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Fターム[5D121EE03]の内容

光記録担体の製造 (9,591) | 担体各層の形成 (2,196) | 気相法による薄膜形成 (765) | スパッタリング (263)

Fターム[5D121EE03]に分類される特許

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【課題】コンパクトで使い勝手が良く、イニシャルコストもランニングコストも安い真空成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバ(2)内に、ワークホルダ(10)と、マグネトロン電極(15)とを設ける。マグネトロン電極(15)には、第1のターゲット材料(16)を設け、これに重ね合わせるように第2のターゲット材料(17)を設ける。第2のターゲット材料(17、17)は第1のターゲット材料(16)をカバーする位置と、開放する位置の2位置を採ることができるようにする。ワークホルダ(10)と、第1、2のターゲット材料(16、17)との間には、直流電圧と高周波電圧とが選択可能に印加されるようにする。 (もっと読む)


【課題】 膜の良好な平坦性および耐紫外線性を有すると共に酸化による反射率の低下を防ぐことができる光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて成膜した光記録媒体の反射膜を提供する。
【解決手段】 反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットが、In:0.5〜10質量%およびZn:0.5〜10質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる。または、In:0.5〜10質量%、Zn:0.5〜10質量%およびCu:0.5〜2質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる。 (もっと読む)


【課題】焼結後の冷却時における割れの発生を抑制することができる酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにこれに用いる緩衝粉を提供すること。
【解決手段】焼結後の冷却時に膨張する金属酸化物粉を含む圧粉体を形成する工程と、該圧粉体を型内に配置し該型内の前記圧粉体の外周に緩衝粉を充填した状態で熱間加工して酸化物スパッタリングターゲットとなる酸化物焼結体4を作製する工程とを有し、緩衝粉3を、熱間加工時の加熱により焼結すると共に焼結後の冷却時に酸化物焼結体4の膨張により緩衝粉3による焼結体が割れる粉末とする。 (もっと読む)


【課題】 耐塩化性に優れた光記録媒体用半透明反射膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 光記録媒体用半透明反射膜が、Mgを、1質量%を超え3質量%以下含有し、さらにEuを、0.05〜1質量%含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成の銀合金で構成されている。この光記録媒体用半透明反射膜の製造方法は、Mgを、1質量%を超え3質量%以下含有し、さらにEuを、0.05〜1質量%含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成の銀合金で構成されているスパッタリングターゲットを用いてスパッタにより成膜する。 (もっと読む)


【課題】データが記録されるデータ層を介して、視認可能なパターンを表示する光ディスク、その製造方法及び再生装置を提供する。
【解決手段】データ層は、データ層基板11、及び、データ層基板11の上面側に積層される半透過膜であるデータ層反射膜12を備える。表示層は、視認可能な表示パターン24が形成された表示層基板21、及び、表示層基板21の下面側に積層された表示層反射膜22を備える。中間層30は、データ層の上面と前記表示層の下面とを接着する。 (もっと読む)


【課題】記録特性の優れた光情報記録媒体用記録層、その記録層を備えた光情報記録媒体、および上記記録層の形成に有用なスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、Ag酸化物と;In酸化物、Sn酸化物、およびZn酸化物よりなる群から選択される少なくとも一種の酸化物と、を含む光情報記録媒体用記録層である。 (もっと読む)


【課題】 膜の良好な平坦性および耐紫外線性を有すると共に酸化による反射率の低下を防ぐことができる光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて成膜した光記録媒体の反射膜を提供する。
【解決手段】 In:0.5〜10質量%およびAl:2.5〜10質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金である。または、In:0.5〜10質量%、Al:2.5〜10質量%およびCu:0.5〜2質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金である。 (もっと読む)


【課題】メモリー点と非メモリー部との界面付近に偏析濃縮し、書き換え回数及び消去率の低下の原因となる不純物、特に結晶化速度に影響を与える不純物元素を極力減少させると共に、目標組成に対するターゲットの組成のずれ及び成分偏析を減少させて、相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び相変化メモリー用膜を提供する。
【解決手段】3元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ1成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±1.0at%以下であって、ガス成分を除く純度が99.995wt%以上であり、ガス成分である炭素、窒素、酸素、硫黄の総量が700ppm以下である相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜。 (もっと読む)


