【課題】洗浄効果を犠牲にすることなく、洗浄中の基板の振動を抑えることができる基板洗浄用ラックを提供する。
【解決手段】基板洗浄用ラック１０は、ラック本体１２内に複数の基板１４を立てた状態で収容し、その流通路１２ａを通じて上から下方向へ洗浄液等の流体を流通させて基板１４の洗浄作業を行うものである。ラック本体１２内には両端保持部材１６及び下部保持部材１８が設けられており、基板１４の両側の縁辺部及び下側の縁辺部は、それぞれ両端保持部材１６及び下部保持部材１８により保持されている。また基板１４を収容した状態で、ラック本体１２内には上部保持部材２０が取り付けられ、この上部保持部材２０によって基板１４の上側の縁辺部が保持される。 （もっと読む）

【課題】無電解メッキ法により形成された各パンプにおいて、丈を所望の高さに維持させること、丈を一定化させること、および、電極パッドとの密着性を向上させることができるメッキ処理装置を実現する。
【解決手段】無電解メッキ装置６０は、半導体ウエハ１の回路形成面２０が、水平方向よりも上方を向くように、ウエハキャリア１１を傾斜させた姿勢で保持する角度可変チャック９と、角度可変チャック９より保持されているウエハキャリア１１の、浮上、沈降、および搬送を行う搬送アーム１０と、を備え、角度可変チャック９による、ウエハキャリア１１の傾斜角度θは、２０°以上かつ４０°以下となる。 （もっと読む）

【課題】基板との接触する部分が少なく、かつ基板のキズ、パーティクルの発生を防止することができる基板保持方法及び基板保持治具を提供することを目的とする。
【解決手段】基板外縁の片面側端部又は両面側端部を、錐体状保持部の錐面とのみ複数位置で接触させることによって、基板を錐体状保持部の底面と垂直方向に保持する基板保持方法、及び、対向する側板と、側板に両端が接続された３以上の支持部材とを有し、基板を側板と平行に保持する基板保持治具であって、支持部材は錐体状保持部を有し、基板外縁の片面側端部又は両面側端部を、錐体状保持部の錐面とのみ複数位置で接触させることによって、基板を錐体状保持部の底面と垂直方向に保持するものである基板保持治具。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部を保持する保持溝の内部を好適に洗浄することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】起立させた基板５０を収容する処理槽１０と、基板５０の周縁部５２を保持する保持溝２２を有し処理槽１０に対して昇降移動する基板昇降部（リフタ）２０と、処理槽１０に収容された基板５０を保持溝２２の溝壁面および溝底面から脱離させるとともに、基板５０の外周面５４が保持溝２２の溝底面に対向した状態で基板５０を保持する槽内保持部１２と、槽内保持部１２に保持された基板５０の周縁部５２と保持溝２２との間に、周縁部５２に沿って洗浄液Ｗを流通させる保持溝洗浄部３０と、を備える基板処理装置１００。 （もっと読む）

ウエハを支持デバイス（１７）から分離する分離方法において、ウエハは接着剤によって支持デバイス（１７）に固着されたウエハブロック（４０）を切断して形成され、ウエハ自体はその一側において支持デバイス（１７）に依然として接着されており、ウエハを伴う支持デバイス（１７）は、一定の運動面に沿って接着剤除去デバイス（４７）へと駆動される。支持デバイスは接着剤除去デバイス（４７）内に留まるとともに、接着剤除去容器（５５，５５ａ，５５ｂ）において可動壁部（５２ａ，５２ｂ）によって包囲される。接着剤除去容器（５５，５５ａ，５５ｂ）を形成してこれを閉塞した後、接着剤を除去するための溶剤が接着剤除去容器内およびウエハに対して供給され、接着剤を溶解し、そしてウエハを支持デバイス（１７）から除去する。
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【課題】温度変化が繰り返し加わっても正常な機能を維持することができる基板保持装置を提供すること。
【解決手段】本発明の基板保持装置１１は、補強部材３２が内挿されており、外周に形成された複数の溝３４により複数の基板１２を互いに接触させることなく保持する管状部材３３を備えている。そして、管状部材は、軸方向に延伸することにより線膨張係数を補強部材の線膨張係数と同程度となっている。このため、高温の薬液への浸漬によって生ずる温度変化に対しても管状部材と補強部材との間に大きな歪みが生じることはなく、管状部材が撓んだり管状部材を挟持するエンドプレートが変形したりすることもない。 （もっと読む）

