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Fターム[5E343AA36]の内容

Fターム[5E343AA36]に分類される特許

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【課題】良好な描画性、密着性を備えた厚膜の金属パターンが得られる金属パターン形成方法及びそれを用いて形成した金属パターンを提供する。
【解決手段】基板上に触媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する金属パターン形成方法において、該基板は、表面に熱可塑性樹脂微粒子を含む多孔層を有し、かつ触媒がインク中で溶解した状態で存在していることを特徴とする金属パターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】配線層の微細化(ライン:スペースが15:15μm以下)に対応できると共に、配線層とその下の絶縁層との十分な密着性が得られる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下地層10の上に第1配線層20を形成する工程と、第1配線層20の上に、絶縁層30の上に保護層36が設けられた積層体を形成する工程と、保護層36及び絶縁層30を加工して第1配線層20に到達するビアホールVHを形成する工程と、保護層36をマスクにしてビアホールVH内をデスミア処理してその側面を粗化する工程と、保護層36を除去する工程と、ビアホールVHを介して第1配線層20に接続される第2配線層40を絶縁層30の上に形成する工程とを含む。絶縁層30の表面を粗化した後に第2配線層40を形成してもよいし、絶縁層30の表面を粗化せずに第2配線層40を形成してもよい。 (もっと読む)


パターン形成された基材を形成する方法を提供する。本方法は、1つ以上の凹状形成部(310)を有する構造化表面領域を有する基板(300)を提供することを含む。本方法は、第1の液体(325)を構造化表面領域の少なくとも一部分の上に配置することを含む。本方法で、第1の液体を第2の液体(330)と接触させることを含む。本方法で、第2の液体によって構造化表面領域の少なくとも一部分(315)から第1の液体を排除することを含む。第1の液体は1つ以上の凹状形成部の少なくとも一部分に選択的に配置される。
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【課題】耐熱性や難燃性と高接続信頼性を有する低熱膨張係数のエポキシ樹脂組成物を実現させた多層プリント配線板用支持体付き絶縁フィルム及び多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)多官能型エポキシ樹脂、(B)フェノール性水酸基含有ポリアミドイミド及び(C)無機フィラーを含有する絶縁樹脂組成物の半硬化状態のフィルムが支持体表面に形成されてなる多層プリント配線板用支持体付き絶縁フィルム及び、片面または両面に内層回路を有する基板の内層回路上に絶縁樹脂層及び回路が逐次積層されてなり、絶縁樹脂層が前記絶縁樹脂組成物の硬化物で、熱膨張係数が40ppm /K以下である多層プリント配線板である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、絶縁層とインクジェット回路パターンとの間の接着強度を向上でき、インクジェット回路パターンの広がりを抑制して解像度を向上でき、インクジェット方法による回路形成により製造コストを節減できる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る印刷回路基板の製造方法は、絶縁層の表面粗さを形成する工程と、絶縁層に絶縁層の表面エネルギーを低減させる化合物を塗布する工程と、化合物が塗布された絶縁層にインクジェット方式で回路パターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】デスミア処理により粗さを形成できる樹脂層を用いて印刷回路基板の製造工程を行うことにより、微細な第2回路パターンをより容易に形成することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の印刷回路基板の製造方法は、第1絶縁層、第1回路パターン、第2絶縁層、及び樹脂層が順に積層された基板を提供するステップと、基板を貫通する貫通孔を形成するステップと、デスミア処理により樹脂層に粗さを形成するステップと、貫通孔を介して層間導通を行うビアを形成するステップと、粗さが形成された樹脂層に第2回路パターンを形成するステップとを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】多層回路基板において、絶縁樹脂層表面をより平滑にできると共に、良好にレーザビア形成法を適用できる技術を提供する。
【解決手段】支持基板上に絶縁樹脂層と配線層とを有する多層回路基板の製造方法において、密着剤を用いて銅箔を絶縁樹脂層に密着させ、銅箔の自由表面を、複素環を含む化合物で処理し、レーザにより、銅箔を貫通し絶縁樹脂層内に至るビアホールを形成する。 (もっと読む)


