改良されたウェハー・ツー・ウェハーボンディング方法は、上側ウェハー及び下側ウェハーを位置合わせすること、及び単一の点において終端するポートを通して加圧ガスを流すことにより上側ウェハーの単一の点に圧力を加えることによって、その単一の点において結合を開始することを含む。ガス圧を制御することによって、かつ／又は下側ウェハーが上側ウェハーに向かって上方に動く速度を制御することによって、結合フロントが、位置合わせされた、向かい合って配向されたウェーハウェハー表面にわたって、設定された径方向速度で径方向に伝搬し、２つのウェハー表面を完全に原子接触させる。 （もっと読む）

【課題】ウエハの引っ掻き傷や粒子による汚損を最少にして半導体ウエハを確実に移送し得る試料把持用端部エフェクタを提供すること。
【解決手段】光源、及び受光部に作動するように連結された本体を有する端部エフェクタを設け、前記光源、及び受光部は離間するそれぞれの光源光路開口、及び受光路開口を有し、これ等開口の間に光透過路に沿って光ビームが伝搬し、これ等光ビームが既知のビーム形状であるように前記光源光路開口、及び受光路開口の寸法を定め、前記試料と本体との空間を狭くするため、これ等試料と本体との間の相対運動を与え、前記相対運動を与えることに組み合わせて、前記光透過路に交差するように前記試料を位置決めする。 （もっと読む）

基板を基板支持体または実験的に判定された位置と軸方向に位置合せするステップを含む平面基板の急速熱処理のための方法および装置について記載される。方法および装置は、基板と基板支持体の相対的な向きを判定するセンサシステムを含む。
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【課題】走査露光装置において基板の表面位置を計測する際の計測対象ポイントの間隔をより小さくすることができる技術を提供する。
【解決手段】複数の計測ポイントで基板の表面位置を計測する計測器を有する走査露光装置は、前記複数の計測ポイントが並んだ方向である配置方向と前記基板の走査方向とが直交しない状態で前記基板の表面位置を前記計測器に計測させる制御部を備える。前記計測器による計測結果に基づいて前記基板の露光が制御される。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】フォーカス検出に要する時間の短縮に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】物体面に配置されたレチクルのパターンを像面に配置された基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記基板を保持するステージに配置された位相シフト型のマークと、前記物体面又は前記物体面と光学的に共役な位置に配置され、前記投影光学系を介して前記マークの像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子で撮像された前記マークの像のうち一対のエッジ部によって形成されるエッジ像の間隔に基づいて、前記マークの前記投影光学系の光軸方向の位置を算出する算出部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】基板収容容器を、確実に精度良く、載置台上に載置可能な基板収容容器およびその位置決め構造を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る基板収容容器１０は、載置台２００上に水平に載置、位置決めされ、その内部に基板Ｗが収容され、基板収容容器１０の、載置台２００の載置面２０１に載置される載置部１５に、先端が載置面２０１と平行な平坦面３１１に形成された突起部３１を少なくとも３つ設けると共に、漏斗状の凹部３２を少なくとも２つ設け、各突起部３１の平坦面３１１を載置面２０１に当接させ、平面同士を面接触させるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】半導体チップのピックアップに要する時間を短くすることができる半導体チップのピックアップ方法を提供する。
【解決手段】半導体チップＣＰが貼付けられた貼付領域と、貼付領域を囲む囲繞領域とを有するダイシングシートＤＳが準備される。囲繞領域を固定しつつ貼付領域を介して半導体チップＣＰが突き上げられる。半導体チップＣＰが突き上げられる際、半導体チップＣＰの外周部の変位に関する測定に基づいて、半導体チップＣＰの外周部とダイシングシートＤＳとの間の剥離が検知される。剥離が検知された後に、ダイシングシートＤＳから半導体チップＣＰが分離される。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で基板移載装置による基板の移載が行い易い基板搬送設備を提供する。
【解決手段】収納容器２を、基板移載用の開口が形成され且つ内部に基板を複数枚収納する容器本体４１と、容器本体４１に対して着脱自在で容器本体４１に装着した状態において開口の全面を閉じる蓋部材４２とを備えて構成し、容器搬送手段１１１を、収納容器２を基板移載位置に下降移動させて搬送するように構成し、容器搬送手段１１１による収納容器２の基板移載位置への下降移動途中において蓋部材４２の被支持部１１９を受け止め支持して蓋部材４２を容器本体２から離脱させる受け止め支持体１２２を設ける。 （もっと読む）

【課題】液体の漏洩や浸入を抑えることのできる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって、基板を露光する。露光装置は、基板を保持する基板ホルダを有し、基板ホルダに基板を保持して移動可能な基板ステージと、基板ホルダに基板もしくはダミー基板が保持されているか否かを検出する検出器と、検出器の検出結果に応じて、基板ステージの可動領域を変更する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】例えば半導体素子製造用の各種基板を収容する被搬送物を、ポートとの間で移載する搬送システムにおいて、移載用位置のズレ量を検出する。
【解決手段】搬送システム（１００）は、被搬送物（９）が所定位置に載置されるポートとの間で、被搬送物を移載可能であると共に、被搬送物を保持可能である搬送本体部（２０）と、搬送本体部が搭載されており、天井に敷設された軌道に沿って走行可能であると共に停止可能な走行部（１９）と、走行部がポートに対応する停止位置に停止した際に、所定位置に対面するように被搬送物の代わりに搬送本体部に保持され、ポートを撮像し、ポートに係る距離画像を出力する距離画像手段（１０）と、出力された距離画像に基づいて、走行部が停止位置に停止した際における所定位置に対する搬送本体部の移載用位置のズレ量を検出するズレ量検出手段（２５）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 レーザ干渉計による位置計測に関して、基板を保持する２つのステージの固体差を許容できる。
【解決手段】 基板を保持して移動する第１ステージと、基板を保持して移動する第２ステージと、第１ステージおよび第２ステージのうち選択された一方のステージに保持された基板上のアライメントマークの位置を計測する計測ステーションであって、一方のステージの位置を計測する第１レーザ干渉計を含む計測ステーションと、計測ステーションで計測された位置に基づいて一方のステージに保持された基板を露光する露光ステーションであって、一方のステージの位置を計測する第２レーザ干渉計を含む露光ステーションと、を有する露光装置であって、第１レーザ干渉計および第２レーザ干渉計の少なくとも一方に関し、第１ステージおよび第２ステージのうちいずれの位置を計測するかに応じて、計測光と参照光の相対位置関係を調整する調整手段を含む。 （もっと読む）

