説明

Fターム[5E315GG03]の内容

印刷回路用の絶縁金属基体 (4,442) | 目的、効果 (812) | 絶縁性 (80)

Fターム[5E315GG03]に分類される特許

21 - 40 / 80


【課題】放熱特性が向上した放熱基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】銅基板330、銅基板330の一面に形成されたアルミナ層320、アルミナ層320に形成された第1回路層340からなる放熱基板を用い、アルミナ層320を貫くように開口部390を形成し、開口部390を通じてアルミナ層320から露出された銅基板330にソルダパッド610を付着した後、これに発熱素子600を実装することにより、銅基板330の露出面に発熱素子600が直接実装されるパッケージ700を具現する。 (もっと読む)


【課題】高い熱伝導率と高い電気絶縁性を有する樹脂硬化物を形成可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂組成物を、ビフェニル骨格を有する2官能エポキシ樹脂と、フェノール樹脂と、重量累積粒度分布の小粒径側からの累積50%に対応する粒子径D50が7μm以上25μm以下である第1のアルミナ群、粒子径D50が1μm以上7μm未満である第2のアルミナ群、及び、粒子径D50が1μm未満である第3のアルミナ群と、を含み、第1から第3のアルミナ群の総質量中の、第1のアルミナ群の含有率が60質量%以上70質量%以下、且つ第2のアルミナ群の含有率が15質量%以上30質量%以下、且つ第3のアルミナ群の含有率が1質量%以上25質量%以下であり、第3のアルミナ群に対する第2のアルミナ群の含有比率(第2のアルミナ群/第3のアルミナ群)が、質量基準で1.2以上1.7以下であるように構成する。 (もっと読む)


【課題】高い耐電圧と高いピール強度を同時に実現可能とする。
【解決手段】本発明の回路基板用積層板の製造方法は、支持体5上に形成され、電気絶縁性の樹脂3a’と電気絶縁性の無機充填材3bと任意に溶媒とを含有した絶縁層3’を、前記支持体5から金属箔上へと転写する工程と、前記絶縁層3’を間に挟んで前記金属箔と金属基板とを貼り合せる工程とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】放熱性、絶縁性を兼ね備え、かつ、光反射性の高い発光素子用実装基板、発光素子用実装基板の製造方法、発光装置及び発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板12の少なくとも一方の面に、酸化アルミニウム層14が形成され、酸化アルミニウム層14上に少なくとも(A)ポリカルボン酸樹脂、(B)エポキシ樹脂及び/またはオキセタン樹脂および(C)白色フィラーを含む樹脂組成物層16を有する。この樹脂硬化物層16上に、銅パターン層18と銀メッキ層20による導体パターンを備え、銀メッキ層20の一部に接着剤層26によりLEDチップ24が固定され、導体パターンとLEDチップ24とが、ワイヤ22を介して電気的に接合される。 (もっと読む)


【課題】放熱性、絶縁性及びピール強度に優れた金属ベース回路基板の実現に有利な技術を提供する。
【解決手段】本発明の回路基板用積層板1は、金属基板2と、前記金属基板2上に設けられ、液晶ポリエステルと50体積%以上の無機充填材とを含有し、前記無機充填材は窒化アルミニウム及び酸化アルミニウムの少なくとも一方と窒化硼素とからなり、前記無機充填材に占める前記窒化硼素の割合は35乃至80体積%の範囲内にある絶縁層3と、前記絶縁層上に設けられた金属箔4とを具備している。 (もっと読む)


【課題】プリント基板に形成される回路層の回路配線の間にゾルゲル層を形成して放熱特性を向上させることができ、回路層の回路配線の間に発生する電気的短絡を防止することができるうえ、回路層の形成されていない金属基板の他面の陽極酸化層を除去することにより放熱効果を増加させることができるプリント基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のプリント基板は、金属基板10と、金属基板10を陽極酸化処理して形成される陽極酸化層20と、陽極酸化層20に形成される回路層30、31と、陽極酸化層20を露出させる、回路層30、31の回路配線の間に光触媒剤でコーティング処理した後、コーティング処理された光触媒剤を硬化させて形成される第1ゾルゲル層50とを含む。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で絶縁性および放熱性に優れた金属ベース回路基板及び金属ベース回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様に係る金属ベース回路基板は、金属板11上に配置された熱硬化性樹脂シート12a(第1の熱硬化性樹脂層)と、熱硬化性樹脂層シート12a上に配置された電子部品実装位置に開口を設けた絶縁シート13(絶縁層)と、絶縁シート13の開口に配置された熱伝導経路部材15と、絶縁シート13及び熱伝導経路部材15の上に配置された熱硬化性樹脂シート12b(第1の熱硬化性樹脂層)と、熱硬化性樹脂シート12bの電子部品実装位置に配置された放熱ランド14b及び放熱ランドから間隔をおいて配置された導電回路14aとを備え、これらを加熱加圧により一体化して形成される。 (もっと読む)


