【課題】 積層された半導体ウエハと保護シートとを取り違えることなく吸着して搬送することができるようにする。
【解決手段】 可撓性アーム２６の先端部下面で保護シート２２を吸着して持ち上げる。この場合、保護シート２２の重さは１〜２ｇと比較的小さい。このため、保護シート２２を持ち上げた可撓性アーム２６の撓み量は比較的小さい。一方、可撓性アーム２６の先端部下面で半導体ウエハ２３を吸着して持ち上げた場合には、半導体ウエハ２３の重さが保護シート２２の重さの数十倍とかなり大きいので、可撓性アーム２６の撓み量は比較的大きい。可撓性アーム２６の撓み量は歪みゲージ２７で検出される。そして、半導体ウエハ２３と保護シート２２との重さの相違から、今、可撓性アーム２６で持ち上げているものが保護シート２２および半導体ウエハ２３のいずれであるか判別される。この後、保護シート２２または半導体ウエハ２３を吸着部材で吸着して別の箇所に搬送する。 （もっと読む）

【課題】レーザー測長系によるチャックの位置検出を中断させることなく、基板をチャックに対してθ方向の回転が無い姿勢でチャックに搭載する。
【解決手段】基板１をチャックへ搬送する前に、基板１を温度調節装置５０に搭載して基板１の温度を調節する。温度調節装置５０に基板１をθ方向へ回転する回転機構８０を設け、温度調節装置５０に搭載された基板１のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、基板１を温度調節装置５０からチャック１０へ搬送する前に、基板１をθ方向の傾き分だけ逆方向へ回転して、基板１のθ方向の傾きを補正する。基板１をチャック１０に搭載する前にチャック１０をθ方向へ回転する必要がないので、レーザー測長系によるチャック１０の位置検出が中断されない。 （もっと読む）

【課題】基板収納容器内の基板収納状態を正確、かつ瞬時に判別することが可能な基板の収納状態検出方法、基板収納容器、および基板の収納状態検出システムを提供する。
【解決手段】基板を載置するための左右一対の支持リブを内部に複数段備える基板収納容器に収納された基板の収納状態検出方法において、それぞれの前記支持リブには載置した基板の荷重を検知する荷重センサが前記基板収納容器の前後方向に複数備えられ、前記荷重センサが検出したセンサ値に基づき、前記基板の収納状態を検出する。 （もっと読む）

【課題】
位置合わせ測定機構を提供すること。
【解決手段】
位置合わせ機構は、広帯域光源と光学系と検出器に接続されたプロセッサを有する。検出器を有する。広帯域光源は、第１及び第２の波長範囲を有する放射ビームを発生する。光学系は、発生された放射ビームを受け取り、位置合わせビームを生成し、そのビームを対象物上に配置されたマークに向け、マークから戻ってきた位置合わせ放射を受け取り、その位置合わせ放射を送り出す。検出器は、その位置合わせ放射を受け取り、対象物上のマークの像を検出し、前記第１及び第２の波長範囲にそれぞれ関連付けられた第１及び第２の位置合わせ信号をそれぞれ生成する。プロセッサは、該位置合わせ信号を受け取り、信号品質表示パラメータを使用して該位置合わせ信号の第１及び第２の信号品質をそれぞれ決定し、その信号品質に基づいて位置合わせマークの位置を計算する。 （もっと読む）

【課題】フォークに光センサの配線をすることなくワークの有無を検知することができる移載機を提供すること。
【解決手段】屈伸可能に連結された第１アーム１及び第２アーム２を左右に１対配設し、第１アーム１の基部をそれぞれ駆動軸３に接続するとともに、第２アーム２の先端部でフォーク４を支持し、各アーム１、２の屈伸によりフォーク４を進退するようにした移載機において、フォーク４上のワークＷの有無を検知する光センサ１０を移載機本体７に設けるとともに、フォーク４上のワークＷの有無によって開閉する遮光板１２と、その作動機構１３からなるシャッタ機構を有するミラー１１を配設し、光センサ１０の光をミラー１１に反射させることによりワークＷの有無を検知できるようにし、かつ、光センサ１０をミラー１１が通過する経路から外れた位置に取り付ける。 （もっと読む）

