【課題】 大型の矩形基板の位置ずれや欠けなどの異常を確実に検出できる搬送室およびそのような搬送室を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 搬送装置５０のスライドピック５１３に基板Ｓを載置し、搬送室２０内からゲート開口２２ｄを介してプロセスチャンバ１０ｂへ搬入する際に、ゲート開口２２ｄに対応して搬送室２０内におけるその近傍に、基板Ｓとの相対的な位置関係が同じになるように基板Ｓの幅よりも狭い間隔で左右に配備された一対のセンサ７０，７０によって基板Ｓの両端部からそれぞれ５〜１０ｍｍ内側の部位に光線を照射し、その反射率または透過率から、基板Ｓの位置ずれや欠陥などの検出を行う。 （もっと読む）

【課題】エンコーダシステムを用いたステージを位置決めする場合、スケール間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する。
【解決手段】可動体に配置された複数のセンサと、構造体に取り付けられた複数のスケールとを有し、前記可動体の変位を検出することによって前記可動体の位置を計測する計測装置であって、前記複数のスケールは、第１方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第１スケールと、前記第１方向とは異なる第２方向における前記可動体の変位を検出するための２つの第２スケールとを含み、２つのセンサによる検出値とが等しくなるように前記可動体を前記第１位置から前記第２位置に移動させたときに前記２つの第１スケールに対向している２つのセンサによってそれぞれ検出される変位の間の差に基づいて、前記２つの第１スケールの間に存在する幾何学的誤差に起因する計測誤差を低減する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】スケール用のパターンが形成されたパターン形成面の法線方向の位置情報を高精度に計測する。
【解決手段】スケール体２８ｅは、Ｙスケール３９Ｙ₂が形成されたパターン板４ｅと、パターン板４ｅに設けられ、Ｙスケール３９Ｙ₂を覆うカバーガラス５と、カバーガラス５の表面に形成され、互いに異なる波長域の第１の光及び第２の光に対して波長選択性を有する波長選択膜７と、を備え、波長選択膜７を介してカバーガラス５を透過する第１の光の透過率は、カバーガラス５のみを透過する第１の光の透過率より低く、波長選択膜７を介してカバーガラス５を透過する第２の光の透過率は、波長選択膜７で反射する第２の光の反射率より高い。 （もっと読む）

【課題】基板の対する処理を高精度で行う。
【解決手段】 基板Ｐの下方には、基板Ｐの下面にエアを噴出する複数のエア浮上ユニット５０が配置され、基板Ｐは、概ね水平となるように非接触支持される。また、基板Ｐは、定点ステージ４０により被露光部位が下方から非接触保持され、その被露光部位の面位置がピンポイントで調整される。従って、基板Ｐに高精度で露光を行うことができ、かつ基板ステージ装置ＰＳＴの構成を簡単にすることができる。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 （もっと読む）

【課題】気化熱による温度変化を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板Ｐを保持して移動する基板ステージ２であって、保持された基板Ｐの周囲に設けられて液体ＬＱを回収する第２溝部４２と、第２溝部４２の底部４２ａに設けられ、第２溝部４２で回収した液体ＬＱを、第２溝部４２の外部に排出する排出孔４５と、液体ＬＱよりも比重の小さい材料で形成され、第２溝部４２に配置されて第２溝部４２に貯溜した液体ＬＱの液位に応じて浮沈することにより排出孔４５を開閉するフロート弁５１とを有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハの位置認識及び位置決めの精度を向上でき、信頼性を高めることができるようにすること。
【解決手段】位置認識装置１１は、半導体ウエハＷの端縁の位置を検出可能な複数のセンサａ１、ａ２、ｂ１、ｂ２を備えた検出手段１６と、半導体ウエハＷと検出手段１６とを直線方向に相対移動可能な移動手段１７と、検出手段１６の検出データから半導体ウエハＷの中心位置を算出可能な制御手段１８とを備えて構成されている。検出手段１６は、前記相対移動する直線方向に対して直交する方向に、所定間隔を隔てて少なくとも４か所にセンサａ１、ａ２、ｂ１、ｂ２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体ＲＳＴのＹ軸方向の位置情報を、干渉計１６ｙと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ（（２４Ａ，２６Ａ₁）、（２４Ｂ，２６Ｂ₁））とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をＹ軸方向に精度良く駆動する。 （もっと読む）

