【課題】ピンホールが少ない金属薄膜を形成できる金属薄膜前駆体層を提供すること。
【解決手段】本発明の金属薄膜前駆体層は、基材上に設けられた、金属前駆体微粒子及び有機ポリマーを含む金属薄膜前駆体層であって、下記式（１）により求めた、波長７３０ｎｍの光線に対する厚さ１μｍあたりの内部透過率（Ｔ_１μｍ）が８５％以下であることを特徴とする。
【数１】


（式（１）中、Ｔ_０は基材のみで測定した光線透過率であり、Ｒ_０は基材のみで測定した絶対反射率であり、Ｔ_１は基材上に金属薄膜前駆体層を設けて測定した光線透過率であり、Ｒ_１は基材上に金属薄膜前駆体層を設けて測定した絶対反射率であり、ｄは金属薄膜前駆体層の厚さ（μｍ）である。） （もっと読む）

【課題】不良発生時に簡単な工程でリペアすることができ、かつ製造コストを低減できる。
【解決手段】少なくとも１つのメイン配線及び前記メイン配線のうち損傷したメイン配線をリペアするための少なくとも１つのリペア配線を備えたセラミック層を設ける段階と、前記セラミック層に、前記メイン配線及び前記リペア配線とそれぞれ電気的に接続できるように、第１導電パターンを形成する段階と、前記メイン配線に損傷が発生した場合、前記第１導電パターンを除去する段階と、前記第１導電パターンが除去された前記損傷したメイン配線上に絶縁部材を形成する段階と、前記セラミック層に、前記損傷したメイン配線と前記リペア配線を接続するように、リペアパターンを形成する段階と、前記リペアパターンが形成された部分を除いた前記メイン配線及び前記リペア配線上に第２導電パターンを形成する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】反応性の高いＺｎを半田付けする際に界面反応に介入させることで構造物の特性が改善された半田付け構造物が提供する。
【解決手段】本半田付け構造物は、Ｚｎを含む結合層および結合層と結合反応する鉛フリー半田を含む。そして、前記結合層は、所定の物質から形成された少なくとも１つの物質層およびＺｎ層が順次積層された多重層の構造であり、前記Ｚｎ層は前記多重層のうち前記鉛フリー半田側の最上に位置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】めっき付着や基板のわれがなく、レジスト成分が残留しない、セラミック基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミック基板と、セラミック基板の一方の主面上に形成された表面電極２１と下地電極２２と、を用意する工程であって、表面電極２１のセラミック基板の他方の主面からの厚みが、下地電極２２のセラミック基板の他方の主面からの厚みよりも大きくなるように、セラミック基板と、表面電極２１と、下地電極２２と、を用意する工程を備える。そして、表面電極２１上と前記下地電極２２上とに、めっき電極３１を形成する工程と、表面電極２１上のめっき電極を除去する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、銅微粒子を従来より短時間で焼結できる方法を提供、その方法により基材上に銅膜を製造することを目的とする。
【解決手段】本発明は銅微粒子と還元剤を含有する組成物を基材上に塗布する工程とこれを空気中でプラズマを照射する工程により、銅微粒子を焼結する工程とを含む銅膜の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】複合基板に基板の反り防止のための部分を設けることなく基板の反りを防ぐことができる複合基板の製造方法を提供する。
【解決手段】（ｉ）基板１２の一方主面１２ｓに、硬化するときに収縮する未硬化の被覆部材１６を配置して、基板１２の一方主面１２ｓが被覆部材１６で覆われた接合体１０を形成する第１の工程と、（ii）接合体１０の被覆部材１６側に配置された第１の治具部材４０と、接合体１０の基板１２側に配置された第２の治具部材３０との間に接合体１０を挟んだ状態で、接合体１０の被覆部材１６を硬化させる第２の工程とを備える。第２の治具部材３０は、第２の工程において第１の治具部材４０とともに接合体１０を挟んだときに基板１２の他方主面１２ｔの中心部に当接して基板１２を第１の治具部材４０側に付勢し、基板１２を反らせる突出部３４を有する。 （もっと読む）

【課題】金属板とセラミックス基板とを確実に接合でき、ろうこぶの形成を抑制してろうこぶの除去作業を不要とし、ろうこぶの除去作業によるセラミックス基板の破損を防止するとともに、精密な加工を可能にするパワーモジュール用基板の製造方法、製造装置、および製造中間体を提供する。
【解決手段】略矩形のセラミックス基板２０、略矩形の金属板３０、およびろう材４０を積層してなる積層体５０を、一対の略矩形の加圧板６０間で加熱することにより、セラミックス基板２０の表面に金属板３０をろう付けする接合工程を有するパワーモジュール用基板の製造方法であって、加圧板６０の少なくとも一つの表面において、１つの角部６１を形成する２辺に沿って、積層体５０から離間する所定幅の逃げ面６３が設けられており、接合工程において、積層体５０の表面と逃げ面６３との間にろう溜まり空間５２が形成される。 （もっと読む）

