【課題】配線導体に対して厚みバラツキの小さなめっき金属層を電解めっきにより被着させることが可能な配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】製品領域３の周囲の捨て代領域４の表面に電解めっきのための給電パターン５を配線導体２から電気的に独立した状態で形成する第１の工程と、次に製品領域３および捨て代領域４の表面に、給電パターン５と配線導体２とを電気的に接続する無電解めっき層６を被着させる第２の工程と、次に製品領域３および捨て代領域４の表面に、配線導体２のうちの一部を選択的に露出させるめっきレジスト層Ｒ１を被着させる第３の工程と、配線導体２の一部にめっき被覆層７を電解めっきにより選択的に被着させる第４の工程と、次にめっきレジスト層Ｒ１を剥離除去する第５の工程と、次に無電解めっき層をエッチング除去する第６の工程とを行なう。 （もっと読む）

【課題】半導体メモリを搭載する基板上においてデータ信号の劣化を防止した半導体メモリカード及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態によれば、半導体メモリと、通常モード及び通常モードよりもデータ転送速度が速い高速モードの両方での半導体メモリへのデータの読み書きを制御するメモリコントローラと、少なくとも一つの内層を有する多層プリント基板に半導体メモリ及びメモリコントローラを表裏に分けて実装した回路基板とを備える。回路基板は、メモリコントローラと外部機器との間での高速モードによるデータ入出力用としてメモリコントローラの実装面に設けられ、金めっき加工が施された高速モード用の金端子と、高速モード用の金端子とメモリコントローラの実装用のボンディングパッドとの間の高速差動信号配線と、高速差動信号配線から分岐し、回路基板の面内において分岐点の近傍で切断された金めっき加工用のめっきリードを有する。 （もっと読む）

【課題】配線パターンの酸化を抑制することができる発光装置用の配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板１は、基板１０と、基板１０の第１主面Ｒ１上に形成された配線パターン２０と、配線パターン２０の表面２０Ａを覆うように形成されためっき層３０と、めっき層３０の形成された配線パターン２０を被覆し、第１主面Ｒ１上に形成された絶縁層４０と、を有している。絶縁層４０には、めっき層３０の形成された配線パターン２０の一部を発光素子の実装領域ＣＡとして露出する開口部４０Ｘが形成されている。めっき層３０は、配線パターン２０の表面２０Ａに形成されたＮｉ又はＮｉ合金からなる第１めっき層３１と、Ｐｄ又はＰｄ合金からなる第２めっき層３２と、Ａｕ又はＡｕ合金からなる第３めっき層３３とが順に積層された３層構造を有している。 （もっと読む）

【課題】めっきリードをエッチングにより除去しても、導体パターンが汚染されることを防止することのできる配線回路基板を提供すること。
【解決手段】配線回路基板１は、導体パターン６と、エッチング液が導体パターン６に浸入することを規制する規制部分を被覆するための被覆部３４とを備える。 （もっと読む）

【課題】微細で密着力のある外層回路が形成可能であり、歩留まりの向上および半導体素子との接続信頼性を確保可能な半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】多層金属箔９と基材１６とを積層してコア基板１７を形成する工程と、多層金属箔９の第１キャリア金属箔１０を物理的に剥離する工程と、第２キャリア金属箔上１１にパターンめっき１８を行い、絶縁層を積層して積層体を形成する工程と、積層体を第２キャリア金属箔１１とともにコア基板１７から分離する工程と、エッチングによりパターンめっき１８の表面が絶縁層の表面に対して凹みを形成するようにする工程と、凹みに貴金属めっきを行い絶縁層の表面に対して平坦とする工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】めっき被膜厚みのバラツキを小さくする安価な多数個取り配線基板を容易に作製できる電解めっき処理方法を提供する。
【解決手段】配線基板１１が複数個整列する集合体１２のそれぞれの導体配線１４にめっき被膜を設ける多数個取り配線基板１０の電解めっき処理方法において、集合体１２を短手方向で２区分、長手方向で複数区分する４以上の領域の中心部にダミー部１６と、これに設ける貫通孔１７に導体膜１８を設け、これから延設して個片体の導体配線１４に達するまでのめっき用引廻し配線１９を設ける多数個取り配線基板１０を作製する工程と、集合体１２を短手方向で２区分して相対向する領域１５の貫通孔１７のそれぞれに、一対でバネ力を備えるラック掛け用ピン２１を挿通させ、バネ力で支持しながらめっき浴中でラック掛け用ピン２１に通電して導体配線１４にめっき被膜を形成する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】バンプの高さや体積のバラツキが十分小さくできる基板の製造方法と、コストをかけずに多ピン化に対応した導通検査方法を提供すること。
【解決手段】一方の面（おもて面）には、半導体チップをフェイスダウンボンディングするための二次元アレイ状電極が、もう一方の面（うら面）には、プリント配線基板上の電極部と接続するための電極が、それぞれ形成されてなるフリップチップ型半導体パッケージ用基板の導通検査方法において、
うら面に形成された前記電極を電気メッキの給電電極としておもて面の電極に通電することにより、おもて面の電極にパターン電気メッキを行うことでバンプを形成したのち、前記バンプの外観検査を行うことを特徴とするフリップチップ型半導体パッケージ用基板の導通検査方法。 （もっと読む）

