【課題】複数の処理チャンバを備える半導体製造装置に対して最適なウェーハ搬送制御処理を実現し、半導体製造のリードタイムを短縮して効率性を高めることができる半導体製造装置の制御システムおよび制御方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハをロット単位で処理する半導体製造装置の処理動作を指示する処理指示装置１０の搬送制御判断部１２は、装置状態データ収集部１１、ロット処理データ収集部１４および搬送制御データベース１３から取得した、装置状態データ、在庫ロット数、ウェーハ処理時間、ロット間クリーニング時間およびウェーハ搬送制御内容を示すデータに基づいて、ウェーハ搬送制御内容ごとに全在庫ロットの平均リードタイムを算出する。搬送制御判断部１２は、算出結果から最適なウェーハ搬送制御内容を選択し、処理指示部１５が選択されたウェーハ搬送制御内容に従うウェーハ搬送を半導体製造装置１６に実施させる。 （もっと読む）

【課題】基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ること。
【解決手段】第１基板処理装置３の一側に第１姿勢切替用保持具３７を備えた第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板処理装置５の一側に第２姿勢切替用保持具４９を備えた第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第１姿勢切替部材２９の一側に立設した支持フレーム５３に上下方向へ延びた無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、無端状部材６３に複数の昇降用保持具６９が周方向に間隔を置いて設けられたこと。 （もっと読む）

ウエハーハンドリングシステムは、少なくとも１つのアンロードステーション、一定の角度でウエハーを保持するように設計された少なくとも１つの中間ステーションと、処理ステーションと、ステーション間でウエハーを移動するように構成された移送装置と、を含む。中間ステーションは背合わせ配置のウエハーを受け取るように構成されてもよい。ウエハーハンドリング装置は、片側には個々のウエハーをつかむように構成された真空グリッパと、反対側には、ウエハーの下に配置されて持ち上げられると１つまたは複数のウエハーを支持するように構成された重力グリッパとを、含む。ウエハーハンドリング方法は、ウエハーをアンロードする工程と、中間ステーションにウエハーを移送する工程と、中間ステーションから処理ステーションにウエハーを移送する工程と、ウエハーを処理する工程と、処理ステーションからウエハーをアンロードする工程と、キャリヤ内にウエハーを再ロードする工程と、を含み、ウエハーは移送装置によりアンロードされ、移送され、再ロードされる。
（もっと読む）

【課題】一方向に搬送される基板を一時的に退避させる基板バッファユニットにおいて、バッファ空間の空気洗浄を効率的に行うことのできる基板バッファユニットを提供する。
【解決手段】基板搬送路を搬送される基板Ｇを一時的に収容し、前記基板搬送路から退避させる基板バッファユニット１００であって、上面が開放された箱状の筐体１と、前記基板搬送路から前記筐体内に搬入された基板を載置する載置部６と、前記載置部を前記基板搬送路から外れた所定位置に移動可能に設けられた箱状の棚部２と、前記棚部の一側面に設けられ、前記載置部に清浄空気を導入する空気導入口６ａと、前記棚部に接続され、該棚部内の空気を吸引して前記筐体外に排気する排気手段３０と、前記棚部よりも下方の前記筐体側面に設けられ、該筐体内の雰囲気を排気する排気窓４０とを備える （もっと読む）

【課題】基板の搬送装置を安価に製造し、基板処理システムの製造コストを低廉化する。
【解決手段】塗布現像処理システム１は、ウェハＷを搬送ラインＡに沿った方向に搬送するウェハ搬送装置５０を有している。ウェハ搬送装置５０は、搬送ラインＡに沿った方向に並べて配置された複数の搬送ロール１００を有している。搬送ロール１００は回転自在に構成されている。複数の搬送ロール１００には、シート１０１が巻回されている。シート１０１は、耐熱性と熱伝導性を有している。搬送ラインＡには、複数の処理装置４１〜４５が搬送ラインＡに沿った方向に配置されている。各処理装置４１〜４５は、ウェハ搬送装置５０のシート１０１上に載置されたウェハＷに所定の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理ユニット１は、平面視において環状に形成された軌道４２と、基板Ｗを保持し、軌道４２上を移動する複数の基板保持部４１と、軌道４２に沿って配置され、基板Ｗに所定の処理を行う複数の処理装置と、基板保持部４１と処理装置との間の基板Ｗの搬送を制御する制御装置１４と、基板保持部４１と処理装置との間で基板の受け渡しを行う基板搬送機構と、を有している。複数の基板保持部４１は、複数の処理装置の数よりも多く配置されている。制御装置１４は、基板Ｗの処理レシピを格納するレシピ格納部１７０と、処理レシピに基づき基板保持部４１を所定の処理装置へ移動させる基板保持部制御部１７１と、基板保持部４１と所定の処理装置との間で基板の搬送を行うように基板搬送機構を制御する基板搬送機構制御部１７２と、を有している。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システム１には、ウェハ搬送装置４０の周囲に、第１〜第４のバッファ装置４１〜４４と第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４が配置されている。第１〜第４のバッファ装置４１〜４４は、複数のウェハを鉛直方向に多段に保管するバッファ部を有している。第１〜第４のバッファ装置４１〜４４は、バッファ部搬送機構によってレール４５上を第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４に対向する位置に移動可能になっている。第１〜第４の処理装置群Ｇ１〜Ｇ４の各処理装置には、当該処理装置と第１〜第４のバッファ装置４１〜４４との間でウェハを搬送するウェハ搬送機構が設けられている。 （もっと読む）

