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Fターム[5E343DD32]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 導体パターンの形成方法 (7,103) | メッキ (3,277) | 湿式メッキ (2,652)

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化学メッキ (1,169)
電解メッキ (1,191)

Fターム[5E343DD32]に分類される特許

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【課題】回路板のキャッピング方法の提供。
【解決手段】物理方式を利用し、第1銅層電気めっき済みの回路板中のラミネート処理後の樹脂体包含の電気めっきスルーホールPTHに対して処理を行ない、ラミネート処理後の該PTHの樹脂体表面に浅い盲孔形式の微細孔を形成し、続いて、該PTHの周囲の該第1銅層電気めっき済みの該回路板、及び、該微細孔を具えた該樹脂体表面に、更に第2銅層の銅めっき工程を実行し、銅めっき工程により、該第2銅層を該樹脂体表面上、及び、該PTH周囲の該第1銅層上に形成し、且つ該第2銅層の下向きの突出部を該樹脂体表面の微細孔と緊密に結合させ、こうして該第2銅層を緊密に該樹脂体表面、及び該第1銅層上に付着させることにより、該樹脂体表面とPTHにめっきされた該第2銅層の付着力を増す。 (もっと読む)


【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、式(1)の化合物を含む(B)光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化1】


[式中、R及びRは水素原子又はメチル基を示し、R及びRのうち少なくとも1つ並びにR〜R12のうち少なくとも1つはアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、−(AO)−及び−(OB)−は(ポリ)オキシエチレン鎖又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合鎖を示し、オキシエチレン基の総数は2〜40であり、オキシプロピレン基の総数は0〜40である。] (もっと読む)


【課題】部品実装のランド等の導電層を作成する際のレジスト剥離工程を少なくして、部品実装基板を少ない工程数で安価に製造する。
【解決手段】第1の工程により、基板体2上の第1のめっきレジスト層7の開口部6にはんだ濡れ性の悪い金属からなる第1の導電層3をめっき形成し、第2の工程により、第1のめっきレジスト層7および第1の導電層3の上層として第1の導電層3上に開口部9を有する第2のめっきレジスト層8を形成し、開口部9に第1の導電層3よりもはんだ濡れ性に優れた金属からなる第2の導電層4aをめっき形成し、第2の導電層4aの形成後、第3の工程により、第1、第2のめっきレジスト層7、8を一括して除去し、その後、第4の工程により、第2の導電層4a上に回路部品5を実装し、レジストの剥離を第3の工程の1回だけ行って、部品実装基板1aを製造する。 (もっと読む)


【課題】 鋳型のパターン形状が精密に転写されており、かつ、導体層と樹脂層との密着性に優れた回路配線基板を効率良く製造する。
【解決手段】 凹凸パターンを有する鋳型に、金属イオン含有ポリアミド酸溶液を塗布し、乾燥させてポリアミド酸層を形成した後、これを鋳型から剥離して凹凸面を有するポリアミド酸フィルムとする。このポリアミド酸フィルム中の金属イオンを還元して凹凸面の表面に金属析出層を形成させる。この金属析出層の上に、無電解めっきおよび/又は電気めっきを施して導体層を形成した後、ポリアミド酸フィルムが部分的に露出するまで導体層および金属析出層を削り、パターン化導体層を形成する。ポリアミド酸フィルムのポリアミド酸は熱処理によってイミド化してポリイミド樹脂層とする。 (もっと読む)


【課題】 鋳型のパターン形状が精密に転写されており、かつ、導体層と樹脂層との密着性に優れた回路配線基板を効率良く製造する。
【解決手段】 凹凸パターンを有する鋳型に、ポリアミド酸溶液を塗布し、乾燥させてポリアミド酸層を形成した後、これを鋳型から剥離して凹凸面を有するポリアミド酸フィルムとする。このポリアミド酸フィルムに金属イオンを含浸させた後、金属イオンを還元して凹凸面の表面に金属析出層を形成させる。この金属析出層の上に、無電解めっきおよび/又は電気めっきを施して導体層を形成した後、ポリアミド酸フィルムが部分的に露出するまで導体層および金属析出層を削り、パターン化導体層を形成する。ポリアミド酸フィルムのポリアミド酸は熱処理によってイミド化してポリイミド樹脂層とする。 (もっと読む)


【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】(A)バインダーポリマー(B)式(1)の化合物を含む光重合性化合物及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化1】