【課題】被搬送物を搬送先にまで高精度に搬送することができる搬送装置および搬送方法を提供する。
【解決手段】基板トレイ搬送装置は、基板３を載せた基板トレイ１７を搬送アーム２６によって把持し、載置台５まで搬送する。搬送アーム２６の先端部には、反射型光ファイバーセンサー２５を有している。搬送アーム２６は縁に到達する直前に減速する。その際、センサー２５は載置台５の縁を検出する。搬送アーム２６が減速しているので、センサー２５による縁位置の検出は安定化する。制御装置３７は、センサー２５による縁位置の検出結果に基づき、載置台５の縁から載置台５の中心までの距離と、基板トレイ１７からセンサー２５までの距離とを加えた距離だけ、載置台５の縁から搬送アーム２６を移動させるように、第一の移動機構２８を制御する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの搬送時において、エンドエフェクタにウェーハを載置している間に、エンドエフェクタに対するウェーハの載置位置を検出することができるエンドエフェクタ及びそれを用いたウェーハ搬送ロボット、並びにそれを備えたウェーハ搬送装置を提供する。
【解決手段】ウェーハを搬送するウェーハ搬送ロボットのアームに取り付けられウェーハを保持するエンドエフェクタにおいて、エンドエフェクタに対するウェーハの位置ずれを検出するために、エンドエフェクタのひずみを検出するひずみセンサを少なくとも１つ備えた。特に、ひずみセンサは３つ設けられ、そのうち１つのひずみセンサは、エンドエフェクタの中心線上に配置され、他の２つのひずみセンサは、中心線に対して互いに線対称となる位置に配置される構成とした。 （もっと読む）

【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動系により、アーム部材７１から移動体ＷＦＳのＸＹ平面に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対して計測ビームを照射して移動体のＸＹ平面内の位置を計測する第１計測系の計測結果に基づいて移動体が駆動される。この場合、アーム部材からグレーティングＲＧに計測ビームを照射する構成が採用されているので、ステージ定盤にエンコーダシステムを設ける場合とは異なり、移動体の駆動に起因する悪影響はない。従って、移動体を精度良く駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】
位置決め基準の異なる露光装置間での位置決めのエラーを防止し、プリアライメントのエラーによるダウンタイムを低減し、半導体製造工程における生産性を向上する露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】
基板の外周位置を検出する検出部と、前記検出部の出力にもとづいて前記基板の外周形状に関するデータを算出する算出部と、前記算出部の出力にもとづいて前記基板の位置を調整する調整部と、前記調整部によって位置調整された前記基板をステージ上に搬送する搬送部とを備える露光装置において、前記ステージ上で、基板に形成されたマークの位置を検出するマーク検出部と、前記マーク検出部の出力にもとづいて前記算出部の算出条件または算出方法を変更する変更部と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送する。
【解決手段】フィルム状基板Ｐを搬送するラダー式ステージ装置２８であって、フィルム状基板Ｐを支持するために、フィルム状基板Ｐの移動方向に直交する方向に長手方向が配置される複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌと、ロッド３０Ａ〜３０Ｌを閉じたループ状の軌跡に沿って連結するチェーン３２Ａ，３２Ｂと、チェーン３２Ａ，３２Ｂを介してそのループ状の軌跡に沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを移動する駆動モータ３６Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】安価で単純な機構で脆性物にストレスを与えず短いサイクルタイムで位置決めする脆性物位置決め装置を提供すること。
【解決手段】脆性物位置決め装置は、脆性物３０を支持する第１の球状駆動伝達手段１及び第２の球状駆動伝達手段２と、Ｘ軸Ｙ軸に対応して互いに９０°離れて並び各々第１，第２の球状駆動伝達手段１，２に加圧接触して回転力を付与する第１組、第２組のＸ軸駆動ローラー３，５及びＹ軸駆動ローラー４，６と、脆性物３０の縁部の接触または接近を検出して出力する複数の検出手段１１〜１６と、Ｘ軸駆動ローラー３，５及びＹ軸駆動ローラー４，６の回転量を制御して、脆性物３０のＸ軸、Ｙ軸方向の移動及びＺ軸回りの回転の複合動作を行う制御手段２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、カセットに収納された半導体ウエハ等の基板を所定の場所に移載する基板搬送装置に関し、カセット内へのハンド部の挿入時に、変形しているウエハにハンド部が接触するのを防止することを目的とする。
【解決手段】 カセットに上下方向に間隔を置いて水平に収容される基板の先端の上下位置を検出する検出手段と、前記基板の間に水平に挿抜され、下側の前記基板までの距離を測定する距離センサを備え、上面に上側の前記基板を保持する保持部を有するハンド部を備えた搬送手段と、前記検出手段および前記距離センサの検出情報に基づいて前記搬送手段を駆動し前記ハンド部を前記基板の間に挿抜させる制御手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、ウェハのウェハホルダに対する着脱、ウェハホルダの各装置に対する着脱を正確、高速かつ安定的に行うことが困難になってきている。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダを載置するステージとを含む半導体処理装置であって、基板ホルダは、基板を保持するための静電吸着部と、基板を保持する保持面に設けられた貫通孔とを備え、ステージは、一端の開口が基板ホルダを載置する載置面において貫通孔と接続される第１吸引導管と、一端の開口が載置面において貫通孔とは接続されずに基板ホルダに対向する第２吸引導管とを備える。 （もっと読む）

