【課題】基板Ｗと浮上ユニット１７等との干渉を回避して、基板Ｗの割れ又は傷等の損傷を十分に防止すること。
【解決手段】各浮上ユニット１７は、チャンバー１３の上面に設けられた中空状の浮上ユニット脚３１と、浮上ユニット脚３１の上部に設けられかつ浮上ユニット脚３１の横断面よりも大きい横断面を有した浮上ユニットヘッド３３とを備え、いずれかの浮上ユニット１７（Ｅ）は、浮上ユニットヘッド３３が対応関係にあるチャンバー１３の側面に対して外方向へ突出するように浮上ユニット脚の中心に対して偏心して構成されている。 （もっと読む）

【課題】ロットが誤って識別されないことを保証する証明機能をＡＭＨＳシステムを提供する。
【解決手段】マテリアルハンドリングシステムは、コントローラと、トランスポートシステムであって、このトランスポートシステムは、トランスポートトラックセクションおよびトランスポートビークルとを含み、トランスポートビークルは、トランスポートトラックセクションに沿って移動すると共にキャリアをトランスポートするようになっているトランスポートシステムと、特定のトランスポートトラックセクションに沿って位置する識別タグリーダーであって、この識別タグリーダーは、トランスポートビークルによってトランスポートされているキャリアの識別タグを読み出すと共に、情報信号をコントローラに送るようになっている識別タグリーダーと、を備え、コントローラは、情報信号に基づき、前記キャリアのロケーションを証明するようになっている。 （もっと読む）

【課題】搬送物の姿勢を変更できるものでありながら、搬送能力の高い搬送装置を提供すること。
【解決手段】制御手段が姿勢変更手段２４における保持部２５の保持作動、移動手段２７の移動作動、及び、回転手段の回転作動を制御して、非接触状態で支持された状態の搬送物Ｗを保持位置Ｐ３において保持部２５により保持し、移動手段２７により保持部２５を移動させて搬送方向に沿って保持位置Ｐ３より下流側の保持解除位置Ｐ４まで非接触状態で支持された状態の搬送物Ｗを搬送する間に、移動手段２７により保持部２５を移動させながら回転手段により保持部２５を回転させて保持している搬送物Ｗの搬送姿勢を縦軸心周りに所定角度回転させ、保持解除位置Ｐ４にて搬送物Ｗの保持を解除する搬送装置。 （もっと読む）

【課題】浮上する基板を確実に保持することができ、しかも、保持した基板を、簡単な構成により全体として平坦とする。
【解決手段】基板Ｗを搬送する搬送装置４０は、基板Ｗを浮上させる浮上ステージ１と、浮上させた基板Ｗの側部下面９を吸着する吸着機構３と、吸着機構３を移動させることにより当該吸着機構３が吸着した基板Ｗを所定高さｈに浮上させた状態で搬送する搬送駆動手段とを備えている。吸着機構３は、基板Ｗの側部下面９を接触させることで当該基板Ｗの側部を前記所定高さｈに位置決めする接触面１１を有しているストッパ１０と、基板Ｗの側部下面９を吸着可能であり、吸着前は接触面１１よりも上に所定寸法Ｓについて突出し吸着すると当該所定寸法Ｓについて下に収縮する吸着パッド２０とを有している。 （もっと読む）

【課題】搬送幅方向に隣接関係にある浮上ユニットの間隙を大きくしても、基板と浮上ユニット等との干渉を回避して、基板の割れ等の損傷を十分に防止すること。
【解決手段】基板Ｗを搬送方向へ浮上搬送する浮上搬送装置において、搬送幅中心線ＴＣＬよりも搬送幅方向の一方側に位置する各搬送ローラ２３は、ローラ中心線が搬送方向に平行な方向に対して搬送幅方向の一方側に傾斜するように構成され、搬送幅中心線ＴＣＬよりも搬送幅方向の他方側に位置する各搬送ローラ２３は、ローラ中心線が搬送方向に平行な方向対して搬送幅方向の他方側に傾斜するように構成されていること。 （もっと読む）

【課題】基板の支持方式を転換する転換部において、基板を浮上支持する部分の搬送方向の長さを抑制し、かつ、昇降ローラと他の部材との接触を容易に回避できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１の転換部２０は、複数の昇降ローラ２１と、複数のフリーローラ２４と、入口浮上ステージ２５と、を有する。基板９の支持方式を転換するときには、基板９の搬送方向上流側の一部分が、複数の昇降ローラ２１から複数のフリーローラ２４へ移載される。このため、入口浮上ステージ２５の搬送方向の長さを抑制しつつ、基板９の支持方式を転換できる。フリーローラ２４は、簡易な構造で確実に基板９を支持できるとともに、狭小な領域に配置できる。したがって、複数のフリーローラ２４を、複数の昇降ローラ２１と接触しない位置に、容易に配置できる。 （もっと読む）