[式中、R及びRは水素原子又はメチル基を示し、Rは水素原子又は一価の有機基を示し、Rは置換又は無置換の環式炭化水素基を示し、−(XO)−及び−(OY)−は、(ポリ)オキシエチレン鎖、(ポリ)オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブロック共重合鎖若しくはランダム共重合鎖を示し、−(XO)−及び−(OY)−に含まれるオキシエチレン基の総数は2〜40であり、オキシプロピレン基の総数は0〜40である。] (もっと読む)


【課題】本発明は、印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】上記方法は、第1の面と上記第1の面に対向する第2の面とを含むベースフィルムを製造するステップと、5,000乃至300,000CPSの粘度を有する高粘度導電性物質で上記ベースフィルムの上記第1の面に第1の配線を印刷するステップと、上記ベースフィルムの両面を貫通し、上記第1の配線を通るビアホールを形成するステップと、100乃至5,000CPSの粘度を有する低粘度導電性物質で上記ベースフィルムの上記第2の面に第2の配線を印刷するステップとを含む。上記低粘度導電性物質が上記ビアホールの内壁に塗布されることにより上記第1の配線を上記第2の配線に導電接続する。 (もっと読む)


【課題】無電解めっき触媒を付与し無電解めっきを行う製造方法において、無電解めっき触媒が存在する箇所での異常析出により微細配線同士が導通するのを防止し、絶縁信頼性を向上させる。
【解決手段】絶縁材料であって、湿式処理を施すことにより溝が形成されることを特徴とする絶縁材料であり、前記湿式処理を施した場合において、前記絶縁材料にめっき処理を施した際に、溝が形成された箇所にはめっきが析出し、溝が形成されていない箇所にはめっきが析出しない。 (もっと読む)


【課題】本発明はレーザを用いてビアホールの加工時に金属膜が貫通されることを防止でき、信頼度の高いVOP構造の金属積層板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る金属積層板は、金属材質の障壁層と、障壁層の一面に形成され、障壁層とメッキにより結合される金属膜と、金属膜に接合される絶縁体と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面が絶縁性を有する基板上に配設される導線の線幅が微細になっても、導線の基板からの剥離を容易に防止できるようにする。
【解決手段】表面が絶縁性を有する基板11上に、導電性の密着層12が配線パターン状に接着して配設される。そして、密着層12の縁端に沿って被覆しその上面に開口部13を有する側壁保護絶縁層14が基板11表面を被覆して形成される。側壁保護絶縁層14は基板11および密着層12との密着性に優れた絶縁膜により成る。側壁保護絶縁層14の上記開口部13を通して密着層12に接続する金属拡散防止層15が形成され、その上部に例えばメッキ下地層16を介して導体層17が積層される。このようにして、導電性の密着層12、金属拡散防止層15、メッキ下地層16および導体層17から成る配線構造体18が作製される。 (もっと読む)


【課題】バリア層の金属成分が塩素成分を含有するカバーレイや水分などに溶解あるいは溶出することによるイオンマイグレーションの発生を防止でき、その一方で、バリア層をパターン形成の際に塩酸を主成分とするエッチング液に確実に溶解させて、エッチング残渣の発生も防止できるフレキシブル基材を提供する。
【解決手段】フィルム状の基材1の少なくとも片面に、バリア層2と金属層3、4とを順に積層し、かつこのバリア層としてモリブデン含有量が0.3wt%以上、1wt%未満、さらに好ましくは、上記クロム含有量が15wt%以上30wt%未満のニッケル−クロム−モリブデン合金を用いた。 (もっと読む)


【課題】絶縁層の上面の端部における導体異物の発生を防止することができながら、絶縁層の側端面における導体異物の発生を簡易に防止することのできる配線回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】フォトレジスト13により、ベース絶縁層3の上面および幅方向両側端面に形成される導体薄膜8を被覆し、これを加熱し、フォトマスクをベース絶縁層3の上面に形成される導体薄膜8における幅方向両端部および導体層6が形成される部分が遮光されるように配置して、フォトレジスト13を上方からフォトマスクを介して露光し、ベース絶縁層3の幅方向両側端面に形成される導体薄膜8を被覆するフォトレジスト13を下方から露光する。フォトレジスト13の未露光部分を除去してめっきレジスト14を形成し、めっきレジスト14から露出する導体薄膜8の上に、端部導体層7と導体層6とを同時に形成する。 (もっと読む)