【課題】無電解めっきとの間に十分な密着強度を確保できるように、化学エッチング剤を使用しないで基体の表面を粗化することができる。
【解決手段】基体１を成形する第１工程と、第１のレーザー光２を照射してこの基体の表面、またはこの表面のうち回路となる部分１ａのみのいずれかを粗化する第２工程と、
この基体の表面に触媒３を付与する第３工程と、この基体を乾燥させる第４工程と、非回路となる部分１ｂに第２のレーザー光４を照射して、この非回路となる部分の触媒の機能を低下または消失させる第５工程と、この回路部分となる部分に無電解めっきを施す第６工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】半田を使用しないで金属−セラミックス回路基板に端子が取り付けられた安価且つ高信頼性の端子付き金属−セラミックス回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス基板収容凹部２２ｃ内にセラミックス基板を配置させ、このセラミックス基板の両面に接触するように鋳型２２、２４内に第１の金属の溶湯を注湯した後に冷却して固化させることにより、金属回路板形成凹部２４ｃ内に金属回路板を形成してその一方の面をセラミックス基板の一方の面に直接接合させるとともに、金属ベース板形成凹部２２ｄ内に金属ベース板を形成してセラミックス基板の他方の面に直接接合させ、その後、鋳型内の金属回路板の他方の面に接触するように第２の金属の溶湯を注湯した後に冷却して固化させることにより、端子形成凹部２４ｄ内に第２の金属からなる端子を形成して金属回路板の他方の面に直接接合させる。 （もっと読む）

【課題】導電性インクジェットインクを使用してインクジェット印刷してもにじむことがなく、焼成して製造された導電パターンと基板との密着性が良いものを提供することである。
【解決手段】微粒子を含まず、少なくともアクリルシリコン樹脂とインク溶媒吸収樹脂からなり、シリコン含有量が固形分比で０．１重量％〜０．５重量％であることを特徴とするインク受容層塗工液であり、このインク受容層塗工液を基板に塗布して、２５℃〜１５０℃の乾燥にてインク受容層を単層で形成して、導電性インクジェットインクを用いて印刷して、２００℃以上の焼成にて導電パターンとなることを特徴とする導電パターン製造方法であり、少なくとも有機保護コロイドを有する銀ナノ粒子と溶媒からなり、溶媒は少なくともノナノールからなることを特徴とする導電性インクジェットインクである。 （もっと読む）

【課題】本発明は多層セラミック基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】多層セラミック基板は、多層のセラミック層１１１、１１２、１１３、１１４、１１５を積層して構成され、各セラミック層に設けられたビア１２２を介して層間接続が行われ、上下部にガラス成分の除去された表面改質層１１１ａ、１１５ａが設けられたセラミック積層体１１０と、該セラミック積層体１１０の上下両面にビア１２２と電気的に接続されるように設けられたコンタクトパッド１４０とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明はセラミック基板の電極パターン形成方法を提供する。
【解決手段】電極パターン形成方法は、セラミック基板１００上に互いに離間された複数の導電性接着パターン１１０を設けるステップと、セラミック基板１００上に導電性接着パターン１１０を覆うメッキシード層１２０を設けるステップと、メッキシード層１２０上に導電性接着パターン１１０と対応する部分を露出させる感光膜パターンを設けるステップと、感光膜パターンにより露出されたメッキシード層１２０上にメッキ層１４０を設けるステップと、感光膜パターン１３０ａを除去するステップと、感光膜パターンが除去されて露出されたメッキシード層１２０の部分をエッチングするステップとを含む。 （もっと読む）

本印刷方法は、印刷ヘッドを用意することを含む。印刷ヘッドは、弁及び少なくとも１つのオリフィスを含む。流体は、概ね連続した流れでオリフィスから噴射される。流体は導電材料を含む。流体は、基板上にパターンを成して堆積し、導電性堆積物を形成する。パターンの少なくとも一部は、ほぼ真直ぐな線を含む。
（もっと読む）

【課題】搭載する部品を傾けることなく接合可能であり、かつ、工程の簡略化が可能な回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板１上の端子部２の表面に、第一の粘着性付与化合物を塗布して第一の粘着層５を形成する工程と、前記端子部２の前記第一の粘着層５上に核体１１を付着する工程と、前記核体１１の表面に、第二の粘着性付与化合物を塗布して第二の粘着層１３を形成する工程と、前記核体１１表面の前記第二の粘着層１３上に第一のはんだ粒子１４を付着する工程と、前記第一のはんだ粒子１４を溶融して、前記核体１１の表面にはんだ層を形成する工程と、を具備してなる回路基板の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】 めっき引き出し線の断線を検知することが容易な多数個取り配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のセラミックグリーンシート11ａ〜11ｃに、配線導体４となる金属ペースト14、配線導体４同士を互いに接続し、互いに電気的に独立した複数のめっき引き出し線５となる金属ペースト15および配線基板領域２を取り囲む枠状導体層６となる金属ペースト16を印刷する工程と、積層して焼成する工程と、めっき引き出し線５における断線の有無を検査する工程と、めっき引き出し線５の露出部分と枠状導体層６とを導電性接続材８を介して電気的に接続した後、枠状導体層６から配線導体４に電流を供給しめっき層を被着させる工程とを備える多数個取り配線基板９の製造方法である。めっき引き出し線５の断線の有無を検査した後でめっき層を被着させるので、めっき層を配線導体４に正常に被着させ得る配線基板領域２を容易に検知することができる。 （もっと読む）