【課題】面内均一性に極めて優れたAg系薄膜を形成するのに有用なAg系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ag系スパッタリングターゲットのスパッタリング面の平均結晶粒径daveを下記手順(1)〜(3)によって測定したとき、平均結晶粒径daveは10μm以下を満足する。(手順1)スパッタリング面の面内に任意に複数箇所を選択し、選択した各箇所の顕微鏡写真(倍率:40〜2000倍)を撮影する。(手順2)各顕微鏡写真について、井桁状または放射線状に4本以上の直線を引き、直線上にある結晶粒界の数nを調べ、各直線ごとに下式に基づいて結晶粒径dを算出する。d=L/n/m式中、Lは直線の長さ、nは直線上の結晶粒界の数、mは顕微鏡写真の倍率を示す。(手順3)全選択箇所の結晶粒径dの平均値をスパッタリング面の平均結晶粒径daveとする。 (もっと読む)


【課題】保存信頼性に優れ、かつ酸化インジウムおよび酸化スズを保護層の材料として用いた場合よりもさらに生産性に優れた追記型光記録媒体を提供する。
【解決手段】光記録媒体は、無機記録層と、無機記録層の少なくとも一方の面に設けられた酸化インジウムを含む複合酸化物を主成分とする保護層とを備える。複合酸化物を[(In231-X(A)X]としたときに、Aは酸化セリウムまたは酸化ガリウムであり、Xは0.15≦X≦0.75の範囲を満たす。 (もっと読む)


【課題】凹凸構造を有する基板表面の膜厚分布の改善を図ることができる成膜装置及び成膜方法を提供すること。
【解決手段】本発明の成膜装置1は、被成膜面上の一方向である第1の方向に沿って形成された凹凸構造を有する基板Wを成膜対象とし、ステージ3と、成膜源4と、検出部10と、成膜源制御部16とを具備する。成膜源4は、成膜材料Tから成膜粒子を生成させ、ステージ3に支持された基板Wに第2の方向から成膜粒子を照射する。検出部10は、ステージ3の回転角度を検出する。成膜源制御部16は、検出部10の検出結果に基づいて、第1の方向と、第2の方向を被成膜面に投影した第3の方向とが平行となる回転角度のときは、成膜速度が第1の成膜速度となり、第1の方向と第3の方向とが垂直となる回転角度のときは、成膜速度が第1の成膜速度より小さい第2の成膜速度となるように成膜源4を制御する。 (もっと読む)


【課題】光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善するスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。硫化物を含まない酸化錫粉、酸化亜鉛粉、及び3価以上の元素の酸化物粉を混合して800〜1300℃で仮焼し、粉砕、造粒処理を経て加圧成形を行った後、焼結して製造することを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。 (もっと読む)


【課題】歩留まりの悪化を回避しつつ、情報媒体の製造コストを十分に低減する。
【解決手段】ディスク状の情報媒体の製造時において中間体100の一面にスパッタリング法によって機能層を形成する際に一面における外周部を覆って外周部に対する機能層形成用材料の付着を規制するための平面視円環状の外周マスク1であって、機能層の形成に際して機能層形成用材料が付着する材料付着面15に凹部21〜23が形成されることにより、外周マスク1の厚み方向で外向きに突出した角部A、および厚み方向で内向きに凹んだ角部Bが材料付着面15に形成されると共に、ショットブラストによって材料付着面15が表面処理されている。 (もっと読む)


