向（図７〜９中の下方）に向かって押圧移動させる。
【００７３】
これにより、弁体１０４は、図７に示すように、ガイド機構１０７により案内されながら、通路１０１の分断方向の他方側（図７〜９中の下方側）へと移動する。そして、弁体１０４は、最終的に隔壁１０３Ｂの開口部１０２ｂを開放する位置まで移動する。
【００７４】
これにより、インライン式成膜装置では、キャリア２５の搬送時に、このゲートバルブ１００を介して接続された２つのチャンバ間に設けられた通路１０１を開放することが可能となっている。なお、このようなゲートバルブ１００は、各チャンバの間に２つ配置されており、他方の隔壁１０３Ａに設けられた開口部１０２ａも同様に開閉することが可能となっている。
【００７５】
ところで、本発明を適用したゲートバルブ１００では、弁体１０４により通路１０１を閉塞する際に、シリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向（一方）の端部に到達する直前に、第２の開閉バルブ１１７ａを全閉することによって第２の流量調整バルブ１１７ｂのみで排気する。これにより、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方の端部に到達したとき、このシリンダ１１５の一方の端部とピストン１１４とが接触することにより発生する振動を抑制することができる。
【００７６】
すなわち、上記駆動機構５では、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方の端部に到達する直前に、第２のバルブ機構１１７によってシリンダ１１５内の第２の空間Ｓ２から排出されるエアの流量を絞り込む（低下させる）ことで、シリンダ１１５内で一の方向へと向かうピストン１１４の排気抵抗が増すことになる。そして、この排気抵抗がいわゆるエアークッションの役割をすることで、シリンダ１１５の一方の端部とピストン１１４との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。
【００７７】
また、本発明を適用したゲートバルブ１００では、弁体１０４により通路１０１を開放する際も同様に、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向（他方）の端部に到達する直前に、第１の開閉バルブ１１６ａを全閉することによって第１の流量調整バルブ１１６ｂのみで排気する。これにより、シリンダ１１５内のピストン１１４が他方の端部に到達したとき、このシリンダ１１５の他方の端部とピストン１１４とが接触することにより発生する振動を抑制することができる。
【００７８】
すなわち、上記駆動機構５では、シリンダ１１５内のピストン１１４が他方の端部に到達する直前に、第１のバルブ機構１１６によってシリンダ１１５内の第１の空間Ｓ１から排出されるエアの流量を絞り込む（低下させる）ことで、シリンダ１１５内で他の方向へと向かうピストン１１４の排気抵抗が増すことになる。そして、この排気抵抗がいわゆるエアークッションの役割をすることで、シリンダ１１５の他方の端部とピストン１１４との接触による衝撃を緩和し、振動の発生を抑制することが可能となる。
【００７９】
さらに、上記ガイド機構１０７には、ガイドプレート１１０がガイド孔１１１の一方の端部まで位置したときに、このガイドプレート１１０と当接される樹脂ストッパ１１８が配置されている。
【００８０】
この場合も、ガイドプレート１１０とガイド孔１１１の一方の端部との接触による衝撃を樹脂ストッパ１１８により緩和し、シリンダ１１５内のピストン１１４が上方側の端部に到達したときの振動の発生を抑制することが可能である。
【００８１】
なお、このような樹脂ストッパ１１８は、上述したガイド孔１１１の一方の端部以外にも、ガイド孔１１１の他方の端部に設けることが可能である。この場合、ガイドプレート１１０とガイド孔１１１の他方の端部との接触による衝撃を樹脂ストッパ１１８により緩和し、シリンダ１１５内のピストン１１４が他方の端部に到達したときの振動の発生を抑制することが可能である。
【００８２】
また、本発明では、上記駆動機構５における可動部分の軽量化を図ることで、上記ゲートバルブ１００の開閉動作に伴う振動の発生を更に抑制することが可能である。
【００８３】
以上のように、本発明を適用したインライン式成膜装置では、上記ゲートバルブ１００によってキャリア２５が通過する通路１０１を開閉する動作を高速で行うことが可能である。また、ゲートバルブ１００が通路１０１を開閉する際の振動等の発生を抑制することが可能なため、キャリア２５に保持された非磁性基板８０に傷等が生じたりすることを防ぐことが可能である。
【００８４】
なお、本発明は、上記実施形態のものに必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
すなわち、本発明では、上述したシリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向の端部に到達する直前に、第２のバルブ機構１１７により第２の空間Ｓ２から排出されるエアの流量を絞り込む一方、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向の端部に到達する直前に、第１のバルブ機構１１６により第１の空間Ｓ１から排出されるエアの流量を絞り込む構成であればよい。