システム及び方法が、電圧切り換え可能な誘電体材料に１つ以上の材料を付着させることを含む。特定の態様では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、導電バックプレーン上に配置される。いくつかの実施形態では、電圧切り換え可能な誘電体材料が、付着に関する特性電圧が相違する複数の領域を含む。いくつかの実施形態は、マスキングを含み、取り除くことが可能なコンタクトマスクの使用を含むことができる。特定の実施形態は、電気グラフトを含む。いくつかの実施形態は、２つの層の間に配置される中間層を含む。 （もっと読む）

本発明は、
（ａ）導電性銀フレークならびに（ｂ）（１）アクリル有機ポリマーバインダー；および（２）有機溶媒を含む有機媒体を含むポリマー厚膜銀組成物に関する。組成物は、すべての溶媒を取り除くのに十分な時間およびエネルギーで処理され得る。本発明はさらに、プリント配線板構築物上の回路形成の新規な方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 配線基板領域内の複数の導体の露出する表面に、所定の異なるめっき層を良好に被着させることができる配線母基板を提供する。
【解決手段】 本発明の配線母基板は、複数の絶縁層が積層されて成る母基板１と、母基板１の中央部に配置された配線基板領域１ａと、配線基板領域１ａの周囲に設けられたダミー領域１ｂと、配線基板領域１ａに設けられた第１の導体２ａおよび第２の導体２ｂと、１つの絶縁層のダミー領域１ｂ上に配置され、第１の導体２ａに電気的に接続された枠状の第１のめっき用導体３ａと、第１のめっき用導体３ａと平面視で重ならないように第１のめっき用導体３ａが配置された絶縁層３ｂとは異なる絶縁層のダミー領域１ｂ上に配置され、第１のめっき用導体３ａには電気的に接続されず、第２の導体２ｂに電気的に接続された枠状の第２のめっき用導体３ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】 複数層のビルドアップ配線導体を常に正常に形成することが可能な配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】 配線基板用のパネル１における捨て代領域３に形成した給電用接続導体４上の第１層目の下地めっき層上に電解めっき用の給電端子５を密着させる位置と、給電用接続導体４上の第２層目の下地めっき層上に電解めっき用の給電端子５を密着させる位置とを互いに異ならせる。給電用接続導体４の第２層目の下地めっき層上に電解めっき用の給電端子５を接続させる際に、給電端子５が接続される部位における給電用接続導体４が薄いものとなることがなく、その結果、第２層目の電解めっき層を所定の厚みで安定して形成することができる。 （もっと読む）

【課題】プリント配線板３０におけるカードエッジコネクタ３１のめっきに際し、めっき後の不要となった内側めっきリード線３８の簡便な除去方法が求められていた。
【解決手段】カードエッジコネクタに対し、プリント配線板３０の内側に各コンタクト３２から引き出された信号線兼用めっきリード線３９と、内側めっきリード線３８と、これらの内側めっきリード線３８を接続する内側共通めっきリード線３５を設けてめっき加工を行うようにした。
めっき工程が終了すると内側共通めっきリード線３５をミーリング加工等により除去するようにしたので、隣接するコンタクト３２間の距離に関係なく、除去のための加工が容易となる。更に、コンタクト３２の数によらず１回のミーリング加工等で内側共通めっきリード線３５を容易に削除できる。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルプリント配線板の外形加工の際にバリを生じにくくする。
【解決手段】ベースフィルムの表面に配線パターン２２と配線パターン２２を囲む外形加工線３４の外側に位置する給電部３２とこの給電部３２から外形加工線３４を跨いで延びてくびれ部６１を介して配線パターン２２の端子部３７に接続する給電パターン２１とを導電体で形成する。次に、給電部３２を露出させる切欠部および端子部３７を露出させる切欠部が形成されたカバーレイでベースフィルムを覆い、給電部３２に給電して端子部３７に電解めっきを施す。その後、外形加工線３４に沿ってベースフィルムをカバーレイなどとともに切断する。 （もっと読む）