【課題】処理装置の管理の負担を軽減する半導体ウェーハ用治具を提供する。
【解決手段】プレートに形成され、一方の面側が他方の面側よりも広いウェーハ収納開口部１ａと、一方の面側のうちウェーハ収納開口部１ａとその周辺を含む領域に設けられるテープ貼り付け領域とを有し、ウェーハ収納部１ａには半導体ウェーハ２０を取り付けた後に、テープ貼り付け領域にテープ１０を貼り付けて半導体ウェーハ２０を固定し、仕様に合わない半導体装置ウェーハの処理を可能にする。 （もっと読む）

【課題】洗浄液に含まれるパーティクルや金属不純物が半導体ウェーハの表面へ付着することを防ぎ、洗浄液に含まれるパーティクルや金属不純物が濯ぎ槽に貯留される濯ぎ液に混入することを防ぐことができる半導体ウェーハの洗浄装置及びその洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄装置１は、半導体ウェーハ８を洗浄する第１の洗浄液６が貯留される洗浄槽２と、洗浄槽２で洗浄された半導体ウェーハ８を濯ぐ濯ぎ液７が貯留される濯ぎ槽３と、洗浄槽２から半導体ウェーハ８を搬出して濯ぎ槽３へ搬送する搬送装置４と、搬送装置４により搬送される半導体ウェーハ８に第１の洗浄液６の温度に比して低い温度の第２の洗浄液１３を吹き付けるスプレーノズル５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基板上に薄膜を供給するためのヘッドを開示する。ヘッドは、少なくとも基板の幅である第一および第二の端部間に延びる本体組立体を含む。本体は、第一および第二の端部間に画成された主ボアを含み、主ボアは、リザーバの上側に、主ボアとリザーバとの間の画成された複数の供給部を介して接続される。本体は、さらに、リザーバの下側に接続され、出口スロットへ延びる複数の出口を含む。複数の供給部は、複数の出口より大きな断面積を有し、複数の供給部は、複数の出口より数が少ない。 （もっと読む）

【課題】処理槽の内部に形成される処理液の循環領域を狭小化して処理液の置換効率を向上させるとともに、複数枚の基板の間隙に処理液を良好に流入させる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】下段ノズル１４ｂの吐出孔１４１の向きを、底板１１ａの上面の法線Ｎに対して内側方向に５°以上かつ４０°以下の角度θに設定する。これにより、吐出孔１４１から吐出された処理液の流圧が過度に低減されることはなく、また、内槽１１の内部において大きな処理液の循環領域ＣＡが形成されることもない。したがって、基板Ｗの間隙に処理液を良好に流入させつつ、内槽１１の内部の処理液を効率よく置換できる。 （もっと読む）

【課題】処理槽内の洗浄液に浸漬された基板に対し超音波を照射して基板を洗浄する場合に、装置の構造を複雑化させることなく、基板の洗浄面全域に効果的に超音波を照射して洗浄効果の均一性を高めることができる装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留する処理槽１０の底部外面側に配設される超音波振動板２０と、複数の基板Ｗを保持部１６により支持して処理槽１０の内部に保持する基板保持具との間に、超音波透過性材料で形成された平板状をなす一対の超音波屈折部材２４を左右対称に配設し、支持手段により超音波屈折部材２４を鉛直面に沿った方向において揺動可能に支持し、揺動手段により超音波屈折部材２４を基板Ｗの洗浄処理中に揺動させて超音波屈折部材２４と超音波振動板２０とのなす角度を変化させる。 （もっと読む）

【課題】基板に割れや反りが発生することを抑制できる基板ケース及びそれを用いて基板に薬液処理を施す処理方法を提供する。
【解決手段】基板ケース１において、縦溝２０Ｇの一対の側面２０Ｌ，２０Ｍそれぞれは、配列方向に対して角度θ_２を有する。角度θ_２は、配列方向における基板Ｓの撓みに基づいて決定される。 （もっと読む）

【課題】一辺が１ｍを超える大型ガラス基板の加工後の洗浄において、大型ガラス基板の各洗浄、乾燥工程間の搬送経路が短く、広い設置スペースを必要としないコンパクトな構成の大型基板洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】薬液用スプレーノズル３１と、該ノズルの上部に配置され、上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツールを１つ以上３２、３３有し、且つ、１つ以上の上方に非接触式洗浄ツールを具備して対向する一対の接触式洗浄ツール３３の最上部に配置された対向する一対のシャワーノズル３４と、該ノズルの上部に配置された対向する一対のジェットノズル３５とを有する洗浄部３０と、洗浄部３０の上方に配置された対向する一対のエアーナイフ４１を具備する乾燥部４０と、大型基板９０を直立させて保持する基板保持搬送治具５０と、洗浄部３０の下方に配置された投入払出部６０とを有する。 （もっと読む）