【課題】生産性を向上させる印刷装置、及び生産性を向上させる膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷装置１００は、被印刷物１を一定方向に移動させる搬送手段を有する搬送部１０と、被印刷物１の上方に設けられる印刷部２０と、被印刷物１の上方であって、印刷部２０の下流側に隣接して設けられる加熱部４０と、印刷部２０の下方に設けられ、被印刷物１の印刷部２０に対向した第１の面１ａと反対の第２の面１ｂ側から被印刷物１を吸着固定する吸着部３０と、を含み、吸着部３０は冷却機能を有する。 （もっと読む）

【課題】簡明な工程で、配線パターンの変更等に対する柔軟性が高く、電流容量に応じた厚膜を形成可能な、電気配線の形成方法、形成装置を提供する。
【解決手段】基板の表面に電気配線を形成する装置ＷＳは、基板Ｂを保持する基板保持装置１と、ノズル３０に供給された金属微粒子Ｇをノズルの内部のガス流に分散させて流下させ、所定開口寸法の噴射口３５から気体とともに噴射する噴射装置３と、基板Ｂとノズル３０とを相対移動させる移動機構とを備える。そして、基板保持装置に保持された基板Ｂに、金属微粒子Ｇを噴射して衝突固着させながら移動機構３により基板Ｂとノズル３０とを相対移動させて、常温かつ常圧下で基板Ｂの表面に噴射口３５の開口寸法に応じた線幅の電気配線を形成するように構成される。 （もっと読む）

【課題】はんだバンプを形成する際の脱落や針状結晶の発生を防止し、正常な回路基板の安定した提供を可能とする回路基板製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板１上の端子２の表面に粘着性付与化合物を塗布して粘着層５を形成する工程と、前記粘着層上に、はんだ粒子１１を付着する工程と、前記はんだ粒子に有機酸塩基のハロゲン化水素酸塩を含む活性剤を塗布してから、前記はんだ粒子が付着された回路基板を、はんだの融点以下で加熱して、はんだ粒子を定着させる工程と、前記はんだ粒子が定着された回路基板にフラックスを塗布する工程と、前記回路基板を加熱して、前記はんだ粒子を溶融する工程と、を具備してなることを特徴とする回路基板の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】基板の一面に印刷によって印刷体を形成してなる印刷基板の製造方法において、基板を加工することなく、１回の印刷で平面内の印刷体の膜厚を変える。
【解決手段】印刷体２１、２２として、第１の印刷体２１および第１の印刷体２１よりも薄い第２の印刷体２２を形成するものであり、マスク３０として、第２の印刷体２２を形成するための貫通穴４２の側面が、マスク３０の板厚方向とは平行ではなく且つ面の向きがマスク３０の他面３２側を向いている非平行面４２ａとなっているものを用いて、ペースト供給工程、スキージ塗布工程を行い、その後、マスク除去工程では、マスク３０を基板１１の一面１２の上方に移動させたときに、第２の印刷体２２を形成するための貫通穴４２の内部に位置するペースト５０の一部を、非平行面４２ａによってすくい上げ、マスク３０とともに基板１１から除去する。 （もっと読む）

【課題】 多層セラミック基板の低背化および高機能化を図るために、表面導体が形成された部分の基板表面を平坦化する。
【解決手段】 基材層２０と、基材層２０の少なくとも一方主面に配置され、基材層２０の焼結温度では実質的に焼結しない拘束層４０ａ，４０ｂと、基材層２０と拘束層４０ａ，４０ｂとの界面３ａ，３ｂに形成される表面導体６ａ〜６ｃと、拘束層４０ａ，４０ｂの基材層２０に接する主面に対向する主面および／または内部に形成され、積層方向から投影視した場合に表面導体６ａ〜６ｃが形成された領域を覆うように形成されたダミーパターン８ａ〜８ｃとを有する未焼成の積層体１０を作製する工程と、積層体１０を圧着する工程とを備える多層セラミック基板３０の製造方法。ダミーパターン８ａ〜８ｃが形成された部分はその他の部分よりも積層方向に強く圧力がかかるため、表面導体６ａ〜６ｃを基材層２０に押し込むことにより、基板表面３ａ，３ｂを平坦化することができる。 （もっと読む）