【課題】
真空処理チャンバ内の寸法を真空処理に必要な寸法まで縮小でき、しかも基板や基板を載せるトレーを操作しやすく、基板又は基板を載せたトレーを制御可能に保持できる真空処理装置用基板クランプ装置を提供する。
【解決手段】
真空処理チャンバ内で処理されることになる基板又は基板を載せたトレーを基板又は基板を載せたトレーの周縁部の少なくとも二つの相対した部位に対して係合する少なくとも二つのクランプ本体を設け、各クランプ本体に接続されて該クランプ本体を昇降させる少なくとも一つの昇降ピンンにより基板又は基板を装着したトレーを基板ホルダー上に独立して調整可能な押圧力で保持する構成される。 （もっと読む）

【課題】 多軸ワーク移載装置のテーブルの停止位置決め精度を向上する方法と装置を提供する。また、当該発明によって、移載装置の制御精度を高め、溝加工したテーブルの溝と搬送装置からのワークを搭載したフォークの幅とのはめあい精度を高めチャックピンからなるテーブルに付随の支柱を不要とする。
【解決手段】 ワーク移載用多軸ワーク移載装置において、設定された各移動軸の停止位置にて、停止する位置を設定するセンサが、各停止位置ごとに２個配備された停止位置用フォトセンサを用いる。フォトセンサーは、ライトＯＮ制御とダークＯＮ制御を用い、且つ両制御のＡＮＤ判定処理を含めて位置決めする。当該位置決め技術を溝加工したテーブルの溝幅とフォークの幅の寸法差を制御可能な範囲の最小幅とする精度向上に適用する。 （もっと読む）

【課題】大量の気体を必要とすることなく、非接触で物品を保持できるようにする。
【解決手段】物品保持装置２０は、ガラス基板Ｓに対向可能な物品対向部４２及び内部に設けられた空間を有するケース２２と、少なくとも１つのファン２４と、吸い込み口２６と、吹き出し口２８と、を備えている。ファン２４は、ケース２２の空間に配置され、気体を吸い込んで吹き出す。吸い込み口２６は、物品対向部４２に配置され、ファン２４の吸い込み側と連通する。吹き出し口２８は、吸い込み口２６と異なる位置で物品対向部４２に対向して配置され、ファン２４の吹き出し側と連通する。 （もっと読む）