【課題】１層に対する複数回パターニングを高効率で行うことが可能な基板処理システムを提供すること。
【解決手段】キャリアブロックＳ１と、そこから一枚ずつ搬入された基板に対し１回目の塗布処理を行う第１塗布処理部３１、１回目の現像処理を行う第１現像処理部４１、２回目の塗布処理を行う第２塗布処理部３２、２回目の現像処理を行う第２現像処理部４２を有する処理ブロックＳ２と、露光装置との間で基板を受け渡すインターフェイスブロックＳ３と、これらの間で基板を搬送する基板搬送機構とを具備し、一つの基板に対して少なくとも２回の露光を行う露光装置に対応可能であり、第２現像処理部４２の上に第１塗布処理部３１が積層されてなる第１積層体と、第１現像処理部４１の上に第２塗布処理部３２が積層されてなる第２積層体とが並置されている。 （もっと読む）

【課題】既存の設備を利用してフープ内を清浄化し、ウエハの汚染を防止して歩留まり率を向上させることができる基板収納方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１０は、ウエハＷにＲＩＥ処理を施すプロセスシップ１１と、ウエハＷを収納するフープ１４ａ〜１４ｃと、プロセスシップ１１とフープ１４ａ〜１４ｃとを連結するローダーモジュール１３及びローダーモジュール１３内に設けられた搬送アーム機構１９と、ローダーモジュール１３内にダウンフローを形成して異物を底部から排出するＦＦＵ３４と、ローダーモジュール１３とフープ１４ａ〜１４ｃとの連結部に設けられた開閉扉とを有する。基板処理システム１０のフープ１４ｂにウエハＷを収納する際、搬送アーム機構１９によってウエハＷをフープ１４ｂ内に搬入し、その後、所定の遅延時間が経過するまで開閉扉を開放状態のまま保持する。 （もっと読む）

【課題】搬送中のキャリアやボートの位置、搬送元、搬送先の把握を容易とする。
【解決手段】基板を搬送する搬送系と、搬送系の動作状態を操作画面に表示する操作部と、搬送系の動作を制御する制御部と、を備え、操作部は、搬送系の搬送元に対応する操作画面内の所定位置に搬送対象である搬送系を示す搬送系アイコン及び搬出中アイコンを表示し、搬送系の搬送先に対応する操作画面内の所定位置に搬入中アイコンを表示する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハの表面に貼付けられた保護テープに剥離テープを適切に貼付け、この剥離テープを剥離することで、保護テープを剥離テープと一体にして半導体ウエハか円滑に剥離する。
【解決手段】貼付け部材５４に帯状の剥離テープＴｓを巻き掛け供給し、貼付けブロック５６により半導体ウエハＷに貼付けられた保護テープＰＴの表面における剥離開始側の外周端部にのみ剥離テープＴｓを押圧して貼付ける。その後、当該貼付け箇所よりもウエハ中心側から他端まで貼付けローラ５４を押圧転動させて剥離テープＴｓを保護テープＰＴの表面に貼付けるとともに、当該貼付けローラ５４とウエハＷの相対的な水平移動に伴って、保護テープＰＴを剥離テープＴｓと一体にしてウエハ表面から剥離して回収する。 （もっと読む）