【００８５】
例えば、本発明では、上記第１のバルブ機構１１６を構成する第１の開閉バルブ１１６ａ及び第１の流量調整バルブ１１６ｂと、上記第２のバルブ機構１１７を構成する第２の開閉バルブ１１７ａ及び第２の流量調整バルブ１１７ｂとのうち、第１及び第２の開閉バルブ１１６ａ，１１７ａを省略した構成とし、シリンダ１１５内のピストン１１４が一の方向の端部に到達する直前に、第２の流量調整バルブ１１７ｂにより第２の空間Ｓ２から排出されるエアの流量を絞り込む一方、シリンダ１１５内のピストン１１４が他の方向の端部に到達する直前に、第１の流量調整バルブ１１６ｂにより第１の空間Ｓ１から排出されるエアの流量を絞り込む構成とすることも可能である。
【００８６】
（磁気記録媒体の製造方法）
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法は、上記インライン式成膜装置を用いて、キャリア２５に保持された第１又は第２成膜用基板２３、２４（非磁性基板８０）を複数のチャンバ２、５２、４〜２０、５４、３Ａの間で順次搬送させながら、この非磁性基板８０の両面に、軟磁性層８１、中間層８２、記録磁性層８３により構成される磁性層８１０と、保護層８４とを順次積層し、更に最表面に潤滑膜８５を形成することによって、磁気記録媒体を製造する。
【００８７】
本発明を適用した磁気記録媒体の製造方法では、上記インライン式成膜装置を用いることによって、磁気記録媒体８０の製造能力を高めると共に、高品質の磁気記録媒体８０を製造することが可能である。
【実施例】
【００８８】
以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。
【００８９】
本実施例では、実際に上記図７〜図９に示すゲートバルブ１００を用いて、キャリア２５が通過する通路１０１を開閉動作させた際に、本発明のように、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方又は他方の端部に到達する直前に、第２又は第１の開閉バルブ１１７ａ，１１６ａを全閉することによって第２又は第１の流量調整バルブ１１７ｂ，１１６ｂのみで排気する場合（実施例１）と、従来のように、シリンダ１１５内のピストン１１４が一方又は他方の端部に到達する直前に、そのような動作を行わない場合（比較例１）とのゲートバルブ１００の開閉動作に伴う振動について測定を行った。
【００９０】
なお、本実施例では、ゲートバルブ１００のシリンダ１１５の底部に加速度センサ（リオン社製、ＰＶ−９３Ｂ）を取り付けて、デジタルオシロレコーダ（ＮＥＣ三栄社製、ＲＡ１３００ ＲＴ３２１４）を用いて、ゲートバルブ１００の開閉動作に伴う振動（最大加速度）を測定した。また、ゲートバルブ１００の開動作（又は閉動作）にかかる時間をゲートバルブ１００に加えるガス圧によって調整した。
【００９１】
（実施例１）
実施例１では、ゲートバルブ１００の閉動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．３５秒時で２．８ｍ／秒２、動作速度０．３１秒時で２．９ｍ／秒２、動作速度０．２５秒時で５．５ｍ／秒２であった。一方、ゲートバルブ１００の開動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．４５秒時で２．１ｍ／秒２、動作速度０．２９秒時で３．４ｍ／秒２、動作速度０．２７秒時で４．０ｍ／秒２であった。
【００９２】
（比較例１）
比較例１では、ゲートバルブ１００の閉動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．３５秒時で４．２ｍ／秒２、動作速度０．３１秒時で７．２ｍ／秒２、動作速度０．２５秒時で８．０ｍ／秒２であった。一方、ゲートバルブ１００の開動作時に当該ゲートバルブ１００に生ずる最大加速度は、動作速度０．４５秒時で２．１ｍ／秒２、動作速度０．２９秒時で４．３ｍ／秒２、動作速度０．２７秒時で７．８ｍ／秒２であった。
【００９３】
以上のように、本発明の流量の絞り込み動作を行った場合は、従来のように流量の絞り込み動作を行わなかった場合よりも、ゲートバルブの開閉動作に伴う振動を大幅に抑制することが可能となった。
【符号の説明】
【００９４】
１…基板移載ロボット台
２…基板供給ロボット室
３…基板カセット移載ロボット
４、７、１４、１７…コーナー室
５、６、８〜１３、１５、１６、１８〜２１…チャンバ
２２…基板取り外しロボット室
２３…第１成膜用基板
２４…第２成膜用基板
２５…キャリア
２６…支持台
２７…ホルダ
２８…板体
２９…円形状の孔部
３０…支持部材
３４…基板供給ロボット
４９…基板取り外しロボット
５２…基板取り付け室
５４…基板取り外し室
５５〜７１…ゲートバルブ
８０…非磁性基板
８１…軟磁性層
８２…中間層
８３…記録磁性層
８４…保護層
８５…潤滑膜
９１…チャンバ
８１０…磁性層
１００…ゲートバルブ