【課題】コア板を分割したときにできる孔を有効に利用して、小型化や搭載効率の向上など、車載用の電気接続箱に好適なメタルコア基板を得る。
【解決手段】車載電気接続箱に搭載される車載電気接続箱用メタルコア基板11の中間層を構成するコア板31に、複数のスリット部32と、これらスリット部32の間に介在する分離用接続部33とで囲まれた島部34を形成する。このコア板34の両面に積層される絶縁層41aで前記島部34を挟んだ状態で、前記分離用接続部33を除去して、前記島部34が前記絶縁層41a内でその他の部分から電気的に独立させる。そして、前記分離用接続部を除去するためにあけた貫通孔46に、該貫通孔46の内周面に露出するコア板31の端面に接する接触部61を保持し、保護や位置決め、固定等に使用する。 (もっと読む)


【課題】微細回路パターンの形成が可能であるうえ、放熱特性が向上した放熱基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の放熱基板は、金属コア層10と、金属コア層10上に形成され、バリア層22、バリア層22に接続された多孔性の第1ポーラス層24、および第1ポーラス層24のポアに充填された絶縁材Iを含む第1絶縁層20と、第1絶縁層20に形成され、第1ポーラス層24のポアに充填され、第1ポーラス層24の上端に形成された第1回路層30と、第1ポーラス層24が成長して形成された第2ポーラス層44、およびポーラス層24,44のポアに充填された絶縁材Iを含む第2絶縁層40と、第1回路層30に接続されるビア55を含み、第2絶縁層40に形成された第2回路層50と、を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】熱と電気の伝導経路を分離させたチップオンボード用金属基板構造を提供する。
【解決手段】放熱基板10と、絶縁層20と、導体層40とによって構成する。放熱基板の片側の平面には凹んでいる積載領域11と突出している接続部12を設ける。絶縁層は、放熱基板上で化成処理(Conversion Coating)を行い化合物を形成させてなるとともに、放熱基板の積載領域を被覆する。絶縁層は、放熱基板の接続部の位置に窓状の熱伝導領域を形成させる。熱伝導領域は、放熱基板の接続部に対応させて設ける。導体層は絶縁層上に設け、チップ50を熱伝導領域に取り付け、導線60で導体層と接続させる。それにより、チップの熱は、素早く熱伝導領域から放熱基板に伝わり放熱が行われ、しかも電子部品の電気伝導には影響を与えない。 (もっと読む)


【課題】絶縁性と放熱性を高めた絶縁層を備える配線基板を低コストで実現する。
【解決手段】配線基板100を、基材となるベース金属部材1と、酸化アルミニウムを含むセラミックス微粒子を原料粉末としてベース金属部材の面に溶射して形成された絶縁層2とによって作製する。絶縁層のX線回折法の回折強度から求まる結晶変換指数が所定の値以上、好ましくは、0.6以上とする。 (もっと読む)


【課題】高い放熱特性を実現しつつも、電気絶縁性を確保し、さらにクラックの発生を防止して良好な歩留まりを実現できる配線基板を提供すること。
【解決手段】金属基材12上に形成された陽極酸化皮膜部30と、陽極酸化皮膜部30上に形成された回路部11とを備えた配線基板であって、回路部11は、絶縁性樹脂を介さずに、陽極酸化皮膜部30上に直接、印刷して焼成することで形成され、陽極酸化皮膜部30は、金属基材12の表面に形成された最下層のバリヤ型陽極酸化皮膜23と、回路部11が形成された最上層のポーラス型陽極酸化皮膜21とを有し、最下層のバリヤ型陽極酸化皮膜23と最上層のポーラス型陽極酸化皮膜21との間に、最上層のポーラス型陽極酸化皮膜21に比べて高い耐熱性を有する中間層のポーラス型陽極酸化皮膜22が配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】全体の厚さを小さくすることができるとともに効率良く製造することができるサスペンション用基板を提供する。
【解決手段】本発明によるサスペンション用基板1は、絶縁層2と、この絶縁層2の一方の面に設けられた第1導体3と、絶縁層2の他方の面に設けられた第2導体4と、この第2導体4に積層された金属基板5とを備えている。このうち第2導体4および金属基板5に溝6が形成され、第2導体4は、溝6を介して分離された複数の第2導体部分4a、4bからなっている。また、金属基板5は、各第2導体部分4a、4bに対応する複数の金属基板部分5aからなっている。 (もっと読む)