本発明は、排気され得る少なくとも１つのプロセスチャンバ（０２）と、少なくとも１つの入口開口（１０）および少なくとも１つの出口開口（１１）とを備える真空被膜システム（０１）に関する。プロセスチャンバ（０２）を通過しながら被膜されるウェハ要素（０３）は、入口開口（１０）および出口開口（１１）を経てプロセスチャンバ内に送り込まれ、かつそこから取出されることができる。パドルバルブ閉止経路に沿って開放位置と耐圧に閉止される位置との間で調節され得るパドルバルブ（０８，０９）は、入口開口（１０）および出口開口（１１）上にそれぞれ設けられる。ウェハ要素（０３）を搬送する目的で、少なくとも３つの搬送装置（０４，０５，０６，０７）を有する搬送システムが設けられ、第１の搬送装置（０４，１７）は入口開口（１０）の上流に配置され、第２の搬送装置（０５，１７）はプロセスチャンバ（０２）内に配置され、第３の搬送装置（０６，１７）は出口開口（１１）の下流に配置される。各搬送装置（０４，０５，０６，１７）は、ウェハ要素（０３）を上方から載置し、かつ、搬送要素（１４，１８）を回転駆動することによりウェハ要素（０３）を搬送方向（０７）に真空被膜システム（０１）内を通して引き渡すことのできる、少なくとも１つの回転搬送要素（１４，１８）を備える。搬送システムは、入口開口（１０）および／または出口開口（１１）に調節可能な移動搬送装置（１２，１３，１６）を有し、移動搬送装置は、移動位置とアイドル位置との間で調節可能であり、移動搬送装置（１２，１３，１６）の移動位置においては、ウェハ要素（０３）を、開放されている入口開口または開放されている出口開口を経て、１つの搬送装置（０４，０５，０６，１７）から引き渡し方向（７）の下流の次の搬送装置に移動させることができ、移動搬送装置（１２，１３，１６）のアイドル位置においては、パドルバルブ閉止経路に沿って関連のパドルバルブ（０８，０９）を調節することにより、入口開口（１０）および／または出口開口（１１）を開放または閉止することができる。
（もっと読む）

本発明は、光電池素子の製造のための大規模生産プラントにおける異なる生産ステーション間でガラスシートを高速輸送するための方法及び装置に関し、前記生産プラントはクリーンルーム条件を前提とし、ａ）昇降ガントリーを搬送するための自由に移動可能な台座と、ｂ）伸縮自在なジャッキ板によってガラスシートを垂直方向に輸送するための少なくとも１つの垂直昇降籠であって、前記板は２つの反対方向に伸張可能であり、局部的に下降及び上昇する機能を有し、ガラスシートを連続的に、前記垂直昇降籠の一方から他方に輸送することができ、ｃ）クリーンルームにおける運転のために、耐摩耗性材料で製造され、排気を出さないようにカプセルに包まれた機械的な動作部分、及びｄ）台座を動作させるためのケーブルレス電力供給ユニットを備えたことを特徴とする。
（もっと読む）

【課題】搬送車システムにおいて、荷物保管場所の間隔を狭くすることで荷物保管場所の数を増やしつつも、待機状態になる搬送車の数を少なくする。
【解決手段】搬送車システム１において、第１通常ライン１１ａおよび第１バイパスライン１２ａは並んで配置されている。複数の搬送車３は、第１通常ライン１１ａおよび第１バイパスライン１２ａを別々に走行する。第１バッファ１７Ａおよび第２バッファ１７Ｂは、第１通常ライン１１ａおよび第１バイパスライン１２ａの間に並んで設けられている。搬送車コントローラ２７は、搬送車３を制御可能である。搬送車コントローラ２７は、走行方向に隣り合う第１バッファ１７Ａおよび第２バッファ１７Ｂへの搬送指令を、第１通常ライン１１ａおよび第１バイパスライン１２ａに分かれて走行するように第１搬送車３ａおよび第２搬送車３ｂに割り付ける。 （もっと読む）

【課題】複数のウエハーを搬送し、真空処理するための手段を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置によれば、複数の指１５６を有するハンド部１５５を搬入用真空槽１１２ａ内に設けておき、大気雰囲気中で各指１５６上に複数の基板３１を両端をはみ出した状態で配置し、搬入用真空槽１１２ａ内を真空排気し、処理用真空槽１１３と接続してハンド部１５５を処理用真空槽内に移動させる。処理用真空槽１１３内には複数の横棒１６２を有する昇降機構１６１を設けておき、横棒１６２を上方に移動させ、一本の指上の基板の両端を二本の横棒に載せて降下させ、載置台１６５に載せて真空処理を行う。ピンやトレイを使用せずに搬出入できる。 （もっと読む）