【課題】光メディアの記録信頼性を向上できる、スパッタリングターゲットの製造方法等を提供する。
【解決手段】石英ガラス容器及び石英ガラスボールを備えたボールミル中において石英粒子を粉砕する粉砕工程と、粉砕工程後のボールミル中にさらにZnO粒子を添加し、粉砕された石英粒子とZnO粒子とを前記ボールミル中で混合することにより混合物を得る混合工程と、混合物を焼結する工程と、を備える製造方法により得られる、SiO及びZnOを主成分とする干渉膜24を有する光メディアスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】高線速度記録が可能で、広い線速度範囲で高品質の信号が得られ、かつ信号保存性に優れた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の情報記録媒体は、レーザビームの照射または電流の印加によって、相変化を起こす記録層15を有する情報記録媒体1である。前記記録層15は、第1構成層〜第X構成層(Xは2以上の整数)を、前記記録層15の厚み方向に順に配置することによって形成されている。前記第1構成層〜前記第X構成層のうち少なくとも何れか1つの構成層である第m構成層(mは1≦m≦Xを満たす整数)が、Ge−SbまたはTeを含む。 (もっと読む)


【課題】透明で環境負荷耐性のある薄膜材料であり、スパッタ膜の400nm近辺の青色レーザーの波長領域の消衰係数を改善することができる光記録媒体用薄膜を提供し、かつこの光記録媒体用薄膜のスパッタリング成膜時に、ダスト(発塵)の少ない焼結体スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】インジウム(In)、スズ(Sn)、ニッケル(Ni)で構成される酸化物であり、各金属元素の原子比が、0.04≦In/(In+Sn+Ni)≦0.57、0.29≦Sn/(In+Sn+Ni)≦0.73、0.04≦Ni/(In+Sn+Ni)≦0.33、の範囲にある焼結体スパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】 ZrS系薄膜よりも短波長のレーザー光に対する屈折率が高く、耐熱衝撃性に優れ、かつ熱に対して高い安定性を有するとともに、直流スパッタリング等の効率の良いデポジション法によって成膜することが可能な薄膜を提供する。
【解決手段】酸化チタン系薄膜は、酸化チタンを主成分とし、副成分として酸化ニオブを含有してなり、400nmの波長光に対する屈折率が2.5以上であり、かつ非晶質構造を有する。この酸化チタン系薄膜は、例えば光記録媒体に用いられる。 (もっと読む)


【課題】異常放電や割れのない、金属酸化物および金属を含む光情報記録媒体用記録層などの形成に有用な、金属酸化物−金属複合スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、金属酸化物Aと、金属Bとを含む複合スパッタリングターゲットであって、金属酸化物の円相当直径の最大値が低く粒度調整された原料粉末の焼結により、前記金属酸化物Aの円相当直径の最大値が200μm以下に制御されている。前記金属酸化物Aは凝集していても良い。 (もっと読む)


【課題】従来と同程度の高い屈折率と、安定した高い成膜レートとを併せ持つ優れた透過率調整層を備えた情報記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明の情報記録媒体は、基板1上にN個の情報層(Nは2以上の整数)が設けられている。各情報層11,12にレーザビーム4が照射されることによって、情報の記録および再生が行われる。前記N個の情報層を、レーザビーム入射側と反対側から順に第1情報層〜第N情報層とした場合、N個の情報層に含まれる第L情報層(Lは、2≦L≦Nを満たす整数)が、少なくとも、レーザビームの照射によって相変化を起こしうる記録層135と、反射層132と、透過率調整層131とを、レーザビーム入射側からこの順で含んでいる。透過率調整層131は、TiおよびBiの少なくともいずれか一方と、Nbと、酸素(O)とを含む。透過率調整層131におけるNbの含有割合は、2.9原子%以上26.5原子%以下である。 (もっと読む)


【課題】記録特性の優れた光情報記録媒体用記録層、その記録層を備えた光情報記録媒体、および上記記録層の形成に有用なスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】レーザー光の照射により記録が行われる記録層であって、酸素1molに対する酸化物の標準生成自由エネルギーの絶対値がPdよりも大きい金属(以下、X金属という)の酸化物と、酸化Pdとを含み、該酸化Pdが一酸化Pdと二酸化Pdを含むものであり、かつ、記録層に含まれるX金属原子とPd原子の合計に対するPd原子の比率が4〜85原子%であることを特徴とする光情報記録媒体用記録層。 (もっと読む)


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