１０１…通路
１０２ａ，１０２ｂ…開口部
１０３Ａ，１０３Ｂ…隔壁
１０４…弁体
１０５…駆動機構（エアシリンダ機構）
１０６…シール部材
１０７…ガイド機構
１０８…カム機構
１０９…アーム
１１０…ガイドプレート（移動体）
１１１…ガイド孔
１１２…ガイドプレート（移動体）
１１３…カム孔
１１４…ピストン
１１５…シリンダ
１１６…第１のバルブ機構
１１６ａ…第１の開閉バルブ
１１６ｂ…第１の流量調整バルブ
１１６ｃ…第１の切替バルブ
１１７…第２のバルブ機構
１１７ａ…第２の開閉バルブ
１１７ｂ…第２の流量調整バルブ
１１７ｃ…第２の切替バルブ
１１８…樹脂ストッパ
２０１…駆動機構（搬送機構）
２０２…磁石
２０３…回転磁石
２０４…真空隔壁
２０５…回転モータ
２０６…回転軸
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜処理を行う複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内で成膜対象となる基板を保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構と、
前記複数のチャンバの間に設けられて、前記キャリアが通過する通路を開閉するゲートバルブとを備え、
前記ゲートバルブは、前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構により前記第２の空間から排出されるエアの流量を絞り込む一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１のバルブ機構により前記第１の空間から排出されるエアの流量を絞り込むことを特徴とするインライン式成膜装置。
【請求項２】
前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする請求項１に記載のインライン式成膜装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする請求項２に記載のインライン式成膜装置。
【請求項４】
前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有して、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする請求項２又は３に記載のインライン式成膜装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記基板の表面に少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
複数のチャンバの間で通路の開閉を行うゲートバルブであって、
前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構により前記第２の空間から排出されるエアの流量を絞り込む一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１のバルブ機構により前記第１の空間から排出されるエアの流量を絞り込むことを特徴とするゲートバルブ。
【請求項７】
前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする請求項６に記載のゲートバルブ。
【請求項８】
前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする請求項７に記載のゲートバルブ。
【請求項９】
前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有し、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする請求項７又は８に記載のゲートバルブ。
【請求項１】
成膜処理を行う複数のチャンバと、
前記複数のチャンバ内で成膜対象となる基板を保持するキャリアと、
前記キャリアを前記複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構と、
前記複数のチャンバの間に設けられて、前記キャリアが通過する通路を開閉するゲートバルブとを備え、
前記ゲートバルブは、前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構により前記第２の空間から排出されるエアの流量を絞り込む一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１のバルブ機構により前記第１の空間から排出されるエアの流量を絞り込むことを特徴とするインライン式成膜装置。
【請求項２】
前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする請求項１に記載のインライン式成膜装置。
【請求項３】
前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする請求項２に記載のインライン式成膜装置。
【請求項４】