【課題】
厚さの異なる基板が露光装置内に搬送された場合において、基板ステージのＺ方向の調整にかかる時間を減少させ、露光装置のスループットを低減させない基板搬送システムを提供する。
【解決手段】
厚さが異なる複数のトレイ（２）を収納する収納部（１３）と、搬送される基板（１）の厚さを測定する測定部（１９）と、測定された厚さに基づいて、前記厚さに対応するトレイ（２）を前記複数のトレイ（２）から選択し、選択されたトレイ（２）に前記基板（１）を載置するためのユニット（９）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高い信頼性を持って迅速に相対ティーチングができるようにした搬送ロボットの相対ティーチング方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｓをロボットハンド１３にて支持した状態で同一平面内を旋回及び伸縮動作させ、前記旋回方向に沿って配置された複数の処理室Ｌ、Ｐ１乃至Ｐ３間で基板を搬送する搬送ロボット１に対し、その搬送動作を教示するとき、いずれか一の処理室に対して伸縮動作する際に基準となる座標データを教示し、この座標データに基づいて他の処理室に対して伸縮動作する際に基準となる座標データを教示する。一の処理室における座標データを教示する際にその伸縮軌道データを取得し、他の処理室における座標データを教示する際に、前記一の処理室及び他の処理室への搬送ロボットの伸縮ストロークが相互に異なると、前記伸縮軌道データから前記ロボットハンドの位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板を冷却するにあたり、その基板の変形を抑えることができる基板冷却ステージを提供すること。
【解決手段】本発明の基板冷却ステージは、基板の裏面がその表面に接するかまたは近接する台座部と、基板を冷却するために前記台座部の表面を冷却する冷却手段と、前記台座部にて前記基板に接するかまたは近接する領域の全周に亘って、あるいはその周方向に沿った複数箇所に設けられ、上方外方側へ向かって傾斜するように伸びると共に基板の周縁を下方にガイドするための傾斜ガイド部材とを備えており、所定の温度になるまで放熱されていない基板が台座部に近接することが防がれるので、基板が急激に冷却されて変形してしまうことを抑えることができる。また、前記冷却手段の他にガスを供給して基板を冷却する場合、そのガス供給レシピを基板に形成されている膜に応じて設定する必要が無くなるので有利である。 （もっと読む）

【課題】自重で撓み変形する程度に薄型化されたウエハの周縁の位置を正確に計測し、ウエハ位置決めを正確な行うことができるアライメント装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハＷの外形以上の大きさを有する保持ステージ１と、保持ステージ１に載置されて吸着保持された半導体ウエハＷの周縁位置を光学的に検知する光センサ２とを備えている。保持ステージ１は、例えば、その周縁に載置された半導体ウエハＷの外周部に臨むスリット１０を上下に貫通して形成する。このスリット１０を上下から挟んで対向配備された投光器２ａと受光器２ｂとからなる透過型の光センサ２でスリット１０の部分で保持ステージ１から露出するウエハＷの周縁を計測する。 （もっと読む）

【課題】事前の煩雑な準備を必要とせずに、搬送面から浮上させて搬送方向に搬送される薄板の搬送状態を、インラインにより検出する。
【解決手段】浮上搬送装置により搬送される薄板Ｗの搬送面Ｓを、搬送方向の全体に亘って複数のカメラ３により撮影する。薄板Ｗの載置位置に載置されたターゲットＴの搬送面Ｓに対する相対位置を、カメラ３で撮影した薄板Ｗの写った画像の画像データから検出し、検出した相対位置から、ターゲットＴの載置位置における薄板Ｗの搬送面Ｓに対する接触状態を検出する。 （もっと読む）

【課題】デバイスケース内に収容したデバイスの散乱を防止可能なデバイス収容装置を提供する。
【解決手段】デバイスケースを水平移動させるデバイスケース移動手段を備えたデバイス収容装置であって、該デバイスケースの一方の側部の外側に固定的に設けられ、出射光の光路が該デバイスケースの上面から所定距離以内を通過するように位置付けされた発光部と、該発光部に対向して該デバイスケースの他方の側部の外側に固定的に設けられ、該発光部の出射光を受光するように位置付けられた受光部と、該受光部に接続されデバイスの該デバイスケース内への収容状態の正常と異常を判定する判定手段とを含むデバイス収容状態検出機構１１０を更に具備し、該デバイスケース移動手段によって該デバイスケースが該発光部の出射光の光路の下側を移動する際、該受光部の受光が遮断された場合に、該判定手段がデバイスの収容状態の異常を判定し異常信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】作業時間が遅延せずに、ウェーハを所望の厚さまで正確に研削する。
【解決手段】粘着フィルム（１１）を介してフレーム（３６）に保持されたウェーハ（２０）を吸着する吸着パッド（５１ａ）を具備し、吸着パッドはウェーハに対応する中央部分（５２ａ）と、中央部分周りにおける外側部分（５７ａ）とを含んでおり、外側部分は中央部分よりも下方に位置しており、さらに、吸着パッドを取囲んで支持する支持部材（５３ａ）と、支持部材に設けられていて吸着パッドの中央部分と同一表面の上面を有する突起（６１）とを具備するチャックテーブルが提供される。突起の高さがフレームの厚さ以上であるのが好ましい。また、吸着パッドが、中央部分と外側部分とを連結する傾斜部分（５４ａ）をさらに含むのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】複数の上記ウエハとこれらのウエハに接合された支持部材とを分離した後においてこれらのウエハの取扱いを容易にすることが可能な半導体ウエハ製造方法を提供すること。
【解決手段】互いに隙間を隔てて対向するように列をなした状態で各々の端縁ｗｂの一部が支持部材１に接合され、かつ、各々が面内方向において両側に位置する一対の側縁ｗａを備えた、半導体からなる複数のウエハｗを、支持部材１から分離する工程を有する半導体ウエハ製造方法であって、上記分離する工程は、複数のウエハｗを、一対の側縁ｗａにおいて一対の挟持部材２１，２２で挟持した状態で行われる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク等の基板を搬送し、基板処理を施して大量に生産する基板処理システムのスループット及び生産性の向上のため、各処理チャンバにおける処理時間（タクトタイム）を短縮する。
【解決手段】基板搬送装置は、ゲートバルブを介して連結されたチャンバと、前記ゲートバルブを開状態にして前記チャンバ間でキャリアを搬送路に沿って搬送する搬送機構と、前記キャリアが前記チャンバの停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づき前記ゲートバルブの閉動作を開始するよう制御する制御器とを有する。 （もっと読む）

