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Fターム[5F031JA17]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 検出 (10,411) | 手段(センサ) (4,555) | 1つの検出対象物に対し複数のセンサを設置 (451)

Fターム[5F031JA17]に分類される特許

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【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、開口、及び開口の内側で基板を保持可能な第1保持部を有する保持装置と、第1保持部に供給される前に、基板の外径を計測する計測装置と、計測された基板の外径と開口の内径とを比較する制御装置とを備えている。 (もっと読む)


【課題】高精度且つ安定な移動テーブルの位置計測を実現する。
【解決手段】 液浸露光方式の露光装置において、投影光学系PLとの間に供給される液体によってウエハW上面に液浸領域ALqが形成され、そのウエハWを保持する移動テーブル上に、複数のエンコーダヘッド60A〜60Dが配置されている。制御装置は、複数のエンコーダヘッドのうち、液浸領域外にあるエンコーダヘッド60A,60B,60Dを用いて、XY平面内における移動テーブルの位置情報を計測する。これにより、高精度且つ安定な移動テーブルの位置情報の計測が可能となる。 (もっと読む)


【課題】チャンバーを開放することなくチャンバー内の基板の有無を検出することができる熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理装置1は、チャンバー6内に収容した半導体ウェハーWにフラッシュランプFLからフラッシュ光を照射して加熱処理を行う。チャンバー6には半導体ウェハーWを支持するための支持ピン70が立設されている。支持ピン70は石英にて形成され、その基端部はチャンバー6の外部に突出しており、光ケーブル16を介して投光部11および受光部12と接続されている。フラッシュランプFLからフラッシュ光を照射した後、投光部11から支持ピン70に光を入射し、支持ピン70の先端から基端へと導かれる反射光を受光部12によって受光する。受光した反射光のレベルを判定することによってチャンバー6内の半導体ウェハーWの有無を検出して割れの発生を検知する。 (もっと読む)


【課題】エンコーダステージ位置測定の正確なキャリブレーションを実現する。
【解決手段】ステージのエンコーダ位置測定システムをキャリブレーションするためのキャリブレーション方法において、エンコーダ位置測定システムが、エンコーダ格子、ならびにエンコーダ格子と協働する、水平および垂直方向の位置感度を示すセンサヘッド出力信号をそれぞれがもたらす少なくとも2つのセンサヘッドを含む方法であって、a)センサヘッドがエンコーダ格子に対して、またはその逆に移動されるように、ステージを移動させること、b)移動させることの間に、2つのセンサヘッドによって、エンコーダ格子に対するステージの位置を測定すること、c)2つのセンサヘッドのセンサヘッド出力信号から垂直位置データマップを求めること、d)垂直位置データマップから水平位置データマップを計算すること、およびe)計算された水平位置データマップを利用することによって、エンコーダ位置測定システムをキャリブレーションすることを含む方法。 (もっと読む)


【課題】
走査型露光装置を用いる基板上のショット配列の精度を計測する計測方法において、より短時間でショットの配列精度を評価する計測方法を提供する。
【解決手段】
第1の露光においてウェハ上に転写されたショットA(i,j+1), A(i,j)と、そのウェハを90°回転させた第2の露光においてウェハ上に転写されたショットB(i,j), B(i+1,j)とを重畳させ、その重畳領域において、ショットA(i,j+1), B(i+1,j)に含まれる中実箱型マークとショットB(i,j)に含まれる中空箱型マークが重なり合い、ショットA(i,j)に含まれる中空箱型マークとショットB(i,j)に含まれる中実箱型マークが重なり合う。形成した重ね合わせマーク37〜42を、全ての重畳領域内のマークに関して計測し、これら重畳領域を形成する全てのショットの相対的な位置誤差および回転誤差を一括して演算する。 (もっと読む)