【課題】接着強度が高く、高精細の電気的接続を可能とする、フレキシブルプリント基板用ベースフィルム、それを用いたフレキシブルプリント基板とその製造方法及びそれらを用いた電子機器を提供する。
【解決手段】電極が形成される主面に、算術平均粗さRaが1.2μm〜20μmの第1の凹凸が設けられたことを特徴とするフレキシブルプリント(FPC)基板用ベースフィルム。主面に第1の凹凸が設けられたベースフィルムと、前記主面の上に形成され前記第1の凹凸を反映した第2の凹凸を表面に有する電極と、を備えたことを特徴とするFPC基板。主面に第1の凹凸を有するベースフィルムの前記主面に、前記第1の凹凸を反映した第2の凹凸を表面に有する電極を形成することを特徴とするFPC基板の製造方法。上記のFPC基板と、前記FPC基板に接続された電子部品と、を備えたことを特徴とする電子機器。 (もっと読む)


【課題】耐食性に優れた回路を有する回路基板を提供する。
【解決手段】絶縁性基板1の表面に被覆された金属薄膜2に回路3の輪郭に沿ってレーザLを照射して、金属薄膜2を回路3の輪郭で除去することによって回路パターンのめっき下地層4を形成し、めっき下地層4の表面に、めっき下地層4の側からCuめっき層5、Niめっき層6、Auめっき層7の順に金属めっきを施すことによって回路3を形成した回路基板に関する。Niめっき層6とAuめっき層7の間に、Auに対して標準電極電位が卑な金属を有する第一中間めっき層8がAuめっき層に接して、第一中間めっき層8の金属に対して標準電極電位が貴な金属を有する第二中間めっき層9が第一中間めっき層8に接してそれぞれ形成されている。 (もっと読む)


プリプレグ、及び前記プリプレグを使用した金属箔積層板とプリント配線板が提供される。プリプレグは、基材及びこの基材に含浸された液晶高分子樹脂を備え、その一面または両面に0.1ないし5.0μmの表面粗度を持つ。また、このプリプレグを使用した金属箔積層板及びプリント配線板が提供される。 (もっと読む)


【課題】デスミア液に浸漬する樹脂部材の浸漬時間が一定時間であっても、樹脂部材の表面に形成する凹凸程度を容易に調整でき、且つデスミア液の液寿命を延長できるエッチング処理方法を提供する。
【解決手段】アルカリ過マンガン酸エッチング液から成るデスミア液を用いて樹脂部材にエッチング処理を施す際に、前記樹脂部材を形成する樹脂に対する前記デスミア液のエッチング速度を促進する促進剤と、前記エッチング速度を抑制する抑制剤との少なくとも一方を用いて、前記エッチング速度を調整したデスミア液に前記樹脂部材を浸漬してエッチング処理することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】回路パターンの凹凸が大きい配線基板であっても、めっき液が非めっき部位に浸入することによりめっきされることがない。また、マスキングフィルムの打ち抜き加工に性、特にバリや穴が開かないなどの発生を防止する。
【解決手段】絶縁基材4上に凹凸が25μm以上の回路パターンが形成された配線基板のめっき対象部位1,2に選択的にめっきをかけるために、該めっき対象部位1,2以外をマスキングするにあたり、ポリブチレンテレフタレートフィルムの片面に粘着剤層及び離型シートを順次積層させたマスキングフィルムを用い、該マスキングフィルムの該離型シートを剥離後、マスキングフィルムの粘着剤層面を常温環境下で配線基板の所定の場所に貼り付けた後、熱圧着することにより貼り付け、その後めっき対象部位にめっきをすることを特徴とする配線基板のめっき方法。及びこの方法を用いた配線基板である。 (もっと読む)


【課題】製造コスト高を招くことなく配線の微細化に対応し、配線の十分な絶縁を確保するも、環境負荷の高い薬液を用いることなく絶縁層と配線との間で極めて高い密着性を得ることを容易且つ確実に可能とする。
【解決手段】支持基板1上に形成された絶縁層2上に、シラン系材料、例えばテトラエトキシシラン及びシランカップリング剤から選ばれた少なくとも1種を材料に用い、絶縁層上に吸着又は化学反応させることにより密着層3を形成し、この密着層3に波長300nm以下の紫外線を照射する。その後、密着層3上に無電解めっき層4及び配線7をめっき形成する。 (もっと読む)


【課題】多層プリント配線板では、絶縁樹脂層と導体配線層との密着強度向上のため、絶縁樹脂層に粗化処理が行われる。しかし、界面に形成された凹部内部へエッチング残り等が発生して、導体配線パターン間でショートが発生したりする。また、特にファインピッチ導体配線パターンでは高周波領域での信号遅延などの問題が起こる。
【解決手段】少なくとも以下の工程を有することを特徴とする、多層プリント配線板の製造方法である。(1)内層導体パターン上に熱硬化性絶縁樹脂層をコート又はラミネートし、半硬化状態(Bステージ)とする工程。(2)熱硬化性絶縁樹脂層にシランカップリング剤を付与させる工程。(3)無電解めっきにより導体配線シードを形成する工程。(4)導体配線シード層に電子線を照射する工程。(5)導体配線シード層に電解めっきして導体配線層を形成する工程。(6)熱硬化性絶縁樹脂層を熱硬化(ポストベーク)する工程。 (もっと読む)