【課題】層間接続構造が要らなく、電気抵抗熔接によって層間接続することにより、簡単な工程で製造することができるプリント基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層１２２、及び絶縁層１２２の両面に形成されたランド部１１８ａ，１１８ｂ及びパターン部１２０ａ，１２０ｂを含む回路層１１６ａ，１１６ｂを含み、絶縁層１２２の両面に形成されたランド部１１８ａ，１１８ｂは電気抵抗熔接によって互いに接合され、絶縁層１２２の両面に形成された回路層１１６ａ，１１６ｂが電気抵抗熔接によって接合されて層間接続されるので、ビアまたはバンプのような別途の層間接続構造及びその形成工程が不要であり、構造及び工程が単純化する。 （もっと読む）

【課題】外形加工の際にバリを生じにくくする。
【解決手段】フレキシブルプリント配線板を製造するために、素板工程と、めっき工程と、外形加工工程とを行う。素板工程では、ベースフィルム１０の両面にそれぞれ配線パターン２２と給電パターン２１とが導電体で形成され、ベースフィルムを貫通する接続ビア２３の内部に設けられた接続導電体２４で配線パターン２２と給電パターン２１とが接続され、第１のカバーレイ１１と配線パターン２２の端部につながる一部を露出させる切欠部が形成された第２のカバーレイ１２とで両面が覆われた素板を形成する。めっき工程では、給電パターン２１に電流を流して配線パターン２２の端子１７に電解めっき２５を形成する。外形加工工程では、電解めっきを施した素板の配線パターン２２が形成された領域の外側を給電パターン２１を横切る外形加工線で切断する。 （もっと読む）

【課題】 鋳型のパターン形状が精密に転写されており、かつ、導体層と樹脂層との密着性に優れた回路配線基板を効率良く製造する。
【解決手段】 凹凸パターンを有する鋳型に、ポリアミド酸溶液を塗布し、乾燥させてポリアミド酸層を形成した後、これを鋳型から剥離して凹凸面を有するポリアミド酸フィルムとする。このポリアミド酸フィルムに金属イオンを含浸させた後、金属イオンを還元して凹凸面の表面に金属析出層を形成させる。この金属析出層の上に、無電解めっきおよび／又は電気めっきを施して導体層を形成した後、ポリアミド酸フィルムが部分的に露出するまで導体層および金属析出層を削り、パターン化導体層を形成する。ポリアミド酸フィルムのポリアミド酸は熱処理によってイミド化してポリイミド樹脂層とする。 （もっと読む）

【課題】 厚みばらつきが少なく、かつ均一な結晶の金めっき層が電解めっき法により被着された配線基板を生産性高く製造することが可能な配線基板の製造方法を提供すること。【解決手段】 絶縁基板１の複数個分を包含する大きさの母基板中１０に、上面に配線導体２を有する絶縁基板１の複数個を絶縁基板１の境界に切断領域Ａを介在させて縦横の並びに一体的に形成するとともに、切断領域Ａの上面に配線導体２に電気的に接続された第１のタイバーＴ１および切断領域Ａの下面に第１のタイバーＴ１と電気的に接続された第２のタイバーＴ２を形成し、第１および第２のタイバーＴ１，Ｔ２を介して配線導体２に電荷を供給して電解めっきすることにより配線導体２の露出表面に金めっき層Ｇを被着する工程を含む配線基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 Ｎi／Ａｕめっき膜を被覆したボンディングパッドにおいて、Ｎi／Ａｕめっき膜の脱落を防ぐことができる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｎi／Ａｕめっき膜１０の形成部と非形成部の境から銅１４の露出した非形成部まで延在させてエッチングレジスト２２を被覆することで（図３（Ｂ））、リードパターンＬの端部において、Ｎi／Ａｕめっき膜２０の非形成部から銅１４を露出させ（図３（Ｃ））、Ｎi／Ａｕめっき膜２０が銅から離れて存在することを防止する。これにより、Ｎi／Ａｕめっき膜が脱落して付着することによって発生する短絡を防止することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、シード層と絶縁層との間に設けられた密着層を備えた配線基板及びその製造方法に関し、絶縁層から密着層が剥がれることを防止することのできる配線基板及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】絶縁層１３と、配線１９と、配線１９の形成領域に対応する部分の絶縁層１３の上面１３Ａに設けられた密着層と、密着層と配線１９との間に設けられたシード層１６と、を備えた配線基板１０であって、密着層としてＮｉ−Ｃｕ合金層１５を設けた。 （もっと読む）