【課題】保持部を昇降移動させることなく、かつ、基板の位置ずれを抑制しつつ、基板を下面側から保持できる技術を提供する。
【解決手段】複数のリフトピン２８ａで、基板９の幅方向の両端部付近を一旦突き上げ、当該リフトピン２８ａを下降させることにより、基板９の下面をチャック機構３２の吸着保持部３２ａに接近させる。これにより、吸着保持部３２ａの高さ位置を固定しつつ、基板９の下面を吸着保持部３２ａに保持させる。基板９を突き上げたときに、基板９の幅方向の中央部分は、昇降ローラ２４またフリーローラ２１に接触支持されている。このため、基板９と昇降ローラ２４またはフリーローラ２４との静止摩擦により、基板９の幅方向の位置ずれが、抑制される。 （もっと読む）

【課題】処理液を用いた基板処理を良好に行うことができるとともに、処理時間をより短縮することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに対して処理液による処理を施す処理チャンバ１０と、基板収容器１７を保持する収容器保持部４と、収容器保持部４と処理チャンバ１０との間で基板Ｗを搬送するインデクサロボット６、シャトル搬送機構７および主搬送ロボット９を備えている。シャトル搬送機構７が備えられたシャトル搬送空間１４の上部には、１７２ｎｍの波長を中心とする紫外線を照射するランプハウスが設けられている。シャトル搬送機構７によって基板Ｗを搬送するのと同時に、搬送中の基板Ｗに紫外線を照射することによって、基板Ｗに付着している有機物を分解・除去したり、基板Ｗ表面に酸化膜を形成する処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基板表面が乾燥しないように水中で基板の表面に非接触で基板を保持し、効率良く搬送する。
【解決手段】液中に水平に浸漬された基板の上方に設けられた噴射ノズルで前記基板の上方から前方に向けて液体を噴射して基板を前方に送り出す基板の搬送装置において、基板４の搬送方向に沿って往復動可能に搬送ユニット３０を設け、前記搬送ユニット３０は、上下に揺動可能に設けられ基板４を静止させるストッパ３４と、前記ストッパ３４の後方に設けられ、前記基板４の後端よりもやや後方から液体４５を前方に向けて噴射する噴射ノズル３５とを一体に備え、 前記噴射ノズル３５からの液体４５の噴射により、基板４を浮上させると共に前記ストッパ３４に基板４を当接させて静止させた状態で搬送ユニット３０を移動させて基板４を搬送するようにする。 （もっと読む）

【課題】ローラー搬送方式で基板をトレイ等に搭載することなく直接搬送させる場合、搬送用ローラーと基板の接触面積が大きく、搬送用ローラーの基板接触面への異物の付着を防ぐことは困難であるが、この付着した異物との接触による基板へのダメージを抑制することを可能にした基板搬送装置を提供するものである。
【解決手段】基板の搬送方向に配列し、駆動系と連結して複数のローラーシャフトを回転させて基板を搬送する基板搬送装置において、複数のローラーシャフトに、それぞれ幅の細い複数個の半径の異なるリングローラーを交互に連結させて一体のローラーを形成し、かつ、ローラーがローラーシャフトに複数個配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 機構の簡素化を実現すると共に、小さな動力で基板を搬送方向に移動させることのできる新規な構成の浮上搬送装置を提供すること。
【解決手段】 基板Ｗの浮上搬送時に基板Ｗに推力を与える搬送ユニット５７を備えた浮上搬送装置であって、搬送ユニット５７が、駆動モータ８２、揺動フレーム８４内に収容された駆動プーリ８６と無端ベルト８８と可動プーリ８７、可動プーリ８７と共に上下位置を変更可能な搬送ローラ６３ａ、及び、駆動モータ８２の駆動出力軸８２ａと揺動フレーム８４とを連結する連結軸受８３を備えている。駆動プーリ８６は駆動出力軸８２ａに固定されている。連結軸受８３の入力部は駆動出力軸８２ａに固定されており、出力部は揺動フレーム８４に固定されている。連結軸受８３は、搬送ローラ６３ａが基板Ｗと接触するまでは揺動フレーム８４を揺動させ、接触後は入力部と出力部とが滑って接触状態を維持するよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】 露光現像システムの故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることを両立する。
【解決手段】 基板上に感光性の材料を塗布して膜を形成する塗布装置と、前記基板の上に形成された前記膜を露光する露光装置と、露光した前記膜を現像する現像装置とを、それぞれ複数台有する露光現像システムであって、前記露光装置は、あらかじめ用意された描画データに基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成する装置であり、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、前記基板を前記塗布装置から前記露光装置へ搬送するときの前記塗布装置と前記露光装置との組み合わせ、および前記基板を前記露光装置から前記現像装置へ搬送するときの前記露光装置と前記現像装置との組み合わせを制御する露光現像システム。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく、かつ装置構成上の問題を伴うことなくフットプリントを小さくすることができ、かつ処理の自由度が高い、複数の処理ユニットを備えた処理装置を提供すること。
【解決手段】 搬送機構と、レジスト塗布処理部を含む複数の処理部とを内部に備えた塗布処理部２３と、塗布処理部２３と平行に配置され、搬送機構と、レジスト現像処理部を含む複数の処理部を内部に備えた現像処理部２４と、塗布処理部２３から被処理基板を受け取る第１のパスユニットと、現像処理部２４へ被処理基板を受け渡す第２のパスユニットとを備えた、被処理基板に対して熱処理を施す熱処理部２７と、熱処理部２７に配置された被処理基板を搬送する別の搬送機構３６と、現像処理部２４と塗布処理部２３との間に設けられた直線状の空間部４０と、空間部４０内に配置され、被処理基板を搬送する処理部外搬送機構４１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】浮上ユニット１５等が搬送ローラ３７の交換の妨げにならなくなって、搬送ローラ３７の交換の作業能率を向上させること。
【解決手段】下部ケース２１の上側に上部ケース２５が着脱可能に設けられ、上部ケース２５内に搬送ローラ３１がローラ軸３３を介して搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられ、搬送モータ３７の出力軸４１が上部ケース２５の着脱によって搬送ローラ３７に対して接続遮断可能になっていること。 （もっと読む）