【課題】簡易な計算により半導体ウェハ等の回転体の中心位置を高精度に求めることのできる中心位置検出方法を提供する。
【解決手段】円板体の周縁に沿って配置された少なくとも3個のラインセンサを用い、これらのラインセンサにより検出される前記円板体のエッジ位置と円の方程式から求められる中心直交座標位置(a,b)を示す2次の有理多項式を、前記円板体の半径rに関与しない有理式に近似する。そしてこの近似式に基づいて、上記各ラインセンサによりそれぞれ検出される前記円板体の径方向のエッジ位置Sと、各ラインセンサの方位角θに基づいて予め求めた係数A,Bとの積和演算によって前記円板体の中心直交座標位置(a,b)を算出することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ロードポートにおいて、アダプタを使用することなくフープとオープンカセットを設置できるようにする。また、基板収納容器判別センサを設けることなくフープとオープンカセットを判別する。また、オープンカセットのスロット数およびスロットピッチがフープと同等な場合においても使用できるようにする。
【解決手段】容器のクランプ手段が、フープK1の底面を固定するときの位置よりもさらに下降し、オープンカセットK2がステージに搭載されたときにオープンカセットK2の底面と接触しない位置まで下降可能となるよう構成した。 (もっと読む)


【課題】ウエハ搬入精度の高い半導体処理装置を少ない部品点数及び低コストで実現する。
【解決手段】半導体処理装置は、ウエハ搬送機チャンバと、ウエハ処理チャンバと、ウエハ搬送機と、第1光センサであって、ウエハは搬入準備位置で第1光センサにより受光される光を部分的に遮断し、ウエハが搬入準備位置からウエハ処理チャンバへX軸線方向に移動するとき第1光センサにより受光される光を完全に遮断する位置に配置された第1光センサと、第2光センサであって、ウエハは搬入準備位置で第2光センサにより受光される光を遮断せず、ウエハが搬入準備位置からウエハ処理チャンバへX軸線方向に移動するとき第2光センサにより受光される光を部分的に遮断する位置に配置された第2光センサを含む。 (もっと読む)


【課題】面位置計測センサを用いて計測面の凹凸を計測し、その計測結果を用いて、同計測面の凹凸に起因するエンコーダの計測誤差を補正する。
【解決手段】X干渉計127、Y干渉計16を用いて位置を監視しながらステージWSTを移動させ、面位置計測センサ72a〜72dを用いてステージWST上面に設けられたYスケール39Y,39YのZ位置を計測する。ここで、例えば、面位置センサ72a,72bの計測結果の差より、Yスケール39YのY軸方向の傾きが得られる。Yスケール39Y,39Yの全面について傾きを計測することにより、それらの2次元凹凸データが作成される。この凹凸データを用いて、面位置計測センサの計測誤差を補正するとともに、同じYスケール39Y,39Yを走査するYエンコーダヘッド65,64の計測誤差も補正する。 (もっと読む)


【課題】温調後の基板を搬出する際に、基板に温度勾配を生じさせることを抑制する。
【解決手段】基板Wを所定温度に温調する温調部CPから温調された基板Wを搬出する搬送装置であって、温調された基板Wを接触支持する支持部CTと、基板Wを接触支持した支持部CTを駆動するための駆動力を発生する動力源205と、動力源205で発生した駆動力を支持部CTへ伝達するための伝達経路上に配置され、流体を収容する収容部204aとを備え、収容部204aは、その中に収容した流体を介して動力源205で発生した駆動力を支持部CTへ伝達する伝達機構204を備えている。 (もっと読む)