【課題】ポリイミド樹脂フィルムと導電体層との密着性を向上させた金属張積層板の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するため、ポリイミド樹脂基材の表面に金属層を備える金属張積層板であって、当該金属層は、表面粗さ(Rzjis)が1.0μm以下のポリイミド樹脂基材の表面に無電解法で形成した無電解金属メッキ層であることを特徴とした金属張積層板を採用する。特に、前記ポリイミド樹脂基材は、無電解金属メッキ層の形成前にUV照射による表面改質処理を施したものを用いることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】モールド樹脂の漏れを抑えるため、絶縁樹脂層の外縁表面の凹凸を低減する。
【解決手段】上記目的を達成するため本発明は、放熱板10と、この放熱板10の上方に形成された絶縁樹脂層11と、この絶縁樹脂層11の上方に、それぞれの表面が露出するように埋め込まれた、配線パターン12およびこの配線パターン12近傍に配置された導体パターン13とを備え、この導体パターン13は、絶縁樹脂層11の外縁部に配置されるとともに、この導体パターン13とその近傍の配線パターン12との間には、この導体パターン13の一部を除去して形成した溝14が設けられたものとした。これにより本発明は、モールド加工時の金型と絶縁樹脂層11との隙間が出来にくくなり、その結果モールド樹脂の漏れを抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】配線層が狭ピッチ化されても配線層の剥がれを十分に防止できる配線の形成方法を提供する。
【解決手段】下地絶縁層10の配線配置領域の内側に、配線層20の剥がれを防止するアンカー部20xを構成するための溝10xを形成した後に、下地絶縁層10の配線配置領域に、溝10xに埋め込まれたアンカー部20xを備えて、下地絶縁層10の上面から突出する配線層20を形成する。配線層20の形成方法は、セミアディティブ法が好適に使用される。 (もっと読む)


【課題】ダマシン法を適用して、基板との密着性が高い配線を有し、且つ高周波特性に優れた配線基板を製造しうる配線基板の製造方法、及び該製造方法により得られた配線基板を提供する。
【解決手段】(A)基板の一方の面又は両方の面に、配線形成領域となる凹部28又は貫通孔30を形成する工程と、(B)基板上に、無電解めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を有し且つ基板表面と直接結合するポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、(C)ポリマー層上に、無電解めっき触媒又はその前駆体を付与する工程と、(D)無電解めっきを行い金属層26を形成する工程と、(E)凹部又は貫通孔内のみに金属層が残存するように、基板上に存在する不要な金属層を除去して配線を形成する工程と、を含む配線基板36の製造方法。 (もっと読む)


【課題】可撓性を持つ一般的なプラスチック基板上に、導電パターンを簡単な処理により形成すると供に、低温で配向加圧する簡単な処理を行う装置を用いて導電性パターンを容易に作成する導電パターン形成フィルムと、そのための導電パターン形成方法及び導電パターン形成装置を提供する。
【解決手段】導電パターン形成フィルムは、可撓性を有するフィルム基板上に、金属又は半導体の粉体又は微粒子が分散して充填された導電性ペーストを加熱しながら加圧して形成したパターンを設けてある。導電パターン形成装置は、平らな載置面を有する試料設置台と、載置面に対し移動自在に対向配置された圧力印加用駆動体からなり、前記圧力印加用駆動体は下面に金属球体を設けた金属平板からなる支持台を有する。 (もっと読む)


【課題】絶縁基板に対する導体層の密着性がメッキの際に低下することを防ぐことができ、また電気特性が良好な導体層を形成することができる導体回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板1の表面に導電性ペーストを塗布すると共に焼成することによって導体層2を形成する。薬品バリア性被膜を形成することができるコーティング剤を導体層2に付与して、メッキに使用する薬品に対するバリア性を有する被膜3を導体層2の表面に形成する。次に被膜3を形成した導体層2を研磨して導体層2を露出させた後に、導体層2にメッキを施す。導体層2と絶縁基板1の接合界面を被膜3で覆った状態でメッキを行なうことができ、この接合界面にメッキ液等が作用することを防いで、絶縁基板1に対する導体層2の密着性が低下することを防ぐことができる。 (もっと読む)


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