Fターム[5F031HA05]の内容
ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理時の固着、保持 (16,861) | ステージ、チャック、サセプタ (15,090) | ウエハ等との接触面 (1,366)
Fターム[5F031HA05]の下位に属するFターム
凸状 (124)
凹状 (156)
凹凸、突起(接触面の限定) (498)
ウエハ等の裏面を露呈させて保持 (172)
接触面のみを異なる材質にしたもの (235)
Fターム[5F031HA05]に分類される特許
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半導体製造時にウェハを支持するホルダ
各種ウェハ処理分野に使用される現在の最高技術水準のホルダに勝る製造及び性能利点を有する改善されたウェハホルダ設計を開示する。このウェハホルダには、一連の短い半径方向溝が組み込んである。溝は環状チャンネルの基部から延び、このチャンネルはウェハ寸法と肉厚に基づき変化する固定された半径方向位置へ基部ウェハ凹部の外径沿いに延びている。この溝がウェハに対し若干の重複を備え、ウェハの着脱操作に必要なウェハ下側での自由なガス交換を容易にしている。半径方向溝の短い長さが、ウェハホルダをより簡単に製造させ、現在の最高技術水準のホルダに比べより優れた性能を提供する。 (もっと読む)
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