【課題】液晶ガラス基板の水平とその搬送方向変更と、水平状態と起立（縦型）状態の起倒転動を単純機構で動作干渉を皆無にし安全確実且つ迅速に行う液晶ガラス基板搬送装置を提供する
【解決手段】 (1)液晶ガラス基板の水平下面支持搬送の高さ位置を変更可能にした昇降式の第一搬送コンベアーと、(2)液晶ガラス基板の水平下面支持搬送の高さ位置を固定した位置固定式の第二搬送コンベアーと、(3)液晶ガラス基板の水平下面支持の平面位置を可変自在にし且つその平面位置を調整する昇降式の姿勢調整装置と、(4)液晶ガラス基板の水平下面吸着支持の高さ位置を可変可能にし、下面吸着支持状態で上下水平平行シフトと水平から倒立状又はその逆の転動と、倒立状態での前後進平行シフトを可能にした吸着支持転動装置とからなる （もっと読む）

【課題】
本発明は、試料搬送中に、試料に付着した異物の除去を行う試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するための一態様として、試料を裏面から支持する試料搬送用ハンドを備えた試料搬送機構であって、前記試料を吸着して保持する吸着機構と、当該吸着された試料と、前記試料搬送ハンド間に形成される閉空間内で、試料に気体を吸着する吸着機構と、当該閉空間内の気体を吸引する吸引機構を備えた試料搬送機構を提案する。更に走査電子顕微鏡内で発生した異物を、試料カセット等に持ち込まないように、走査電子顕微鏡鏡体と試料カセットとの間に設けられた試料搬送用ハンドに設けられた異物除去機構によって、異物を回収する走査電子顕微鏡を提案する。 （もっと読む）

【課題】ゲートバルブの適切なメンテナンス時期や原因を予測することができ、もって、装置の効率的な運用を行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板に処理を施すプロセスチャンバＰＭ１，ＰＭ２と、該プロセスチャンバへ基板を搬送する真空ロボットハンドラＴＨ１，ＴＨ２を備えたバキュームロックチャンバＶＬ１，ＶＬ２と、該チャンバに連接され、ロードポートＬＰ１，ＬＰ２に収納された処理待ちの基板が待機する大気ローダＬＰとを備えた基板処理装置において、上位コントローラにより、真空ロボットハンドラを制御して、チャンバとプロセスチャンバとの間で基板の搬送を行う一方、プログラマブルコントローラによりチャンバとプロセスチャンバとの間を仕切るゲートバルブＰＧＶ１，ＰＧＶ２を管理し、その動作履歴データを作成し、上位コントローラが動作履歴データを操作部の操作画面に表示する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の提供。
【解決手段】第１搬送チャンバーと、該第１搬送チャンバーの側部に配置される第１ロードロックチャンバー及び第１工程チャンバーとからなる第１クラスターと；第２搬送チャンバーと、該第２搬送チャンバーの側部に配置される第２ロードロックチャンバー及び第２工程チャンバーとからなる第２クラスターと；基板の積載されるカセットと；第１ロードロックチャンバー及び第２ロードロックチャンバーとカセットとの間で基板を交換する基板移送ロボットと；を含み、第１ロードロックチャンバーと第２ロードロックチャンバーのそれぞれの一側には、基板移送ロボットを用いて基板を出入させるように第１ゲートバルブと第２ゲートバルブを備え、これら第１ゲートバルブと第２ゲートバルブは相対向して設置する。 （もっと読む）

【課題】被浮上体の回転時にその角部近辺の下面に流体が当たるようにし、被浮上体が撓まないようにして、被浮上体と流体噴出体30との接触防止を図る。
【解決手段】浮上装置10は、複数の通常流体噴出体31（30）が所定の配列で配置されて構成される通常浮上領域40と、浮上した状態の被浮上体の下面に吸着されるものであって通常浮上領域40内の所定位置に配置される吸着体60と、回転軸72を中心に吸着体60を回転させる回転機構70とを備える。回転軸72を中心とし少なくとも一部が通常浮上領域40外を通過する領域外通過円50を設定する。通常浮上領域40外における領域外通過円50の円周上に、円周上流体噴出体32（30）を配置し、被浮上体における、回転に伴って通常浮上領域40から外れた部分を、円周上流体噴出体32（30）から噴出させた流体により浮上させる。 （もっと読む）