【課題】搬送ロボットによるウェハの搬入および搬出に支障を来たすことなく、薄くて大きいウェハの位置合わせを適正に行うことが可能なウェハ位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】アライナ装置１０は、第１のベルヌーイチャック１２、第２のベルヌーイチャック１４、昇降機構６２、および回転機構６４を少なくとも備える。第１のベルヌーイチャック１２は、円板状を呈する。第２のベルヌーイチャック１４は、第１のベルヌーイチャック１２を収容可能な中空部を有する環状板状を呈する。昇降機構６２は、第２のベルヌーイチャック１４に対して第１のベルヌーイチャック１２を昇降させるように構成される。回転機構６４は、第１のベルヌーイチャック１２と第２のベルヌーイチャック１４とを同一方向に同一速度で回転させることが可能に構成される。 （もっと読む）

【課題】 画像処理によりマークの位置を検出する方法は、処理に時間を要するため、高周波の位置変動を捉えることができない。
【解決手段】 （ａ）移動する目標物を撮像すると共に、該目標物の加速度を測定する。（ｂ）前記目標物を撮像して得られた画像データに基づいて、該画像データが取得された時刻における該目標物の位置を求める。（ｃ）前記目標物の加速度に基づいて得られる位置情報と、前記画像データが取得された時刻における該目標物の位置とに基づいて、該目標物の位置の時間変化を求める。 （もっと読む）

【課題】最近の半導体製造では、装置の更なる薄型化によるコンパクト化とともに、配線パターンの更なる細密化、立体化が進み、プレートの昇降量についても制御可能なプレートチャック装置構造の要求が高まっていた。
【解決手段】ピン昇降機は、回転軸を中心に円周方向に回転する可動体と、該可動体と接続して可動体の回転運動を径方向の直線運動に変換する変換機構と、径方向に沿って傾斜面が形成されるとともに、変換機構に連結して径方向に往復運動するスロープ部と、傾斜面上を摺動または転動する係合部材を有し、該係合部材により鉛直方向にプレートを昇降するピン部を備えた昇降部とを有する。 （もっと読む）

【課題】事前の煩雑な準備を必要とせずに、搬送面から浮上させて搬送方向に搬送される薄板の搬送状態を、インラインにより検出すること。
【解決手段】浮上搬送装置１０により搬送される薄板Ｗに貼付したマーカ９を、搬送面Ｓの上方に配置した２台のカメラ３Ｌ，３Ｒでそれぞれ撮影したエリアＡの画像データから抽出し、その３次元位置座標値から薄板Ｗの３次元位置座標値（座標値群）を検出して、３次元位置座標値（座標値群）が既知である搬送面Ｓに対する接触の有無や接触箇所を、画像処理によって検出する構成とした。 （もっと読む）

【課題】窒素ガスパージに伴うウエハ位置ずれによるウエハ移載ミスを防止する。
【解決手段】ポッド１０とボートとの間でウエハ９を授受するウエハ授受ポートにポッド１０のドア１０ａを着脱してウエハ出し入れ口１０ｂを開閉するポッドオープナを設け、ウエハ出し入れ口２２を被覆する筐体６０を設け、筐体６０にはクロージャ収容室６１に窒素ガス６２を流通させる給気管６３、排気管６４を接続する。ポッドの開放時に窒素ガス６２をクロージャ収容室６１、ウエハ収納室１０ｃに吹き込み、窒素ガスパージする。その後、クロージャ４０でドア１０ａをウエハ出し入れ口１０ｂへ嵌入し、ドア１０ａでウエハ９群をウエハ収納室１０ｃ内に押し込み、窒素ガスパージによるウエハ位置ずれを解消させる。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】マスクを用いて基板に露光処理を行う露光装置であって、前記マスクを移動可能に保持するステージ装置と、前記ステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記ステージ装置の位置に関する情報を検出する光干渉装置と、前記光の光路周辺の空間の光屈折率を検出し、検出結果を用いて前記情報の補正を行う補正装置とを備える。 （もっと読む）