【課題】マスクを収容するカセットの管理棚からのカセット取り出しから、マスクを露光装置に供給するまでの全工程を自動的に行うことができるマスクストッカー、マスク供給システム、及びマスク供給方法を提供する。
【解決手段】シャッター１を介して外部と隔離されたチャンバー２と、チャンバー２の外部に配置されてマスクＭを収納する多数のカセット３を収容管理する管理棚４と、チャンバー２の外部でチャンバー２と管理棚４との間を自在に走行する自動搬送装置６と、チャンバー２内にそれぞれ配置された露光装置７、マスクローダ８、及びマスクストッカー１０と、を備え、マスクストッカー１０は、カセット３を載置してカセット受け渡し位置ＣＰとマスク受け渡し位置ＭＰとの間で移動可能なカセット載置ステージ１２と、カセット載置ステージ１２に載置されたカセット３の位置を、マスクローダ８がカセット３からマスクＭを取り出し可能な位置精度にアライメント調整するアライメント調整機構１３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】搬送車システムにおいて物品の搬送効率を高める。
【解決手段】搬送車システムは、複数の処理装置２間で物品を搬送するための搬送車システムであって、軌道と、搬送車５と、バッファ９とを備えている。軌道は、複数の処理装置２に隣接する複数のループ１１を有する。搬送車５は、複数のループ（例えば、第１ループ１１，第２ループ,第３ループ）を一方走行で走行することで物品を搬送する。バッファ９は、ループの内側においてループの両側部分に近接して配置され、ループの長手方向に一列に並んだ第１載置台８５および第２載置台８６を有している。第１載置台８５および第２載置台８６は、ループの両側部分の片側に向かって開いた第１開口部８５ａおよびループの両側部分の反対側に向かって開いた第２開口部８６ａをそれぞれ有する。 （もっと読む）

【課題】高効率のマテリアル自動化取扱システム（ＡＭＨＳ）を提供する。
【解決手段】本発明は、マテリアル自動化取扱システムであり、複数の貯蔵容器を含み、各貯蔵容器は、少なくともマテリアルの１ユニットを保持するようになっている少なくとも一つの貯蔵ユニット、及び、少なくとも一つのオーバーヘッドホイストを含み、このオーバーヘッドホイストは、所定の位置へ搬送するために複数の貯蔵容器の選ばれた一つにおける少なくとも一つのマテリアル・ユニットに直接にアクセスできるオーバーヘッドホイスト搬送サブシステム、を備える。 （もっと読む）

【課題】サイクルタイムが短い物品搬送装置を提供する。
【解決手段】物品処理装置に処理される前の物品である処理前物品と、物品処理装置に処理された後の物品である処理後物品とを搬送する物品搬送装置であって、処理前物品を搬送する第１コンベヤ１１１と、上昇機能及び下降機能を有し、処理前物品を上昇又は下降させて第１コンベヤ１１１に移載する第１昇降機１２０と、第１コンベヤ１１１の上方又は下方に配置され、処理後物品を搬送する第２コンベヤ１１２とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板を支持して搬送される基板支持機構を備える真空処理装置において、異常を有する基板支持機構を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】直列に連結された真空処理室内で連続的に基板６３を搬送する基板搬送機構は、基板６３を保持した状態で移送される基板支持機構５０を撮影するＣＣＤカメラ１０３を有しており、ＣＣＤカメラ１０３によって撮影された映像から基板支持機構５０が基板６３を支持する位置を測定し、基板支持位置が異常な基板支持機構５０を検出する。 （もっと読む）

【課題】基板の変形および熱割れを防止することができる、薄膜形成システムおよび薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】処理室の一つであり、基板１６を加熱する加熱装置、および、基板１６と加熱装置とを相対的に移動させる駆動装置が配置された加熱室３と、処理室の一つであり、加熱された基板１６に薄膜を形成するスパッタ装置２６が配置されたＺｎＯスパッタ室４と、駆動装置を操作する制御装置２２とを備えている。駆動装置は、加熱室３からの基板１６の搬送が不能となった際に、加熱室３内の基板１６と加熱装置とを相対的に移動させ続けるように制御装置２２により操作される。 （もっと読む）