【課題】基板搬送装置の高さの低減、及び汚染物質等の進入の抑制を図る。
【解決手段】複数の基板Wが上下方向に並列的に収容される棚を有し、該棚の全段に相当する寸法の開口6aがその一側面に形成された基板容器6が設置される容器台42と、容器台42を、上下方向の任意の位置で位置決め可能に移動する駆動装置43と、容器6の棚の全段に相当する寸法よりも小さい範囲で上下方向に移動し、容器台42との間に設けられた隔壁44に形成される開口部44aと、開口部44aに対向する容器6の開口6aとを介して基板容器6の棚に対する基板Wの搬出又は搬入を行う搬送アーム20と、搬送アーム20の上下方向の移動範囲に対して容器台42の上下方向に位置を変更するように駆動装置43を制御する制御装置と、容器台42が位置を変更する際に、隔壁44に形成される開口部44aが外部へ開放されることを防止する防止手段47とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】 基板搬送系を使用しながら基板を装置内の設定配置位置に配置する制御を充分に高い精度で行える実用的な構成を提供する。
【解決手段】 エンドエフェクタ23に基板9を保持させてゲートバルブ室5を通して搬送チャンバー3から処理チャンバー1Dに基板9を搬送する際、エンドエフェクタ23を停止させずに、イメージセンサからなる検出器62によりエンドエフェクタ23上の二つのマーク25及び基板9の像を撮像して画像信号を信号処理部8に送る。ホールド回路81によりホールドされた画像信号を画像処理回路82が処理してエフェクタ基準点及び基板基準点の位置が算出され、正しい位置のデータと比較することでエンドエフェクタ23の位置ずれ及び基板9の位置ずれが求められる。位置ずれを補正するように制御部20が動作し、基板9が設定配置位置に高精度に位置する。 (もっと読む)


【課題】 溶射セラミックスで形成されたステージはセラミックス層の気孔やマイクロクラックによってエアがリークしてステージの剛性が確保できないため、ステージの制御性能が低下していた。
【解決手段】 ガイド面がセラミックス溶射されたガイドおよびステージを有し、前記ガイドと前記ステージとの間のギャップをエアによる圧力と予圧マグネットによる吸引力とによって制御しながら前記ガイド面に沿って前記ステージを移動させる位置決め装置であって、前記ガイド面は、封孔処理された後に研磨されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板を正確かつ迅速に高密度で梱包することができる梱包方法を提供する。
【解決手段】梱包方法は、基板50に吸着可能な吸着部25を有し基板を吸着保持可能な搬送装置20を用い、鉛直方向に沿って延びる収納領域65へ、基板を収納する方法である。梱包方法は、基板の少なくとも一側領域に吸着部を吸着させ、基板を吸着保持する工程と、基板の反りを評価する工程と、鉛直方向に沿った上面視において基板が収納領域内へ位置するように、収納領域の上方へ基板を位置決めする工程と、基板を前記収納領域へ搬送する工程と、を備える。基板の反りは、一側領域の吸着部によって吸着された部分が鉛直方向に沿うようにして基板が保持されている状態で、評価される。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造工程で使用されるプラズマ装置に際して、チャンバー処理室内でウエハズレが発生した場合に、それを検知して修正する。
【解決手段】チャンバー処理室1にて、搬送アーム42によりウエハ2を搬送し、下部電極3上に載置する。このウエハ2を下部電極3に吸着させプラズマ処理し、処理完了後にウエハ2をデチャックさせる。その後、赤外線センサー16によってウエハ2の位置を確認する。その際に、赤外線センサー16が反応した場合、反応方向にウエハがズレていることが検知される。赤外線センサー16によりウエハズレを検知した場合、ウエハ位置フィードバックシステム44によって搬送アーム42にそのズレ方向とズレ量をフィードバックして、チャンバー処理室1に搬送アーム42を挿入し、ウエハ2を搬出する。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成により搬送ロボットに対して搬送対象ポイントまでのハンドの移動経路を自動的に教示することが可能な自動教示システムを提供する。
【解決手段】 自動教示システムは、第1の光学センサ72、第2の光学センサ74、記録手段および算出手段を実現するCPU50を備える。第1の光学センサ72および第2の光学センサ74は、搬送対象ポイントに対する相対位置が予め定められるように配置される。第1の光学センサ72は、ハンド20の水平方向の一端部を検出可能に構成される。第2の光学センサ74は、ハンド20の水平方向の他端部を検出可能に構成される。CPU50は、第1の光学センサ72および第2の光学センサ74によってハンド20の端部が検出された時におけるロボット座標系における座標値を記録するとともに、その座標値に基づいてロボット座標系における搬送対象ポイントの座標値を算出する。 (もっと読む)