【課題】露光スキャン中の加速で誘起された位置センサの変形によってもたらされる誤差を克服するシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置におけるデバイス製造方法は、基板上の複数の位置を求めることを含む。測定基板上のこれら複数の位置を第１の方向へスキャンして、測定基板の基板レベルの第１の基板マップを求める。測定基板上のこれら複数の位置を第２の方向へスキャンして、測定基板の基板レベルの第２の基板マップを求める。第１および第２の基板マップを用いて、測定基板表面レベルの差の情報を含む差マップを作成する。 （もっと読む）

【課題】ステージ上への被処理基板の載置を、ステージから昇降動作可能に設けられたリフトピンを介して行う基板処理装置において、タクト時間の短縮化を図り、生産効率を上げること。
【解決手段】基板（Ｋ）を載置するステージ（３）と、ステージに形成された貫通孔（３３）から昇降動作可能に設けられ且つ先端部で基板を支持可能なリフトピン（４１）と、ステージの上方の搬入位置（Ｐ２）に供給された基板をステージ上に載置するようにリフトピンを駆動制御するピン駆動制御部（４３，１０）とを備える基板処理装置（１）において、ピン駆動制御部は、リフトピンを上昇させることにより、搬入位置に位置する基板を、その先端部で支持して、搬入位置よりも高い位置（Ｐ３）に保持させた後、リフトピンを下降させることにより、ステージ上に載置するように駆動制御する。 （もっと読む）

【課題】タクトの短縮化をより確実に実現可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】基板を搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する複数の塗布部とを備える塗布装置であって、前記基板搬送部は、基板搬送方向の一方の端部に前記基板を搬入する基板搬入領域を有し、前記基板搬送方向の他方の端部に前記基板を搬出する基板搬出領域を有し、複数の前記塗布部は、少なくとも隣接する２つの塗布部間の距離が前記基板の前記基板搬送方向の寸法よりも大きくなるように前記基板搬入領域と前記基板搬出領域との間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】 押印装置における処理能力の改善。
【解決手段】 基板チャックと、基板チャックが固定され且つＸＹ面に平行に移動可能なステージとを有し、基板チャックに保持された基板上のレジストにモールドを押し付けてレジストのパターンを基板に形成する押印装置であって、ＸＹ面に平行な方向には剛性を、ＸＹ面に垂直な方向には弾性をそれぞれ有し、且つ基板チャックをステージに固定するフレクシャを有するものとする。 （もっと読む）

【課題】ゲート弁の動的挙動情報により故障予知を事前に行い、動作異常による製品不良を未然に防止する。
【解決手段】ウエハが搬入搬出される負圧移載室と、負圧移載室に隣接する処理ユニットおよび予備室と、負圧移載室と処理ユニットおよび予備室との間に設置されたゲート弁４０とを具備するクラスタ装置において、ゲート弁４０に状態検出装置６０を設ける。状態検出装置６０には、ピストン４６と連動するフラップ６１と、ゲート弁４０の弁体４２が搬送口４１を完全に遮蔽する位置でフラップ６１を検出するフォトセンサ６２ａと、完全に開放する位置でフラップ６１を検出するフォトセンサ６２ｋと、フォトセンサ６２ａとフォトセンサ６２ｋとの間でフラップ６１をそれぞれ検出するフォトセンサ６２ｂ〜６２ｊとを設ける。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置情報を補正するための高精度な補正データを作成する。
【解決手段】予め作成された第１補正データを用いてエンコーダ及び面位置計測センサの計測結果に含まれる計測面に起因する誤差を補正し、補正された計測結果と対応する干渉計の計測結果との差から、第２補正データを作成する。第２補正データを用いることにより、第１補正データを用いて補正される誤差以外の残留誤差を補正することができる。また、残留誤差を補正する第２補正データを露光動作中のウエハステージの移動経路ＢＥから定められる直線区間Ｌ₁〜Ｌ₆に対して作成するので、簡便且つ高精度な補正データの作成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 干渉計から発射される測定波を反射させる反射体の面積を小さくすることができる技術を提供する。
【解決手段】 移動ステージ装置１０は、固定フレーム１２と第１〜第３フレームとステージ２６と第１干渉計１８と第１〜第３ミラーと移動量算出装置を備える。第１フレーム２４は固定フレーム１２に対してＸ軸方向に、第２フレームは第１フレーム２４に対してＹ軸方向に、ステージ２６は第２フレームに対してＺ軸方向に、それぞれ直線移動可能である。第１干渉計１８は固定フレーム１２に、第１ミラー３４は第１フレーム２４に、第２ミラーは第２フレームに、第３ミラー３８はステージ２６に、それぞれ取り付けられている。第１干渉計１８からＸ軸方向に発射されたレーザ光１８ａは、第１ミラー３４、第２ミラー、第３ミラー３８に反射されて、第１干渉計１８に入射する。 （もっと読む）