【課題】配線幅を広げることなく配線抵抗を容易且つ選択的に小さくでき、製造効率の低下が抑制される配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、絶縁層2に溝部を形成する溝部形成工程S102と、絶縁層2の表面に導体からなる導体層3を密着形成する導体層形成工程S103と、エッチングにより導体層3から配線回路6を形成する回路形成工程S104と、を備える配線基板の製造方法であって、溝部形成工程S102は、絶縁層2で配線回路6が形成される領域Zのうち配線回路6から所定の選択された選択配線部分61が形成される選択領域Z1に、選択配線部分61の延伸方向に沿って延伸する溝部5をレーザーにより形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】導体の配線パターンにかかわらず、容易かつ効率的に絶縁層と導体との密着性を向上させることができる配線基板の製造方法および配線基板を提供する。
【解決手段】本発明の配線基板1の製造方法は、絶縁層2の表面2aに導体からなる導体層5を密着形成する導体層形成工程103と、エッチングにより導体層5から配線回路6を形成する回路形成工程104と、を備える配線基板1の製造方法であって、さらに、前記レーザーにより絶縁層2上で配線回路6が形成される領域Aに凹部4を形成する凹部形成工程102を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】薄膜特性及び接着性が改善が可能な基板構造形成方法及びこれを用いて形成された基板構造を提供する
【解決手段】基板構造を形成する方法は、基板10をエッチングして垂直面51を有するエッチング部50を形成する段階と、基板10の全面上にまたは基板10に部分的に拡散物質層60を形成する段階と、拡散物質層60を熱処理して、一部が上記エッチング部50の表面の下へと拡散したシード層60’を形成する段階、及びシード層60’上に金属層70を形成する段階とを含む。上記方法によれば、シード層60’によって基板10のエッチング部50の表面特性が改善されることもあるので、エッチング部50の垂直面51に接着性に優れ且つ均一な厚さの金属層70を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】精度の高い配線パターンを、高い接合強度で窒化アルミニウム焼結体上に形成することができる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウム焼結体基板上に高融点金属ペーストを塗布して焼成し、高融点金属からなる配線パターンを形成する工程、該高融点金属からなる配線パターン上に、銅粒子を備えて構成される銅ペーストを塗布し、銅の融点以下で焼成して、銅ペーストを焼き付けて銅配線パターンを形成する工程、を備えた配線基板の製造方法であって、銅ペーストを、銅粒子全体の質量を100質量%として、平均粒子径100〜800nmの銅微粒子および/または銅酸化物微粒子を30〜65質量%含むものとする。 (もっと読む)


【課題】配線導体とビア導体との接続信頼性が高く、ランドの表面が平坦な配線基板を提供すること。
【解決手段】配線基板は、セラミック基板1の表面のビア開口2の周囲に薄膜金属層4が形成され、薄膜金属層4および前記ビア導体3表面を覆うように配線導体5が形成されている。薄膜金属層4をビア開口2から離間させておくことによって、ランドの表面を平坦なものとできる。 (もっと読む)


【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、i線、h線の両方のタイプの露光機で露光した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像し得る感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)α,β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で100〜600、重量平均分子量が5,000〜500,000の熱可塑性共重合体:20〜90質量%、(b)少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー:5〜75質量%、(c)トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤:0.01〜30質量%、及び(d)特定のピラゾリン化合物:0.001〜10質量%、を含有する感光性樹脂組成物であって、上記(b)少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマーが、特定の付加重合性モノマーを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、i線、h線の両方のタイプの露光機で露光した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像し得る感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)α,β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で100〜600、重量平均分子量が5,000〜500,000の熱可塑性共重合体:20〜90質量%、(b)少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー:5〜75質量%、(c)トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤:0.01〜30質量%、及び(d)特定のピラゾリン化合物:0.001〜10質量%、を含有する感光性樹脂組成物であって、上記(b)少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマーが、特定の化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、i線、h線の両方タイプの露光機した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像可能であり、かつ現像時に凝集物を発生しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)カルボキシル基含有量が酸当量で100〜600であり、共重合成分として特定の化合物を含有かつ、重量平均分子量が5,000〜500,000であるバインダー用樹脂:20〜90質量%、(b)少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー:5〜75質量%、(c)トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤:0.01〜30質量%、及び(d)特定のピラゾリン化合物:0.001〜10質量%、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


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