【課題】液晶パネル用ガラス基板を高速かつ高精度に移動させて位置決め状態に載置することを可能とし、タクトタイムの短縮を図る。
【解決手段】ガラス基板Aを載置する載置面2aを有するステージ本体2と、その載置面2aから出没可能に設けられ、載置面2aから上方に突出させられた状態で、搬送されてきたガラス基板Aを上端に載置する複数のリフトピン3と、リフトピン3を昇降させるリフトピン昇降機構4と、リフトピン3を水平方向に移動させるリフトピン水平移動機構5と、リフトピン3上に載置されたガラス基板Aに対する基準位置からのずれ量を検出する位置検出部6と、検出されたずれ量に基づいて、リフトピン昇降機構5によりリフトピン3の上端が載置面2aまで下降させられる間に、ガラス基板Aを基準位置まで移動させるようにリフトピン水平移動機構5を制御する制御部7とを備える基板用ステージ装置1を提供する。 (もっと読む)


本発明は、基板背面のエッチング均一度と工程効率を高めるための基板ホルダ、基板支持装置、基板処理処置、及びこれを利用する基板処理方法に関する。本発明の基板ホルダは、基板の端が配置されるリング状の配置部と、前記配置部の下部面に連結されて前記配置部の下部面を支持する側壁部と、前記側壁部に形成された排気孔とを含む。本発明の基板支持装置は、電極部と、前記電極部の外縁部に設けられる緩衝部材と、前記緩衝部材上に位置され、基板の端を支持して基板を前記電極部から離隔させる基板ホルダと、前記電極部と前記基板ホルダを昇降させる昇降部材とを含む。本発明の基板処理処置は、チャンバと、前記チャンバ内に設けられる遮蔽部材と、前記遮蔽部材と対向して設けられる電極と、前記遮蔽部材と前記電極の間に設けられる基板ホルダとを含み、前記基板ホルダは基板の端が配置されるリング状の配置部と、前記配置部の下部面に連結されて前記配置部の下部面を支持する側壁部と、前記側壁部に形成された排気孔とを含む。 (もっと読む)


【課題】搬送アームに吸引保持パッドを支持するための支持手段を構成する複数の支柱が吸引保持パッドから離脱したことを検出する機能を供えたウエーハの搬送装置を提供する。
【解決手段】下面にウエーハを吸引保持する吸着面を有する吸引保持パッドと、吸引保持パッドを一端部に支持する搬送アームと、搬送アームの一端部に吸引保持パッドを懸垂状態で支持する支持手段とを具備し、支持手段は上端部に係止部を備え搬送アームの一端部に設けられた複数の挿通穴にそれぞれ挿通して配設され下端が吸引保持パッドの上面に接合される複数個の支柱と、複数個の支柱にそれぞれ遊嵌され該吸引保持パッドと搬送アームを離反する方向に附勢する複数個のコイルばねとからなっているウエーハの搬送装置であって、支持手段の複数個の支柱が吸引保持パッドから離脱したことを検出する支柱離脱検出手段を具備している。 (もっと読む)


【課題】基板を処理する自動システムの基板ミスアライメントを改善する。
【解決手段】自動処理システムは、基板を処理するようにされた真空チャンバ18と、チャンバ内に置かれ、基板が処理されている間にチャンバ内で移動するようにされ、基板を支持するようにされた基板支持部と、基板支持部に隣接するピンと、基板が処理されている間にチャンバの中での物理的状態の変化を検出するようにされた検出器であって、ピンに結合されると共に前記支持体が移動するときに前記ピンの振動を検出するようにされた振動検出器と、前記ピンの検出された前記振動から背景振動を表すノイズ信号をフィルタするようにされたノイズフィルタとを有する検出器とを含んでいる。 (もっと読む)


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