【課題】ダイシングテープを劣化することなく、基板を支持するサポートプレートを基板から剥離することが可能な基板の処理方法を提供する。
【解決手段】本発明にかかる基板の処理方法は、薄板化され、一方の面１０ａに第１接着剤を介して第１サポートプレート１２が貼着され、他方の面１０ｂに第２接着剤を介して第２サポートプレート１４が貼着された基板１０から、サポートプレートを剥離する基板の処理方法であって、前記第２接着剤に対して不活性な溶剤を用いて前記第１接着剤を溶解し、第１サポートプレート１２をその自重によって基板から剥離させる剥離工程を含む。 （もっと読む）

【課題】基板保持ユニット及びこれを利用する基板処理装置が提供される。
【解決手段】前記基板保持ユニットは、ベース板及び前記ベース板に形成された保持部を含む。前記保持部は、二つの保持台及び複数の保持部材を含む。前記二つの保持台は、所定方向に沿って伸び、相互離隔する。前記複数の保持部材は、前記所定方向に沿って互いに離隔するように設けられ、それぞれが前記保持台を連結する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明は、処理液が満たされる処理槽に基板を浸漬して洗浄する装置及び方法に関する。本発明による基板処理装置は、各々の処理槽に具備され工程時に基板を支持するボートを有し、前記ボートは、工程時に基板の互いに異なる部分と接触して基板を支持する。本発明は、各々の処理槽のボートが支持する基板の接触部分を互いに相違するようにして、ある一つの処理槽で洗浄されなかった基板の接触部分が他の処理槽で洗浄されるようにすることによって、基板を支持する支持部材によって基板の洗浄効率が低下することを防止する。 （もっと読む）

【課題】枚葉状の可撓性基板を、処理中に抜け落ちることなく湾曲、撓み又はしわ等の発生を防止し、容易に固定出来る可撓性基板保持具及びこの可撓性基板保持具を使用した有機ＥＬパネルの製造方法の提供。
【解決手段】矩形状の可撓性基板を平面状態に保持する可撓性基板保持具であって、前記可撓性基板は前記可撓性基板保持具への取り付け孔を有し、前記可撓性基板保持具は、矩形枠状の枠体と、前記枠体に取り付け部材を介し片持ち状態で一体に形成された梁構造の梁部とを有し、前記枠体の前記取り付け部材と対向する辺の２隅に前記取り付け孔にそれぞれ挿通される第１係止ピンと、前記梁部の両端に前記取り付け孔にそれぞれ挿通される第２係止ピンとを有することを特徴とする可撓性基板保持具。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造において、使用済みの酸化膜等のマスクを、汎用の粘着フィルムを使用して、例えばフッ酸等のエッチング液を微粒子化して除去することができるミストエッチング方法を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハの表面にマイクロミストを噴霧してウエハ上の既存構造物をエッチングする際、ウエハの表面に露出した、先行するエッチング工程において耐エッチング性を有するマスクとして使用されたマスキング材を既存構造物として選択し、半導体ウエハの表面に形成された回路等の機能素子を粘着フィルムからなる保護材で少なくとも被覆し、かつエッチング液を微粒子化し不活性ガス中に霧状に分散させることによって形成されたマイクロミストを使用するように構成する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光装置において基板の裏面の内側への液体の侵入を防止する。
【解決手段】露光装置は、原版のパターンを投影光学系および液体を介して基板に投影して該基板を露光する。露光装置は、基板を保持する基板チャックを備える。基板チャックは、基板１２の裏面における外周部に向けて気体を噴射する噴射口５０を含む。 （もっと読む）

【課題】 簡単且つ短時間で製造することができるとともに、省スペース化に寄与し、更には、半導体ウェハ等の板状体の破損防止に有用となる板状体の支持部材を提供すること。
【解決手段】 円弧状の曲面となる外周面１４及び内周面１５と、外周面１４側に開放し、半導体ウェハＷの周縁の一部分を挿入可能な支持溝１９とを備えて支持部材１２が構成されている。外周面１４は、周方向両端側から同方向中央に向って次第に張り出す形状をなす。支持溝１９は、その延出方向両端側及び外周面１９側が開放するように、周方向に沿って形成され、半導体ウェハＷが挿入されたときに、延出方向の両端側に向って次第に前記周縁から離れる円弧状に設けられている。 （もっと読む）