前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有して、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする請求項２又は３に記載のインライン式成膜装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載のインライン式成膜装置を用いて、前記基板の表面に少なくとも磁性層を形成する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
複数のチャンバの間で通路の開閉を行うゲートバルブであって、
前記通路を形成する開口部が設けられた一対の隔壁と、前記一対の隔壁の間で移動操作される弁体と、前記開口部を閉塞する位置と前記開口部を開放する位置との間で前記弁体を駆動する駆動機構とを有し、
前記駆動機構は、前記弁体に接続されたピストンと、前記ピストンが配置されるシリンダと、前記シリンダ内の第１の空間に接続された第１のバルブ機構と、前記シリンダ内の第２の空間に接続された第２のバルブ機構とを有して、
前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させる一方、
前記第２のバルブ機構を介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１のバルブ機構を介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させるエアシリンダ機構であって、
前記エアシリンダ機構は、前記シリンダ内のピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２のバルブ機構により前記第２の空間から排出されるエアの流量を絞り込む一方、
前記シリンダ内のピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１のバルブ機構により前記第１の空間から排出されるエアの流量を絞り込むことを特徴とするゲートバルブ。
【請求項７】
前記第１のバルブ機構は、前記シリンダ内の第１の空間に並列に接続された第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを有し、
前記第２のバルブ機構は、前記シリンダ内の第２の空間に並列に接続された第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを有し、
前記エアシリンダ機構は、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間にエアを供給しながら、前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を閉塞する一の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記一の方向の端部に到達する直前に、前記第２の開閉バルブを全閉することによって前記第２の流量調整バルブのみで排気する一方、
前記第２の開閉バルブ及び第２の流量調整バルブを介して前記第２の空間にエアを供給しながら、前記第１の開閉バルブ及び第１の流量調整バルブを介して前記第１の空間からエアが排出されることによって、前記弁体が前記開口部を開放する他の方向に向かって前記シリンダ内のピストンを押圧移動させ、このピストンが前記他の方向の端部に到達する直前に、前記第１の開閉バルブを全閉することによって前記第１の流量調整バルブのみで排気することを特徴とする請求項６に記載のゲートバルブ。
【請求項８】
前記第１及び第２の開閉バルブが電磁バルブであり、前記第１及び第２の流量調整バルブがニードルバルブであることを特徴とする請求項７に記載のゲートバルブ。
【請求項９】
前記弁体と一体に移動する移動体と、前記移動体が係合されるガイド孔とを有し、前記移動体が前記ガイド孔内を移動することによって、前記弁体を前記通路の分断方向に移動可能に案内するガイド機構を備え、
前記ガイド機構は、前記移動体が前記ガイド孔の少なくとも一方の端部に位置するとき、当該移動体と当接される樹脂ストッパを有することを特徴とする請求項７又は８に記載のゲートバルブ。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−１２７１９０（Ｐ２０１１−１２７１９０Ａ）
【公開日】平成２３年６月３０日（２０１１．６．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２８７６７９（Ｐ２００９−２８７６７９）
【出願日】平成２１年１２月１８日（２００９．１２．１８）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月３０日（２０１１．６．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月１８日（２００９．１２．１８）
【出願人】（０００００２００４）昭和電工株式会社 (3,251)
【Ｆターム（参考）】
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