【課題】陽極酸化法を用いてアルミニウム板に絶縁部分を平坦に形成できる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極酸化アルミニウムを溶解する能力が高いシュウ酸チタンカリ溶液中でアルミニウム板20を陽極酸化するため、多孔質型陽極酸化部分(酸化アルミニウム部分)で、孔径が大きく、体積の大きな孔が形成されるので、壁部分の体積が小さくなり、多孔質型陽極酸化部分(酸化アルミニウム部分)で膨張することが無い。このため、酸化アルミニウム部分(絶縁部分)24が膨らまず、基板40を平坦に形成することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、信頼性向上の要求に応える配線基板を提供するものである。
【課題を解決するための手段】本発明の一形態にかかる配線基板3の製造方法は、導電性領域を有し、該導電性領域が表面に露出した基体7を準備する工程と、基体7を、無機絶縁粒子が分散した溶液13中に浸漬する工程と、基体7の導電性領域に電圧を印加することにより、表面に露出する導電性領域に無機絶縁粒子を凝集させて、露出部を無機絶縁粒子で被覆してなる無機絶縁層8を形成する工程と、無機絶縁層8上に導電層10を形成する工程と、を備えたことを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】Eブロックへの挿入時において、カバー絶縁層および導体パターンの損傷を防止することのできる、回路付サスペンション基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】金属支持基板6と、その上に形成されるベース絶縁層7と、その上に形成される導体パターン8と、ベース絶縁層7の上に、導体パターン8を被覆するように形成されるカバー絶縁層9とを備え、Eブロックに挿入される挿入部5を備える回路付サスペンション基板1において、挿入部5におけるカバー絶縁層9の厚みT1を、挿入部5以外の部分におけるカバー絶縁層9の厚みT2より、厚く形成する。 (もっと読む)


【課題】 アルミニウムなどの金属からなる導電性基板を用いて絶縁性と熱伝導性という相反する2つの要求を満たす、金属をベースとする電子回路基板を提供する。
【解決手段】 熱伝導性電子回路基板100は、電子回路を形成する基板となるとともに、電子回路素子において発生した熱を拡散させる熱伝導体となる導電性基板110と、導電性基板110の表面に絶縁・熱伝導性塗料を塗布・乾燥して形成した絶縁性と熱伝導性を備えた熱伝導性絶縁膜120と、前記熱伝導性絶縁膜120の表面に形成した電子回路パターン130および電子回路素子140を備える。熱伝導性絶縁膜120は優れた絶縁性と熱伝導性を備えており、薄い膜厚でも電子回路パターン130に対して十分に絶縁性を与えることができ、熱伝導性が良く膜厚が薄いため熱抵抗体とはならず、電子回路素子で発生した熱を効率的に電子回路パターン130から導電性基板110に伝導して系外に放熱する。 (もっと読む)


【課題】絶縁信頼性の高い絶縁回路基板及びこの絶縁回路基板を使用する関連技術を提供することを課題とする。
【解決手段】金属ベース基板1上に絶縁層2を介して導体回路4が形成されている絶縁回路基板12において、前記絶縁層2は、前記導体回路4との界面を形成するとともに無機充填材8が絶縁樹脂7に分散してなる複合絶縁層2aと、無機充填材8を含まない樹脂単体絶縁層2bと、を少なくとも含む複数の層が積層してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】様々な用途に応用可能な所望の平坦性、可撓性、及び絶縁性を有し、金属基板の膨張・収縮への良好な追従が可能で、生産効率の高い、可撓性基板、その製造方法、及びこの可撓性基板を用いた製品を提供する。
【解決手段】可撓性を有する金属基板2と、金属基板2の上に設けられた平坦化層3と、を有する可撓性基板1であって、平坦化層3が、シロキサン化合物と、重合時にこのシロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有し、珪素を分子内に有しない化合物Aと、から構成されるポリシロキサン重合体を含有する可撓性基板1を用いることによって、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】金属支持基板をリードとする電解めっきにおいて、めっき電流の導通の信頼性を確保しながら、導体層を高い自由度でレイアウトすることのできる、回路付サスペンション基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属支持基板32の上に、第1開口部11が形成されるベース絶縁層3を形成し、金属薄膜13を形成し、その表面に導体層4を形成し、外部側接続端子部9の上に電解めっきにより金属めっき層16を形成し、金属支持基板32における第1開口部11との対向部分に、第1開口部11を囲み、かつ、第1開口部11の周端縁と接触しないように、第2開口部12を開口するとともに、金属支持基板32を部分的にエッチングして、金属支持層2を形成することにより、回路付サスペンション基板1と支持枠33とを形成する。そして、第1開口部11を、支持枠33が形成されるベース絶縁層3に形成する。 (もっと読む)


21 - 40 / 80